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Qu es ICP?
Inductively Coupled Plasma
Plasma : Gas ionizado
Referido como el Cuarto estado de la materia
Habitualmente se utiliza argn como gas de
operacin.
En el plasma de argn tenemos partculas con carga positiva
(Ar+) y con carga negativa () en constante
movimiento por efecto de un campo magntico
(Induction Coil o bobina de induccin).
La forma del plasma permite introducir un flujo de gas
que contiene la muestra nebulizada como un aerosol
dentro del mismo.
CONCEPTOS BASICOS ICP
Cul es la temperatura del plasma?
IR : Regin de induccin
PHZ : Zona de precalentamiento
IRZ : Zona de radiacin inicial
NAZ : Zona Analtica Normal
COMPARACIN CON AAS
Absorcin Atmica
ICP
Plasma
Ar <=> Ar+ + e-
10000C
Llama
C2H2 + O2 => CO2 + H2O
2500 C
DATOS TECNICOS
T u b o in t e rm e d io Gas auxiliar
Inyector
C o i l de i ndu cc i n
El tubo externo evita que el plasma de argn funda el coil. Por su interior
circula el gas que permite su enfriamiento y que a su vez sustenta el plasma.
El Carrier gas (o gas de transporte) transporta la muestra en forma de
aerosol a travs del inyector hasta el interior del plasma (Cuarzo u oxido de
aluminio).
El tubo intermedio permite el flujo del gas auxiliar, que permite ajustar la
posicin del plasma respecto al coil de induccin.
CONCEPTOS BASICOS ICP
Coil
Inyector
Gas auxiliar
Plasma Gas
Aerosol de muestra
El plasma gas (circula por tubo externo) permite enfriar, tanto como sea
posible, el borde externo de la antorcha que se encuentra cerca de la bobina de
induccin (Coil).
Este gas mantiene el plasma y fluye tangencialmente dentro de la antorcha.
Los flujos habituales estn entre 10 y 20 L/min con una valor tpico de 15 L/min.
CONCEPTOS BASICOS ICP
Coil
Inyector
Gas auxiliar
Plasma Gas
Aerosol de muestra
Coil
Inyector
Gas auxiliar
Plasma Gas
Aerosol de muestra
CONCEPTOS BASICOS ICP
1. Cul puede ser una de las razones por las cuales se tapa el inyector?
Si se observan depsitos de sales despus de analizar soluciones con altos
contenidos de sales disueltas, se debe re-ajustar la distancia entre el inyector y
el coil. UNOS POCOS MILIMETROS PUEDE MEJORAR
CONSIDERABLEMENTE.
iones colisiones
atrapados generan
en campo calor y luz
CONCEPTOS BASICOS ICP
Qu le ocurre a la muestra en el ICP?
ICP
(Plasma de Argn)
(Ion)
Ionizacin
Diagrama (Atomo)
Atomizacin
(gas)
Vaporizacin
(Solido)
Desolvatacin
(Solucin)
CONCEPTOS BASICOS ICP
Qu le ocurre a la muestra en el ICP?
Por qu los tomos emiten luz?
Absorcin Emisin
Excitacin
+ Luz
Temperatura
CONCEPTOS BASICOS ICP
Qu le ocurre a la muestra en el ICP?
La realidad es
siempre ms
complicada
CONCEPTOS BASICOS ICP
tomos o iones?
Algn comentario
sobre las lneas de
potasio?
CONCEPTOS BASICOS ICP
Ytrio
SO4 Axial
10000
8000
6000
4000
2000
0
0 5 10 15 20 25 30
View Dist
Na Ax ia l
1000000
800000
600000
400000
200000
0
0 5 10 15 20 25 30
V ie w D is t
CONCEPTOS BASICOS ICP
100000
80000
60000
40000
Vista axial
CONCEPTOS BASICOS ICP
Modos de lectura en ICP: Equipos
Equipo Radial
ICP Thermo ?
Esquema general
INSTRUMENTACIN EN ICP
Bobina de induccin (Induction coil )
Coil
Inyector
Gas auxiliar
Plasma Gas
Aerosol de muestra
OBJETIVO:
Modificar la muestra de forma que sea introducida al plasma sin modificar su
estabilidad ni influenciar le seal de emisin resultante:
Estos es posible slo para pequeas gotas: AEROSOL
Nebulizador de flujo
cruzado.
INSTRUMENTACIN EN ICP
SISTEMA DE INTRODUCCIN DE MUESTRA
Cmara de nebulizacin.
Remueve las gotas de mayor tamao.
Las gotas son arrastradas por el gas portador.
Al cambiar la direccin de este flujo, las gotas pequeas tienden a seguir la
direccin del flujo del gas y las gotas ms grandes se van al desecho.
El desecho es removido por la parte inferior mediante una bomba.
Perkin Elmer
Thermo
INSTRUMENTACIN EN ICP
Qu hemos aprendido?
INSTRUMENTACIN EN ICP
Introduccin al sistema ptico
Rendija de
Entrada
Detector UV
Red Echelle
Salida
ICP
CCD Detector
INSTRUMENTACIN EN ICP
ptica Iris Intrepid (Thermo)
INSTRUMENTACIN EN ICP
Se miden simultneamente o de forma secuencial (de a uno)?
Optima 2100
Perkin Elmer
Iris Intrepid II
Thermo
INSTRUMENTACIN EN ICP
High
Cu 221.458
Wavelength within
the Order
Pb 220.353
Low
130 120 110 100 90 80 70 60
High L
ow Order Numbers Low
Wavelength High
Fullframe
INSTRUMENTACIN EN ICP
SCD vs CID
INSTRUMENTACIN EN ICP
SCD vs CID
INSTRUMENTACIN EN ICP
Se pueden medir simultneamente elementos en modo axial y radial en
el mismo mtodo?
Absorcin de oxigeno
en el UV.
INSTRUMENTACIN EN ICP
Por qu se debe purgar el ICP antes de medir?
ASPECTOS GENERALES DE DESARROLLO DE MTODOS
Fluctuaciones de la bomba,
Irregularidades durante la nebulizacin (nebulizador y cmara de
nebulizacin),
Variaciones del plasma,
Baja estabilidad de longitudes de onda,
Fluctuaciones en el detector,
Variaciones el potencial de alimentacin.
Longitud de onda
Eleme nto
(nm)
2 12.41 2
Si
2 51.61 1
3 08.21 5
Al
3 96.15 3
2 38.20 4
Fe
2 39.56 2
3 24.75 2
Cu
3 27.39 3
2 21.64 8
Ni
2 31.60 4
2 20.35 3
Pb
2 17.0 0
2 06.20 0
Zn
2 13.85 7
2 05.56 0
Cr
267.716
228.802
Cd
214.440
257.610
Mn
259.372
ASPECTOS GENERALES DE DESARROLLO DE MTODOS
Seleccin de lneas
ASPECTOS GENERALES DE DESARROLLO DE MTODOS
Seleccin de lneas
Medicin de metales pesados en LiOH
a)
Al 30 8.21 5 nm
b)
Al 396 .153 nm
Longitud de 2 F
Ele mento Pendiente Inter cepto R
onda (nm) (95 % c onfianza)
Si 2 51.611 1209 81 1 780 - 772 2041 0.999 6 2 2945
Al 3 96.153 4013 08 6 567 - 6724 753 0 0.999 5 1 8543
Fe 2 38.204 1576 80 1 304 - 247 1496 0.999 9 7 2558
Cu 3 27.393 4636 90 7 589 - 1396 870 2 0.999 5 1 8536
Ni 2 31.604 6595 8 10 11 - 223 1159 0.999 5 2 1147
Pb 2 20.353 111 01 2 35 - 81 270 0.999 1 1 1044
Cr 2 05.56 274 98 4 03 - 149 462 0.999 6 2 3134
Zn 2 13.857 1465 54 2 693 - 639 3088 0.999 3 1 4701
Cd 2 14.440 44001 6 11 292 158 97 2087 3 0.999 1 8490
Mn 2 57.610 7 90416 6 77 485 0 -3 1738 11 1 43225 0 0.988 1 582
ASPECTOS GENERALES DE DESARROLLO DE MTODOS
Condiciones de excitacin
Composicin de estndares
P7 P8 P9 P10
ASPECTOS GENERALES DE DESARROLLO DE MTODOS
Nmero de estndares y replicas
ASPECTOS GENERALES DE DESARROLLO DE MTODOS
Nmero de estndares y replicas