LA ELECTROREFINACIN DE

COBRE
ING: MANUEL GUERREROS MEZA


INTEGRANTES: MERCADO MATAMOROS DANIEL
PAITAN MAITA EDIZON
RICAPA SANTOS PEDRO JESUS
BOZA PARI MIGUEL ANGEL
DONAIRES SALAZAR HECTOR
INGA QUIONEZ, Jose luis
Ao de la Inversin para el Desarrollo Rural
y la Seguridad Alimentaria.
Desde el punto de vista de la electroqumica,
el proceso central de una Refinera es la
Electrlisis,
selectiva de
y que se ha
mediante la
que corresponde a la deposicin
un metal proveniente de un nodo
quedado disuelto en una solucin
aplicacin de corriente elctrica
(DC). Para el cobre, las reacciones
electroqumicas bsicas involucradas son:
Reaccin andica:
Reaccin catdica:
)
Cu
2+
+ 2
e


Cu
( puro )
Cu
( impuro
2+
Cu + 2 e
Cu
(impuro )
Cu
(
puro )
Reaccin neta:
ESQUEMA TERICO DE LA
ELECTRO REFINACIN
E
CELDA
= E
th
+
a
+
c
+ I R
e
+ Prdidas
sistema
CALIDAD CATDICA
Elemento Anodo Comercial
(%)
Ctodo Comercial Grado A
(%)
Cu
O
Ni
Pb
As
Sb
Se
Fe
Te
S
Bi
Ag
Au
99,4-99,8
0,1-0,3
0-0,05
0-0,01
0-0,15
0-0,03
0-0,02
0,00-0,03
0-0.001
0.001-0.003
0-0,01
trazas-0,07
0-0.005
99,999
(no incluido en anlisis)
trazas-0,0007 trazas-
0,0005 trazas-0,0001
trazas-0,0002 trazas-
0,0001
0,0002-0,0006
trazas 0,0001
0,0004-0,0007
trazas 0,0003
0,0005-0.001
0-0.00001
Aditivos orgnicos en Electro refinacin
de Cobre
La adicin de agentes orgnicos al electrolito en
la electro refinacin de cobre sirve para proveer
calidad en el depsito catdico por accin directa
o indirecta. La adsorcin de aditivos sobre los
ctodos depende de la contaminacin del depsito
catdico, su naturaleza especfica como tipo y
concentracin
Cola,
15.000 g/mol
Tiourea
Avitone,
2.000 a 8.000 g/mol
(TU),
76,12 g/mol
Hay evidencias en la literatura, indicando que la
cantidad de impurezas
dependen
en la malla del metal
depositado grandemente de la
estructura de la deposicin del metal. Cuanto
ms densa es la estructura del metal depositado
y la superficie del ctodo es ms lisa, ms baja
es la cantidad de impurezas fijadas por adsorcin
o residuo electroltico en la deposicin del metal
El nfasis en estos estudios est en la
electrocristalizacin del cobre metlico y del efecto
de varios parmetros electrolticos en los
se mecanismos
dedica a los
del crecimiento. Especial atencin
efectos de varios aditivos electrolticos,
tales como inhibidores, en la estructura del metal
electrocristalizado
Todo aumento de sobretensin en los puntos
que sobre salen del depsito con respecto al
resto de la estructura, tiende
frenar
una
a disminuir la
intensidad excesiva y el crecimiento
desigual
depsito
generando nivelacin del
Esquema grfico
simplificado de
accin de la TU


gu


A


















j
Nueva aguja
a
-
Ctodo de cobre
Aspectos Cinticos
Etapa limitante: Transferencia de carga
Ecuacin de ButlerVolmer:

exp
| nF | | (1 )nF |(
i = i


exp

0

(
RT RT
\ . \ .

Donde:
i
0
: Densidad de corriente de intercambio (A/m
2
)
n : Nmero de electrones transferidos por la reaccin
o : Parmetro cintico de la reaccin (0<o<1)
F : Constante de Faraday (96.500Coulombs/equiv)
q : Sobrepotencial de celda (V)
R : Constante universal de los gases
T : Temperatura del electrlito (K).
Etapa limitante: Difusin de las especies electroactivas a travs de la capa de Nerst ,
Ley de Fick
nFD

= i C
o
Lim
En la prctica los procesos que ocurren, en general presentan un
control mixto por activacin-difusin.
Curva Cintica
Electro Cristalizacin
Etapas presentes:
Nucleacin
Crecimiento de cristales
Ambas etapas son dependientes
del sobrepotencial catdico:
c
Efectos en el depsito
catdico:
Se favorece la nucleacin con
formacin de cristales
pequeos
q
c
Se favorece el crecimiento
con formacin de cristales
grandes
q
c
Winnand
Clasificacin tipo de depsito en funcin de:
i / i
L
o
i / C
n+
M
y la intensidad de inhibicin
Tipologa de cristales
FI : Field oriented isolated
reproduction
crystals
BR: Basis
FT : Field oriented texture type
UD: Unoriented dispersion type
Condiciones industriales
Cola : 20 - 40 g/ton Cu catdico
Tiuourea: 10 - 30 g/ton Cu catdico
Avitone: 5 - 20 g/ton Cu catdico
Concentracin del orgnico
solucin electroltica:
?
en la
Estimaciones: 2 - 5 ppm
Mtodos de anlisis
Cuantificacin secuencial
voltametra:
Eliminacin de TU por
por
oxidacin con H
2
O
2
Eliminacin de Cola por
calentamiento a 90 C.
Problemtica: Uso de electrodos macizos
Mtodos de anlisis
Cuantificacin secuencial
polarografa:
Eliminacin de TU por
por
oxidacin con H
2
O
2
Eliminacin de Cola por
calentamiento a 90 C.
Problemtica: Tamao de la gota de Hg
Tareas pendientes:
Herramientas de anlisis
electroqumico: Sensores utilizando Np
Tareas pendientes:
Herramientas de anlisis
electroqumico: Ensayos especficos
CONCLUSIONES
( )
FIN
Gracias...
Gracias