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Laboratorio de Fisicoquimica II
QU 435
ELECTROLISIS
PROFESORES:
LIMA-PERU
1
INDICE
1. OBJETIVOS......3
2. FUNDAMENTO TEORICO.....3
3. DATOS Y RESULTADOS...3
4. OBSERVACIONES..7
5. DISCUSION DE RESULTADOS7
6. CONCLUSIONES....7
7. ANEXO..7
8. BIBLIGRAFIA...8
2
1) OBJETIVOS
Estudiar la electrodeposicin del cobre, zinc a partir de unas soluciones complejas
Cuantificar la masa de cobre, zinc y nquel electro depositado.
Estudiar las reacciones electroqumicas que se llevan a cabo en cada electrodo
2) FUNDAMENTO TEORICO
La electrolisis de disoluciones acuosas suele ser difcil de interpretar, a causa de la
presencia en la disolucin de los iones H+ y OH- , procedentes de la ionizacin del agua, y
que, en algunos casos, se pueden descargar en los electrodos preferentemente a los iones
producidos en la disociacin de la sal.
Con el objeto de determinar el orden en que se descargan los distintos iones existentes en
la disolucin, convienen sealar que lo harn primero aquellos cuyos potenciales de
reduccin (en el caso de los cationes) o de oxidacin (si se trata de aniones) sean
inferiores. Incluso puede suceder que si el potencial del nodo menor que el de los
aniones presentes, el proceso de electrolisis se traduzca en una disolucin del nodo,
puesto que al oxidarse pasara a la disolucin en forma inica. Algunos nodos, sin
embargo, apenas se oxidan en condiciones termodinmicamente favorables, ya que se
recubren de una capa de oxido metlico que los protege de una posterior oxidacin.
As en una disolucin neutra el potencial de reduccin del hidrogeno es E=-0.41V, valor al
que habr que aadir la sobretensin correspondiente. De acuerdo con esto, podemos
asegurar que en la electrolisis de disoluciones neutras de sales de metales situados por
debajo del hidrogeno en la serie electromotriz (cobre, plata, oro, etc), dichos metales se
depositaran en el ctodo. Lo mismo suceder con aquellos otros cuyo potencial de
reduccin est comprendido entre 0.00 y -0.41 V (cadmio, nquel, estao, plomo, etc., en
disoluciones 1M de sus iones). Incluso se pueden depositar preferentemente al hidrogeno
algunos metales, como por ejemplo, hierro o zinc, de potenciales de reduccin algo
superiores, en valor absoluto, a 0.41V, viniendo condicionado este fenmeno por la
sobretensin del hidrogeno.
El depsito electroltico de metales consiste en recubrir un objeto de metal con una capa
ms o menos espesa de otro metal ms precioso (nquel, cromo, plata, oro, etc) mediante
procesos electrolticos.
El cromado de metales, el plateado y el dorado de otros menos nobles, etc. constituyen
ejemplos importantes de la aplicacin de esta tcnica. El grosor de la capa de metal
depositado depende de la intensidad de la corriente y del tiempo que dure la operacin. el
depsito electroltico se lleva a cabo en cubas electrolticas, en la que el objeto que se
requiere recubrirse se coloca como ctodo, actuando de nodo una lamina de metal que
se va a depositar y de electrolito una disolucin de iones.
Fuente:http://corinto.pucp.edu.pe/quimicageneral/contenido/433-electrolisis-de-
soluciones-acuosas.html
3) DATOS Y RESULTADOS
A. DATOS EXPERIMENTALES
3
CUADRO N 1 DATOS DE LA EXPERIENCIA
Masa inicial del electrodo(g) 67.94g
Voltaje aplicado 3V
Amperaje aplicado (A) 0.5A
Solucin de electrodo deposicin Nquel brillante
Temperatura de trabajo 53 C
CUADRO N 2 MASA DEPOSITADA EN EL ELECTRODO POR EL TIEMPO
Tiempo(min) Masa final del
electrodo(g)
5 67.97g
10 68.04g
20 68.13g
30 68.25g
MEDICIONES DE LA PLACA
Largo 6.00 cm
Ancho 4.95 cm
grosor 0.1 cm
CUADRO N 3 DIMENSIONES DE NUESTRA PLACA
B. DATOS BIBLIOGRFICOS
+2 + 2
Se obtiene nquel solido en la placa
REACCIONES EN EL ANODO:
22 2 + 4 + + 4
Se obtiene oxigeno
b) Determine los pesos tericos y experimental para cada tiempo empleado en la
electrodeposicin
Segn la primera ley de Faraday se tiene que
.
= (1)
96500
58,6934
= /
2
= 29,3467/
= 0.5
El clculo lo realizamos como ejemplo para un tiempo t= 300seg.
Reemplazando los datos en la ecuacin (1):
,
.
=
= ,
5
El clculo lo realizamos para un tiempo t=300s:
0.03
%rendimiento = 100%
0.0456
%rendimiento =65.78%
0.12
0.1
0.08
y = 1E-04x + 0.005
0.06
0.04
0.02
0
0 200 400 600 800 1000 1200 1400
7
El comportamiento de polarizacin del ctodo durante la electrodeposicin del nquel en
presencia y ausencia del As (III) y Sb (III) se observo mediante la tcnica de
voltamperometria cclica.
En el estudio de la electrodeposicin del nquel, la presencia de cualquiera de As (III) y Sb
(III) disminuye el rendimiento de la corriente catdica y la pureza de los depsitos de
nquel disminuye con el aumento de As (III) o Sb (III) contenido en las soluciones
electrolticas pero la contaminacin del depsito era ms debido a la presencia del As (III)
en comparacin del Sb (III) a concentraciones ms altas.