Princpios de Eletroqumica

Lei de Faraday

FEM de pilhas
O fluxo de eltrons do nodo para o ctodo espontneo.
Os eltrons fluem do anodo para o catodo porque o catodo tem uma
energia potencial eltrica mais baixa do que o anodo.
A diferena potencial: a diferena no potencial eltrico. medida
em volts.
Um volt a diferena potencial necessria para conceder um joule de
energia para uma carga de um coulomb:

1J
1V
1C
A fora eletromotriz (FEM) a fora necessria para empurrar os
eltrons atravs do circuito externo.
Potencial de clula: Ecel a fem de uma clula.
Para solues 1 mol/L a 25 C (condies padro), a fem padro
(potencial padro da clula) denominada Ecel.
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FEM de pilhas
Os dados eletroqumicos so convenientemente colocados em uma
tabela.
Os potenciais padro de reduo, Ered so medidos em relao ao
eletrodo padro de hidrognio (EPH).
O potencial de uma clula pode ser calculado a partir de potenciais
padro de reduo:

Potencial de
Eletrodo

Potencial de
Eletrodo

Clulas galvnicas

Os potenciais padro de reduo devem ser escritos como as

reaes de reduo:
Zn2+(aq) + 2e- Zn(s), Ered = -0,76 V
A variao do coeficiente estequiomtrico no afeta o Ered.
Portanto:
2Zn2+(aq) + 4e- 2Zn(s), Ered = -0,76 V.
As reaes com Ered > 0 so redues espontneas em relao ao
EPH.
As reaes com Ered < 0 so oxidaes espontneas em relao
ao EPH.
Em uma clula (espontnea) galvnica o Ered(ctodo) mais
positivo do que Ered(nodo).
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Agentes oxidantes e redutores

Isto , o F2 oxidar o H2 ou o Li; o Ni2+ oxidar o Al(s).

Clulas Voltaicas

PILHAS

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PILHAS

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Nomenclatura Eletroqumica
A seguir est descrita a nomenclatura hoje utilizada no
estudo da eletroqumica
a)

ELETRODOS: So assim chamadas as partes

metlicas que esto em contato com a soluo
dentro de uma clula eletroqumica.

b)

NODOS: So os eletrodos pelo qual a corrente

eltrica que circula numa clula ENTRA na soluo.

c)

CTODOS: So os eletrodos pelo qual a corrente

eltrica que circula numa clula DEIXA a soluo.

d) ELETRLITOS: So assim chamadas todas as solues

que CONDUZEM a corrente eltrica.
e) ONS: So assim chamadas as partculas carregadas
que se movimentam na soluo.

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PILHA DE DANIELL

13

PILHA DE DANIELL
reao de oxidao (Zn0)slido (Zn+2)aq + 2e
reao de reduo (Cu+2)aq + 2e(Cu0)slido
reao global (Cu+2)aq + (Zn0)slido(Zn+2)aq +
(Cu0)slido

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Clula Eletroqumica
No eletrodo de Zn ocorre a seguinte reao:

No eletrodo de Cu ocorre a seguinte reao :

Reao Global :

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RESUMO

Clulas voltaicas

Regras para clulas voltaicas:

1. No nodo os eltrons so produtos (oxidao).
2. No ctodo os eltrons so reagentes (reduo).
3. Os eltrons no podem nadar.

Os eltrons fluem do nodo para o ctodo.

Conseqentemente, o nodo negativo e o catodo

positivo.

Os eltrons no conseguem fluir atravs da soluo, eles

tm que ser transportados por um fio externo. (Regra 3.)

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Leis de Faraday

1 Lei de Faraday: A quantidade de produto formado em um

eletrodo pela eletrlise proporcional a quantidade de eletricidade
que passa pela soluo.

2 Lei de Faraday: As quantidades de diferentes produtos formados

em um eletrodo pela mesma quantidade de eletricidade so
proporcionais a suas massas moleculares ou atmicas divididas
pela variao do nmero de oxidao durante o processo
eletroltico.

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Leis de Faraday
Para que qualquer reao eletroqumica ocorra numa clula, os
eltrons devem passar atravs de um circuito conectado com os
dois eletrodos.
Por esta razo, a corrente I se torna uma medida conveniente da
taxa de reao na cela enquanto a carga Q, que passa durante
um perodo t, indica a quantidade total de reao que ocorreu.
Assim, a carga necessria para a converso de m moles de um
material em produto, em um a reao com n eltrons (onde n o
nmero de cargas envolvidas na reao), perfeitamente calculada
usando-se as Leis de Faraday:

Q = Idt = mnF
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Leis de Faraday

Q = Idt = m n F

F= 96.500 C
m = nmero de moles depositados
P = peso do material depositado
A = peso atmico
n = nmero de eltrons cedidos ou recebidos
O nmero de mols do material depositado obtido pela razo entre o
peso do material depositado (P), e seu peso atmico (A).

O Faraday por definio, a carga necessria para se depositar um

equivalente eletroqumico de um material, ou seja m/n.
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Exemplo
Calcular o peso de cobre a ser depositado numa rea (a) de 100 cm 2,
a uma densidade de corrente (I) de 0,05 A/cm 2, a partir de uma
soluo de cobre cido (CuSO4 + H2SO4). Qual a espessura (L) do
depsito 15 m, aps a deposio de 15 minutos?
ACu = 63,54 g/mol

DCu= 8,9 g/cm3

Dados:

Cu+2 + 2e-

Cu(s)

Densidade de corrente (I) = 0,05 A/cm2

0
i=5A

Q = Idt = m n
F

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Soluo:

Substituindo os valores:

P = 1,48 g

Clculo da espessura:
Densidade: DCu= 8,9 g/cm

P
D
V

P = D xL x a

= 1,66 mm
-3

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EXEMPLOS
a) Clculo do Peso do Depsito
Est sendo depositado cobre, a uma densidade de corrente de 2
A/dm2 sobre uma rea total de 25 dm2, a partir de um banho
cido de cobre. A corrente utilizada de 50 A e a deposio
dura 30 min. Ento, o peso do cobre, P, depositado obtido
utilizando-se a equao:

em que "n"=2 (Cu2+), de forma que se obtem P = 29,63g.

b) Clculo da Espessura do Depsito
Qual a espessura do depsito obtido, L, no exemplo acima.

onde "a" a rea depositada e "d" a densidade do material

depositado.O cobre tem uma densidade d=8,93 g/cm3.
Aplicando-se a equao acima obtem-se que L = 13,27m ( 1m
= 1x10-4cm).

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4- EFICINCIA DA CORRENTE
Num processo de deposio, espera-se que toda a corrente aplicada
seja utilizada para a eletrodeposio do material de interesse. Se uma
frao desta corrente for utilizada por algum outro processo (em
paralelo) ela considerada desperdiada. Infelizmente, de uma
maneira geral isto ocorre. Por exemplo, na deposio do nquel, uma
certa quantidade de hidrognio reduzida juntamente com o nquel. O
mesmo ocorre com o cobre e outros metais. Um caso mais grave a
deposio do cromo em que a maior parte da corrente gasta na
reduo de hidrognio levando a uma eficincia de 12 a 16 % de
deposio de cromo. Desta forma definiu-se a eficincia de corrente na
eletrodeposio, ou eficincia catdica, como sendo a porcentagem da
corrente total que utilizada na deposio catdica do metal, ou
medindo-se a carga envolvida no processo, isto :

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Espontaneidade de reaes REDOX

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26

27

28

29

30

31

32

33

34

35

I. A eletrlise, processo no espontneo, permite a

obteno de metais que no so encontrados
livres na natureza.

a) Eletrlise gnea
Importante na obteno de metais da famlia A
como por exemplo, Na, Mg, Al e outros.

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Eetrlise gnea do cloreto de sdio

Ctodo: 2 Na+ + 2 e- 2Na
(reduo)
nodo: 2 Cl - Cl2(g) + 2 e- (oxidao)

Global: 2 Na+ + 2 Cl- 2 Na + Cl2 (g)

sdio metlico gs cloro

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b) Para obteno de metais da famlia B

podemos recorrer eletrlise aquosa pois
o on do metal se descarregar antes do
H+(aq)(do ponto de vista econmico, a
eletrlise aquosa mais vantajosa uma
vez que a eletrlise gnea consome muita
energia trmica para fundir o composto
inico).
Soluo aquosa de ZnSO 4
Zn2+ + 2e- Zno (metal Zn depositado no ctodo)
2OH- H2O + O2 +2e-

(gs oxignio liberado no nodo)

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II. Processos de
eletrodeposio metlica
Eletrodeposio metlica significa que ocorrer um
depsito (oxidao) de um metal sobre outro metal,
graas ao fornecimento de energia. Utiliza-se essa
eletrlise para proteger um metal da corroso ou
tornar uma pea metlica mais vistosa, mais valiosa
(exemplo: galvanoplastia, prateao, niquelao, etc).

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Eletrodeposio de cobre numa moeda

No nodo (+) a placa de cobre sofre oxidao
produzindo ons de Cu2+ que, por sua vez,
recebendo 2 eltrons produz Cu o (que se
deposita, no ctodo, sobre a pea metlica.

SRO: Cuo Cu2+ + 2e- (nodo)

SRR: Cu2+ + 2e- Cuo (depsito na pea-ctodo)

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III. Obteno de cobre com alto teor

de pureza.
O cobre utilizado em fios eltricos
deve ter alto teor de pureza para
no causar resistncia eltrica.
Podemos
obter
cobre
puro
conectando o cobre impuro no
nodo (onde sofrer oxidao). O
Cu2+ da soluo sofre reduo
depositando-se
no
ctodo.
As
impurezas se depositam no fundo do
recipiente sendo denominadas de
lama andica (Fe2+, Ag+, Zn2+).

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IV. Anodizao proteo superficial de um metal

por uma fina camada de xido do prprio metal.
Exemplo: tratamento dado s panelas de alumnio
nodo: panela de
alumnio

H+
OHSO42- H+

Ctodo: eletrodo
inerte

Soluo cido
sulfrico

Os ons OH- caminham para o nodo (polo +)

produzindo gs oxignio. Este, reage
imediatamente com o alumnio da panela
formando xido de alumnio, que serve como
uma camada protetora.
4Al (s) + 3O2(g) 2Al2O3(s)

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V. ELETRLISE DA GUA
Os gases H2 e O2 podem ser obtidos atravs da eletrlise da gua.
Utilizamos um cido forte (c. sulfrico) ou um sal oxigenado de um
ction da famlia A (Na2SO4, KNO3) afim de aumentar a condutividade
eltrica.

O volume de gs obtido no ctodo (H2) sempre o dobro do volume de

gs obtido no nodo (O2) devido a proporo estequiomtrica da
reao (2 mol de H2 para 1 mol de O2).
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As reaes da eletrlise da gua so mostradas a

seguir:
SRR:
SRO:
Reao
Global

Proporo estequiomtrica:
2 mol de gua

2 mol de H2

1 mol de O2

Nas mesmas condies de temperatura e presso:

2 mol de gua

2 V de H2

1 V de O2

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VI. Produo de Alumnio

O alumnio pode ser obtido atravs do minrio
bauxita. A alumina (Al2O3), resultante do
processo de purificao da bauxita, passa por
um processo de eletrlise gnea onde ser
fundida com criolita (o Na3AlF3, reduz o ponto de
fuso do xido tornando-o economicamente
vivel

).

Al2O3 2Al3+ + 3O2SRR: 2Al3+ + 6e- 2Al

SRO: 3O2- 3/2 O2 + 6eA medida em que o oxignio
se forma, ele reage com o
carbono do nodo produzindo
gs carbnico.
RG: Al2O3(l) 2Al(s) +
3CO2(g)

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