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QU ES ?
Es un proceso de recubrimiento termo fsico en el que los materiales de revestimiento se vaporizan en una cmara de vaco que contiene gas reactivo y se depositan en la pieza a tratar
Tcnicas PVD
Caractersticas
Fuentes de Vaporizacin
ARCO EN VACIO
Arco Catdico
Si la vaporizacin es principalmente de la superficie del
ctodo por erosin por arco, el sistema se denomina arco catdico. El arco puede ser continua o pulsada. El ctodo puede ser fundido pero es generalmente un ctodo slido refrigerado por agua ("ctodo fro"). La fuente de ctodo fro es la fuente ms comn de arco catdico para la deposicin de la pelcula
Si
el arco es sostenido solamente por la duracin de la descarga de un capacitor, se denomina fuente de arco pulsado.
fuente de arco continuo, o en algunos casos cuasi continuos.
Tipos de spot
Las tipo 1 tienen una baja tasa de erosin catdica adems de un distanciamiento grande entre los spots.(se encuentra en conduccin con la superficie contaminada, xidos) Las tipo 2 al contrario presentan unas altas tasas de erosin lo que genera una cadena de crt9 eres en el ctodo.(conduccin con superficies limpias
Arco Andico
Este tipo de arco a veces se llama arco distribuido ya
que la corriente y la densidad es mucho menor en el nodo que en la mancha catdica.
ionizacin
Equipo
Contaminantes
Los contaminantes ms comunes son partculas generadas durante la deposicin por arco catdico.
Proporciona una velocidad de vaporizacin ms alta la mayora de las formas de pulverizacin catdica.
Las fuentes de alimentacin de baja tensin utilizados son atractivos desde el punto de vista de la seguridad.
Reduccin de costes.
Aumento de la productividad. Mayor vida til de la herramienta.
Ventajas
IMPLEMENTACION DE UNA FUENTE DE ARCO PUSADO PARA LA PRODUCCION DE RECUBRIMIENTOS DUROS DE TiN
RESULTADOS
CONCLUSIN
Caractersticas
Proyeccin Trmica
Desventajas
Conclusiones
Bibliografa
Ander A.Cathodic Arcs: From Fractal Spots to Energetic Condensation.(2008) 214. Villar C.Recubrimientos Duros: Deposicin Fsica en Fase Vapor (PVD) (2010)4. Mattox M.HANDBOOK OF PHYSICAL VAPOR DEPOSITION (PVD)PROCESSING (1998)(214-254) Albella J.Tcnicas de Deposicin Fisica
GRACIAS