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En donde:
Io= Corriente inversa de saturación.
q = 1,6x10-19 culombios (carga del electrón).
T = Temperatura absoluta en ºK.
K = Constante de Boltzman. Fig.4 Diodo polarizado inversamente
η = 1 para Ge y 2 para Si, en corrientes moderadas.
VT= KT/q = T/11.600, para T = 300 K ⇒ VT= 26 mV. Solo los portadores minoritarios generados térmicamente en
La unión p-n juega un papel muy importante tanto en las ambas regiones son empujados hacia la unión, así solo los
aplicaciones de la electrónica moderna como en el pocos electrones de p, al pasar al lado n formarán con los
entendimiento de otros dispositivos semiconductores. Su mayoritarios de esta región una corriente de arrastre, y de
mayor utilización se produce en procesos como la similar manera los pocos huecos de n al pasar a p formarán
rectificación, la conmutación y otras operaciones dentro de otra débil corriente de arrastre que se sumará a la anterior.
circuitos electrónicos. También constituye el bloque básico Esta pequeña corriente es la corriente inversa de saturación del
para otros dispositivos electrónicos como pueden ser los diodo y su valor se distingue por Io, presentando una fuerte
transistores bipolares, tiristores, JFETs, MOSFETs. Para dependencia de la temperatura.
condiciones de polarizaciones idóneas o expuestas a la luz, la
unión p-n también se utiliza para funciones en campos como III. VDMOS
las microondas o la óptica.
A. Características físicas
1) Unión p-n, polarizada directamente Vertically Diffused Metal Oxide Semiconductor. In
VDMOS the voltage rating depends upon epitaxial layer
La unión p-n está polarizada directamente, cuando a la región thickness and doping, while current rating depends on the
p se le aplica un potencial superior al de la región n. width of the channel. Hence the MOSFET sustains with both
high blocking voltage and high current. The vertical cross
section of a VDMOS device is as shown in Fig 5(b). In this
the source is over the drain, so current flows mainly in vertical
direction when it is on [7]. Mostly devices are now fabricated
with vertical structure because in these current carrying
terminals are placed on opposite surface due to which uniform
current is maintained [12]. In VDMOS there is drain to source
leakage current which is due to dislocation of transistor cell in
Fig.3 Diodo polarizado directamente source area. This leakage can be eliminated during
manufacturing of the device by reducing Plasma etching time
Los huecos de la región p y los electrones de la región n, son [13]. In this structure JFET resistance is present which
empujados hacia la unión, por el campo eléctrico a que da increases the overall onresistance of the device [5]. This
lugar la polarización, reduciendo la anchura de la zona de resistance can be reduced by varying the structure of VDMOS.
transición. El campo eléctrico de la polarización se opone al (Kaur, 2017)
de la unión reduciendo este, y también la barrera de potencial
que sin polarización era Vo y con polarización directa Vo-V.
La reducción del campo eléctrico de la unión reduce el efecto
de arrastre. Al ser la zona de transición más estrecha, aumenta
el gradiente de las concentraciones en ella y
consecuentemente, aumenta el efecto de difusión. No se
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El diodo p-i-n presenta una región p y una región n 1) Uso del diodo PIN
altamente dopadas, y separadas por una región intrínseca con
resistividad más elevada que las regiones p y n. Estos Este diodo se puede utilizar como interruptor o como
dispositivos son ampliamente usados en aplicaciones tales modulador de amplitud de frecuencias de microondas ya que
como desplazadores de fase y conmutadores de señales para todos los propósitos se puede presentar como un corto
microondas. Los dispositivos diseñados con diodos p-i-n se circuito en sentido directo y como un circuito abierto en
destacan por bajas pérdidas de inserción y elevado desempeño sentido inverso. La principal ventaja del diodo p-i-n frente a
en altas frecuencias. A estas frecuencias, el diodo tiene una un diodo convencional es la mejora en la respuesta de
impedancia muy alta cuando está inversamente polarizado conmutación de señales microondas. También se lo utiliza
(circuito abierto) y una impedancia muy baja cuando está para conmutar corrientes muy intensas y/o tensiones muy
polarizado en sentido directo (corto circuito). Además, las grandes. Destaca en su utilización como fotodiodo el cual es
tensiones de ruptura están comprendidas en el margen de 100 uno de los fotodetectores más comúnmente utilizados hoy en
a 1000 V. (Cortez) día en campos que van desde las comunicaciones en fibra
Un material altamente dopado significa que tiene un mayor óptica hasta la electrónica de consumo. Esto se debe
número de impurezas, generalmente de tipo p o de tipo n. Por principalmente a su elevado índice de eficiencia respecto a
lo mismo, existirá una menor resistencia al paso de la otros dispositivos similares debido a la zona intrínseca,
corriente. Para un material no dopado, es decir intrínseco, entendiendo por eficiencia la proporción entre la luz que le
presentará una resistencia mucho mayor al paso de la llega y la que es capaz de absorber y convertir en corriente
corriente, dependiendo del material semiconductor que se esté eléctrica. (Pavón)
utilizando. En la práctica un diodo p-i-n tiene una alta
resistividad en la parte media de la zona p o n. Mientras que 2) Funcionamiento del diodo PIN
existe una baja resistividad en los límites en las zonas p y n.
La nomenclatura p+ y n+ indica un alto dopaje de los A frecuencias más altas el diodo se parece a una resistencia
materiales p y n, respectivamente. Se utilizan las letras griegas casi perfecta es decir que hay una gran cantidad de carga
“π” y “ν” para los materiales altamente resistivos y almacenada en la región intrínseca. A bajas frecuencias, la
ligeramente dopados p y n respectivamente. El material usado carga se quita y el diodo se apaga. Si el diodo esta polarizado
en la región I puede ser tipo “π” o “v”. En la práctica, en sentido directo los huecos del material P se difunden en la
generalmente se utiliza el silicio como el material región P-I creando una capa P de baja resistividad, como ya
semiconductor, el cual no es perfectamente intrínseco. sabemos la corriente es debido al flujo de los electrones y de
Utilizando cualquiera de estas dos estructuras no se presentan los huecos cuyas concentraciones son aproximadamente
cambios en el desempeño de un dispositivo. iguales en la región I, la condición de polarización directa la
caída de tensión en la región I es muy pequeña debido a que la
B. Características eléctricas zona de agotamiento es muy estrecha e igual que el diodo PN,
si se aumenta la corriente también disminuye la resistencia.
Un diodo PIN opera bajo lo que se conoce como la inyección Como la región intrínseca es altamente resistiva, la zona de
de alto nivel. En otras palabras, la región intrínseca "i" se agotamiento se extiende hasta las regiones de alta conducción,
inunda con los portadores de carga de las regiones de "n", "p". incluso aun cuando no se ha polarizado al diodo. Se dice que
Su función se puede comparar a llenar un cubo de agua con un la capacitancia equivalente del diodo no se ve alterada por el
agujero en el lado. Una vez que el agua alcanza el nivel del voltaje suministrado.
agujero en el que comenzará a derramar. Del mismo modo, el
diodo conducir la corriente una vez que los electrones y los La siguiente figura muestra el circuito equivalente del diodo.
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;
donde:
ε= constante dieléctrica del silicio
A = Área de la unión del diodo
ρ = resistividad de la región I
frl =frecuencia de relajación dieléctrica