RECUBRIMIENTOS.

UNA TECNOLOGA EN DESARROLLO EN EL

CAMPO DEL VIDRIO

F. ORGAZ
Instituto de Cermica y Vidrio. C.S.LC. Arganda del Rey (Madrid)

RESUMEN

Se resaltan los factores de tipo tcnico y econmico ms importantes que han impulsado el desarrollo
de los recubrimientos en los ltimos aos. Se exponen los mtodos generales de aplicacin, las tcnicas
analticas de estudio y de control, as como los distintos materiales y aplicaciones de los recubrimientos de
acuerdo con su funcionalidad especfica: elctrica, qumica, mecnica, ptica, etc. Finalmente se hace un
anlisis de las aplicaciones de dos tipos de recubrimientos: los antirreflectantes y los reflectantes de calor,
de gran importancia en el campo de la conservacin y conversin de la energa.

Coatings. A developing technology in the glass field.

The most important technical and economical factors that have driven the development of coatings in
latest years are stressed. A description is made of the general methods of application, the analytical
techniques of study and control and also of the different materials and applications of coatings in
accordance with their specific use: electrical, chemical, mechanical, optical, etc.
Finally, an analysis is made of the applications of two types of coatings: anti-reflecting and heat
merror, which are of great importance in the field of energy conservation and conversion.

Les revtements, technologie en plein essor dans le domaine du verre

La prsente tude nonce les facteurs les plus importants, d'ordre technique et conomique, qui, ces
dernires annes, ont pouss dvelopper l'emploi des revtements. Elle prcise quels sont les mthodes
gnrales d'application, les techniques analytiques d'tude et de controle, ainsi que les diffrents mat-
riaux et les diffrentes applications des revtements selon leur fonction spcifique: lectrique, chimique,
mcanique, optique, etc. Elle se termine par une analyse des applications de deux types de revtements (les
revtements antirflexion et les revtements rflecteurs de chaleur), d'une grande importance dans le
domaine de la conservation et de la transformation de l'nergie.

Beschichtungen - Eine Entwicklungstechnologie in der Glasbehandlung

Es werden die wichtigsten technischen und wirtschaftlichen Faktoren beschrieben, die im Lauf der
letzten Jahre die Entwicklung von Beschichtungen vorangetrieben haben. Es werden die allgemeinen
Anwendungsverfahren, die analytischen Untersuchungs und Kontrollmethoden sowie die einzelnen
Werkstoffe fr Beschichtungen sowie deren Anwendungen unter Bercksichtigung ihrer elektrischen,
chemischen, mechanischen, optischen u.a. Eigenschaften erlutert. Abschliessend werden die Anwendun-
gen von zwei Beschichtunsarten, den Reflex und Antireflexschichten, nher untersucht, die fr die
Erhaltung und Umwandlung von Energie grojSe Bedeutung besitzen.

1. INTRODUCCIN
Vidrios recubiertos con xidos metlicos u otros
materiales tienen especficas propiedades pticas, elctri-
cas, mecnicas o de corrosin y estn encontrando
actualmente un renovado inters. Estos recubrimientos
no son el resultado de nuevos desarrollos cientficos
puesto que muchos de ellos fueron ya aplicados en
vidrios pticos hace ya muchos aos.
Este renovado inters de los recubrimientos en la tec-
nologa moderna del vidrio puede ser debido a diferentes
causas, si bien, cuatro podran ser las razones fundamen-
tales de su desarrollo:
1. Un crecimiento importante de la demanda, conse-
cuencia de nuevos propsitos industriales capaces de
satisfacer los requerimientos de las nuevas tecnologas
(por ejemplo la necesidad de recubrimientos antirreflec-
tantes de amplia banda y de ampUo ngulo para su uso
en aplicaciones de energa solar y capaces de resistir altas
intensidades ert la ptica de lseres).
2. Los mercados potenciales que los recubrimientos
van a tener en los sectores tradicionales de aplicacin del
vidrio, tales como en la construccin, el transporte,
vidrio hueco, etc. por diversos motivos: ahorro de ener-
ga, mejora del confort, seguridad, calidad de vida, etc..

(1) Conferencia presentada a la Reunin Monogrfica sobre tratamientos de la superficie del vidrio (Madrid, 22 de Noviembre de 1984).

SEPTIEMBRE-OCTUBRE 1985 323


3. El desarrollo de mtodos y tcnicas de formacin
de films cada vez ms sofisticados y reproducibles que
permiten una mayor diversidad de la oferta de recubri-
mientos, capaces de satisfacer la demanda presente o
futura. Un ejemplo de ello es la tcnica de sol-gel la cual
est permitiendo la posibilidad de recubrir vidrios y otros
materiales con todo tipo de xidos de una forma sencilla.
4. Finalmente, y no menos importante, el desarrollo
de un arsenal de modernas tcnicas analticas y de con-
trol capaces de determinar la calidad y naturaleza del
film y medir su comportamiento. Mediante exactas y
precisas tcnicas analticas es posible conocer qu se ha
producido exactamente (su naturaleza qumica, fsica,
estructural, microestructural, etc.) as como sus propie-
dades y establecer las relaciones entre ellas. En definitiva,
nos permite establecer y optimizar los parmetros que les
caracterizan y establecer una base cuantitativa que per-
mita su optimizacin.
2. CONCEPTO Y MTODOS DE APLICACIN
DE RECUBRIMIENTOS
Un recubrimiento puede ser definido como aquella
regin cerca de la superficie Qon unas propiedades dife-
rentes de las del material base o sustrato. Estos materia-
les pueden ser deseables o an necesarios por una amplia
gama de razones econmicas, propiedades nicas o de
flexibilidad de ingeniera y diseo, las cuales pueden ser
obtenidas separando las propiedades superficiales de los
requerimientos estructurales.
Cuando se habla de recubrimientos sobre vidrio en
cierta manera se hace referencia no slo a las propiedades
fsicas y qumicas de los propios recubrimientos sino
tambin a las interacciones de este material con su
entorno y su sustrato. Por tanto, un recubrimiento es un
fenmeno complejo de amplio espectro en el que se estu-
dian las interacciones fsicas y qumicas con el entorno y
el sustrato.
En algunos casos, un recubrimiento es un nuevo
material depositado sobre el sustrato por cualquier
mtodo (recubrimiento depositado o aditivo). En otros
casos, el recubrimiento puede ser producido alterando la
superficie del sustrato dando lugar a una capa superficial
compuesta del material aadido y el material del sustrato
(recubrimiento de conversin o sustractivo). Los recu-
brimientos tambin pueden ser formados por cualquier
proceso encaminado a cambiar las propiedades de la
superficie del material sin cambiar su composicin qu-
mica (ejemplo: por deformacin mecnica). En general,
son obtenidos recubrimientos con una o ms capas de
material tanto metlico, cermico, vitreo o plstico.
Las propiedades de un recubrimiento, cualquiera que
sea su naturaleza, dependen en gran medida de la calidad
de la capa aplicada, la cual, a su vez, depender, bajo
condiciones de deposicin ptima, del mtodo de aplica-
cin utilizado. En principio, y desde una perspectiva
general, todo recubrimiento debe reunir una serie de
caractersticas:
alta funcin en si misma (ptica, elctrica, etc.)
buena apariencia y homogeneidad
espesor adecuado
324
F. ORGAZ
buena adherencia al sustrato
alta estabilidad al rayado
alta estabilidad a las condiciones del entorno
(atmsfera industrial, reactivos, etc.)
no altos costos de produccin, etc.
En vista de tales requerimientos cada mtodo tiene su
particular campo de aplicacin en lo que a parmetros
funcionales de la capa depositada, dificultades tcnicas y
a la naturaleza y cahdad de la capa, se refiere. Esto hace
que a veces no sea fcil elegir el mtodo ms apropiado al
recubrimiento que se quiere depositar.
El extenso nmero de procesos por el cual se pueden
depositar films (1,2) puede ser a primera vista confuso,
especialmente para un no especialista enfrentado al pro-
blema de tener que decidir cmo depositar mejor un film
particular. Sin embargo, en realidad existen muy pocos
mtodos bsicos para apHcar films, el resto son procesos
hbridos o modificaciones de los bsicos. Algunos de los
mtodos son fsicos, otros operan sobre principios fsico-
qumicos y otros son de naturaleza qumica.
Cada uno de los mtodos se diferencian en sus:
fundamentos tericos
requerimientos tecnolgicos
aptitud para depositar materiales con caractersti-
cas especficas y diferentes
Tipo de variables que influyen, etc.
lo que exige adaptar el mtodo ms adecuado segn las
caractersticas del recubrimiento a depositar.
Un nmero de extensivas revisiones de estos procesos
de formacin describen la teora y prctica de los mismos
(3). Muchas de estas tcnicas son utilizadas en la indus-
tria ptica donde la formacin de recubrimientos ha sido
vital para su desarrollo, otras son utilizadas ms como
tcnicas de investigacin y otras son una realidad en su
aplicacin industrial por lo que tienen de facilidad de
automatizacin, de procesamiento en continuo y de bajo
coste. A continuacin se presentan algunos de los distin-
tos procesos de recubrimiento empleados sobre vidrio as
como las caractersticas y propiedades de los mismos.
2.1. Procesos de deposicin por reaccin qumica en fase
lquida
Por aplicacin de estos mtodos pueden ser deposita-
dos metales, xidos y pelculas orgnicas. El ms viejo y
mejor conocido de estos procesos de mojado es la forma-
cin de espejos (5). Una amplia gama de recubrimientos
pueden ser obtenidos por esta tcnica tales como semirre-
flectante de oro y plata, as como semitransparentes de
nquel y sulfuro de plomo. El proceso Brashear (6) para
depositar plata es el ms ampliamente utilizado. Son
procesos de inversin moderada con velocidades de pro-
duccin en funcin de la longitud de la planta (7). El
control logrado sobre el proceso es lo suficientemente
bueno como para depositar de forma uniforme capas
finas metlicas transparentes. Esto es realizado bien por
inmersin o por pulverizacin de las disoluciones sobre el
vidrio, el cual es mantenido horizontalmente sobre una
cinta transportadora. Las disoluciones constan de una sal
de metal a depositar y de un agente reductor. El metal es
precipitado de la disolucin y, si es hecho correctamente,
BOL SOC. ESP. CERAM. VIDR. YOL 24-NUM.5
Recubrimientos. Una tecnologa en desarrollo en el campo del vidrio
lo cual implica el uso de un agente sensibilizador (Cl2Sn)
y una buena limpieza de la superficie del vidrio, se forma
un recubrimiento denso sobre la superficie del vidrio. Sin
embargo, en general, necesitan proteccin debido a la
escasa interaccin superficie vidrio-metal. Tratamientos
entre 300 y 500 C en atmsfera oxidante, especialmente
para plata y cobre, aumentan dicha interaccin al produ-
cirse fenmenos de difusin. Los recubrimientos de plata
y oro son adecuados para alta reflectancia en el infrarojo.
Sin embargo, la transmisin en el visible puede verse
reducida entre un 50 y un 20% en funcin del espesor del
recubrimiento. Su conductividad elctrica es tan alta que
permite su aplicacin en sistemas de calentamiento. Los
recubrimientos semitransparentes de nquel y sulfuro de
plomo (8) presentan, por otra parte, unas propiedades en
el infrarrojo que no son tan satisfactorias como las de
plata y oro. Sus coeficientes de reflexin, emisividades y
conductividades elctricas son funciones del espesor y su
aspecto es grisceo con transmisiones entre el 20 y 40%.
Recubrimientos semitransparentes de nquel pueden
tambin ser preparados por reduccin de carbonilos de
nquel a aproximadamente 200 C en una atmsfera de
hidrgeno. Tales recubrimientos tienen propiedades an-
logas a otros recubrimientos metlicos de nquel.
Otro mtodo de formacin de recubrimientos en fase
lquida que est actualmente en una etapa creciente de
expansin y desarrollo es el basado en los procesos de
sol-gel (9) (10). Tales procesos son especialmente ade-
cuados para depositar capas dielctricas de xidos.
Dicho mtodo se basa en el estirado vertical, pulveriza-
cin o centrifugado (spinning) de sustratos de vidrio de
disoluciones diluidas de compuestos metal-orgnicos (eti-
latos, butilatos, etc.) hidrolizados en un medio alcoh-
lico, o en una atmsfera de vapor de agua. El espesor de
la capa despus del tratamiento trmico a 500 C depende
fundamentalmente de la viscosidad de la disolucin, de la
concentracin de los componentes activos y de la veloci-
dad de estirado del sustrato (11). El mtodo ha sido utili-
zado exitosamente para la preparacin de una amplia
variedad de recubrimientos tales como antirreflectantes
(12), coloreados (13), reflectantes de calor (14), etc. as
como todo tipo de pelculas de SO2, SO2 - TO2 (15), etc.
El mtodo Langmuir-Blodgett (16) permite depositar
pelculas orgnicas a partir de disoluciones. Las aplica-
ciones tecnolgicas de tales films han sido hasta la fecha
poco exploradas. Sin embargo, una produccin cuidado-
samente controlada de los mismos ofrece interesantes
aplicaciones tales como mscaras de ataque sensibles a la
radiacin (17), aparatos electroluminiscentes a base de
pelcula de antraceno (18), ptica integrada (19) etc.
2.2. Procesos de deposicin qumica en fase de vapor
(CVD) y por pulverizacin piroltica
En trminos generales, el trmino deposicin qumica
en fase de vapor, involucra la deposicin de metales, xi-
dos, carburos, sulfuros, nitruros, siliciuros, etc. a partir
de precursores gaseosos (20). Tales precursores son, en
general, higroscpicos y propensos a la oxidacin, lo que
hace trabajar en sistemas cerrados. Sin embargo, para el
recubrimiento de vidrio con xidos, el sustrato es estable
al aire y el vapor de agua es un reactivo til para hidrli-
SEPTIEMBRE-OCTUBRE 1985
sis u oxidacin. El proceso se basa en exponer el vidrio
caliente a una fina pulverizacin de una mezcla apro-
piada en un sistema abierto o semicerrado a fin de alcan-
zar el recubrimiento deseado. Una amplia gama de pre-
siones es utilizada. Los procesos de reaccin representa-
tivos incluyen:
CVD: Cloruro voltil + O2 (o H2O) = CI2 + xidos
Piroltico: Sales metlicas dispersas + O2 (o H2O) =
Oxido.
Una distincin entre ambos, en trminos de la natura-
leza de los estados intermedios que se generan, ha sido
discutida (21).
Estos procesos estn adquiriendo gran popularidad
ya que son de inversin no muy costosa y pueden ser
obtenidos gran cantidad de recubrimientos de gran cali-
dad. Las propiedades prcticas son alcanzadas funda-
mentalmente en condiciones oxidantes si bien compues-
tos como sulfuros o trabajar en condiciones reductoras
pueden tambin llevarse a cabo. Ejemplo de ello es la
preparacin de capas fotovoltaicas de SCd-SCu2 o calco-
genuros de S2 Ge, S3 AS2 los cuales tienen tiles propie-
dades pticas y son producidos a partir de vapores de
compuestos voltiles.
Como ejemplos de materiales depositados por esta
tcnica destacan:
xidos metlicos coloreados. Ej.: Co/Fe/Cr. Son
muy resistentes qumicamente. Utilizados en exterio-
res de edificios. No tienen propiedades elctricas con-
ductoras y por tanto no presentan reflexin en el
infrarrojo.
recubrimientos reflectantes y absorbentes de xidos
de Co, Ni, Cr, Ti, V, o mezclas a partir de organome-
tlicos.
produccin de recubrimientos de silicio elemental, el
cual presenta una mayor reflectancia que el xido. Se
produce por reaccin del silano, SH4, en atmsfera
reductora.
xido de titanio. Tiene un ndice de refraccin elevado
por lo que presenta propiedades reflectantes elevadas.
Tiene tambin caractersticas fotoqumicas interesan-
tes.
xido de hierro: presenta propiedades anlogas al
xido de titanio. Es coloreado.
Cr203 + Fe203 y V2O3 tienen tiles propiedades pti-
cas y electrnicas.
xido de estao. Exhibe excepcionales propiedades
electroconductoras cuando se dopa con Sb o F". Tiene
interesantes propiedades pticas, baja emisividad y
buena resistencia mecnica debido a s^i lubricidad
(extremo caliente-extremo fro).
In203 + Sn02 (ITO). Presenta excelentes propiedades
semiconductoras. Gran reflector del infrarrojo.
MoOx - WOx Presentan comportamiento electrop-
tico.
2.3. Procesos de deposicin fsica en fase de vapor o
deposicin a vacio
La familia de los denominados procesos de deposi-
cin fsica en fase de vapor (PVD) incluyen tres diferen-
tes tcnicas de recubrimiento: (1) evaporacin y conden-
sacin, (2) sputtering y (3) ion plating. La deposicin de
325

una pelcula a partir de una fase de vapor involucra,
aparte de la necesaria reaccin qumica (por ejemplo la
de formar xidos), los procesos fsicos de evaporacin,
condensacin, nucleacin y crecimiento, etc. Los par-
metros que controlan estas operaciones son tambin los
que determinan la estructura y microestructura, es decir,
su grado de cristalinidad, su orientacin, su pureza qu-
mica, su morfologa estructural superficial y en definitiva
sus caractersticas pticas, elctricas y mecnicas. lisis de superficies slidas es el publicado por Kane y
Los procesos de deposicin a vaco fueron inicial-
mente limitados a evaporacin a vaco y su aplicacin a
la ptica, donde son requeridos recubrimientos de alta
calidad, especialmente en lo relativo a la pureza y estruc-
tura de la capa. En este caso el material a depositar es
calentado por una varilla de tungsteno o por un haz de
electrones a presiones tan bajas como 1310"^Pa. La
pureza y estructura de la capa puede ser controlada va
presin de los gases residuales, velocidad de evaporacin,
temperatura y naturaleza del vidrio a recubrir. Haluros
(22), elementos qumicos (23), xidos (24), sulfuros (25),
y aleaciones han sido depositados por esta tcnica.
Debido a la naturaleza puntual de la fuente, las dificulta-
des en obtener recubrimientos en grandes reas y distan-
cias han hecho que el proceso sea caro y a veces
problemtico.
El sputtering a vaco donde el depsito es arrastrado
por una descarga de gas sobre un sustrato en movi-
miento, proporciona una mayor uniformidad al recubri-
miento, si bien hasta muy recientemente el proceso era
muy lento. El sputtering magntico ha logrado intensifi-
car las descargas de gas logrando unas velocidades de
deposicin mucho mayores. Mediante esta tcnica se ha
logrado intensificar las descargas de gas logrando unas
velocidades de deposicin mucho mayores. Mediante
esta tcnica puede depositarse cualquier metal y aleacin
no magntica y por introduccin de gases reactivos en la
cmara de vacio, se pueden obtener todo tipo de com-
puestos tales como xidos, nitruros, sulfuros, etc. En
general, las tcnicas reactivas en todas sus modalidades:
evaporacin (28), sputtering (29), ion plating (30) permi-
ten depositar todo tipo de compuestos sin ninguna difi-
cultad. En equipos semicontinuos es posible depositar y
producir recubrimientos a gran escala de grandes lminas
de vidrio. Recubrimientos conductores y semirreflectan-
tes de oro y plata son depositados satisfactoriamente por
esta va. As pues, el sputtering, la evaporacin a vaco
(26), junto al ion plating (27), tienen un ampHo abanico
de posibilidades ya que pueden ser depositados la mayor
parte de metales, aleaciones y compuestos tales como
xidos, sulfuros, nitruros, etc. Sin embargo, la inversin
es aka, dependiendo de las caractersticas del equipo, el
tamao del sustrato y la demanda de produccin.
3. TCNICAS DE ANALISIS Y CONTROL
DE RECUBRIMIENTOS
El desarrollo de nuevos recubrimientos no hubiera
sido posible sin el desarrollo paralelo de tcnicas analti-
cas capaces de controlar la calidad y naturaleza de los
films y medir su comportamiento. Esto exige conocer la
naturaleza qumica y fsica de los mismos sobre diminu-
tas cantidades de material con dimensiones de espesor
menores de una miera. Se ha de determinar la estructura
326
F. ORGAZ
cristalina, la composicin qumica y la microestructura y
conectarlas con las propiedades del film resultante.
En los ltimos diez aos se ha avanzado enorme-
mente en el desarrollo de tcnicas analticas que dan deta-
llada informacin sobre la estructura y composicin de
los recubrimientos, as como su transformacin, lo cual
no era accesible con las primitivas tcnicas. Un excelente
libro sobre tcnicas analticas instrumentales para el an-
Larrabbe (31). En general, el anlisis de recubrimientos
est referido a espesores muy pequeos que varan de
monocapas atmicas a varias mieras. En principio nin-
guna tcnica analtica simple es capaz de suministrar
todos los requisitos de informacin para caracterizar la
composicin y estructura del film por lo que una clara
imagen de los mismos slo puede emerger de una combi-
nacin de las mismas.
En la tabla I se presentan algunas de las tcnicas ana-
lticas utilizadas frecuentemente en el estudio y caracteri-
zacin de recubrimientos.
TABLA I
MTODOS DE ANALISIS
Composicin
Microsonda electrnica (EMPA)
Fluorescencia de rayos X (XRF)
Espectroscopia Auger (AES)
Espectroscopia fotoelectrnica de rayos X (XPS)
Especroscopia de iones secundarios (SIMS)
Retrodispersin Rutherford (RES)
Anlisis de reaccin nuclear (NRA)
Estructura
Diafraccin de rayos X
Microscopa electrnica de transmisin
Difraccin de electrones
Espectroscopia de reflexin infrarroja (IRRS)
Morfologa
Microscopa electrnica de barrio (SEM)
Microscopa electrnica de transmisin (TEM)
Microscopa ptica de reflexin
Interfases
Microscopa electrnica de transmisin
Retrodispersin Rutherford
Canalizacin de iones (ion Channelling)
Espectroscopia Auger
Espectroscopia fotoelectrnica de rayos X
Microanlisis
Microscopa de emisin de campo inico
Microscopa de electrnica de transmisin por
Barrido (STEM)
Microscopa electrnica analtica (AEM)
BOL. SOC. ESP. CERAM. VIDR. VOL. 24-NUM.5
 Recubrimientos. Una tecnologa en desarrollo en el campo del vidrio
La determinacin de la composicin elemental y su
distribucin con la profundidad o perfil, necesario para
la determinacin de la relacin composicin-propiedad
no es siempre fcil, especialmente en el caso de la existen-
cia de elementos ligeros y muy finos espesores (32). Las
tcnicas analticas convencionales usualmente no permi-
ten ni alta sensibilidad ni adecuada resolucin de pro-
fundidad. Por ejemplo, las tcnicas de microsonda elec-
trnica y fluorescencia de rayos X integran la
informacin en unas pocas mieras de profundidad de la
muestra y tienen bajas sensibilidades para los elementos
ligeros. Por consiguiente, un anlisis qumico exacto
para extremadamente finos recubrimientos, multicapas y
capas de reaccin superficial conteniendo gradientes de
composicin, puede requerir tcnicas adicionales. La
espectroscopia electrnica Auger y la espectrometra de
masas de iones secundarios (SIMS) junto a la espectros-
copia fotoelectrnica de rayos X (XPS) han sido utiliza-
das para investigar perfiles de composicin superficial
debido a que las profundidades de penetracin del haz
son pequeas (5A) (33). Espectroscopia Auger junto a
bombardeo inico han sido utilizadas (34) para la deter-
minacin de perfiles qumicos a nivel subatmico en
muestras de biovidrios corrodos. Sin embargo, estas
tcnicas presentan el inconveniente de que las profundi-
dades de deteccin son poco profundas por lo que es
necesario decapar la superficie a fin de determinar la
composicin en los pocos cientos de nonametros exterio-
res. Adems, existe una fuerte influencia del decapado
por bombardeo inico sobre la composicin qumica por
lo que medidas cuantitativas son difciles de obtener.
El uso de tcnicas nucleares para el anlisis de muy
finos recubrimientos sobre vidrio ha sido propuesto
recientemente (35). Retrodispersin Rutherford, (RBS)
de iones (usualmente "^He^) de alta energa (1. 8MeV), es
una extremadamente exacta herramienta para la deter-
minacin de la composicin en funcin de la profundi-
dad. Esta tcnica ha hecho posible analizar films de
varias mieras de espesor con una resolucin en profundi-
dad de varios cientos de A. Su dificultad est en su poca
sensibilidad para los elementos ligeros. Una tcnica com-
plementaria a RBS, especialmente til en el anlisis de
elementos de bajo nmero atmico, est basada en el
anlisis de reaccin nuclear (NRA) de reacciones induci-
das por partculas cargadas. Estas proporcionan infor-
macin sensitiva a istopos. Los productos de reaccin
observados son usualmente partculas cargadas, las cua-
les son detectadas y analizadas con el mismo sistema que
para RBS. Varios ejemplos de aplicacin de estas tcni-
cas son encontrados en la literatura (36). As han sido
utilizadas en el anlisis de resistores de alta calidad para
la industria microelectrnica, a base de tntalo dopado
con nitrgeno, con oxgeno o con nitrgeno-oxgeno,
depositados sobre AI2O3 policristalina o sobre sustratos
de vidrio. Igualmente han sido utilizadas en los procesos
de predeposicin de boro sobre silicio as como en el
anlisis de recubrimientos reflectantes comerciales y en
estudios de deposicin de TO2 sobre lmina de vidrio y
en pelculas absorbentes de TiN, Si02/Cr. El anlisis ha
proporcionado informacin del espesor, la composicin,
estequiometrica y secuencia de capas, de forma no des-
tructiva y de rpidos resultados.
La herramienta tradicional para determinar la estruc-
SEPTIEMBRE-OCTUBRE 1985
tura cristalina es la difraccin de rayos X. La microsco-
pa electrnica de transmisin tambin puede proporcio-
nar informacin acerca de la estructura cristalina cuando
se utilizan tcnicas selectivas adecuadas de ataque (37).
La difraccin de electrones se presenta tambin como
una tcnica adecuada en estructuras microcristalinas. La
espectroscopia de reflexin infrarroja (IRRS) ha demos-
trado ser sensitiva a los cambios qumicos y estructurales
que se producen, a travs del anlisis de los desplaza-
mientos de las frecuencias de los picos (38).
Para la determinacin de la morfologa superficial, la
microscopa electrnica de barrido o scanning sigue
siendo la tcnica habitual. Haciendo una rplica de la
superficie, a veces atacada previamente, y sombreando
con metales pesados es posible utilizar tambin la
microscopa electrnica de transmisin para examinar la
morfologa de la superficie de un recubrimiento. Igual-
mente es de amplio uso en el anlisis de films la micros-
copia electrnica de transmisin para examinar la morfo-
loga de la superficie de un recubrimiento. Igualmente es
de amplio uso en el anlisis de films la microscopa ptica
de reflexin.
Otro aspecto importante en el estudio y caracteriza-
cin de recubrimientos es el estudio de las interfases. Es
conocido que muchas de las propiedades de inters no
estn asociadas con el film depositado en s mismo sino
con los fenmenos de interfase. Ha sido recientemente
cuando se ha podido observar directamente la estructura
y composicin de las interfases a travs de la utilizacin de
diferentes tcnicas. La microscopa electrnica de trans-
misin y de barrido de secciones transversales da infor-
macin acerca de las interfases y de las propias capas
(39). Retrodispersin Rutherford y canalizacin de iones
(ion channelling) proporcionan a su vez informacin de
la composicin y estructura, respectivamente de interfa-
ses y capas. En situaciones en las cuales las interfases
pueden ser examinadas capa a capa, las tcnicas superfi-
ciales, particularmente la espectroscopia Auger y fotoe-
lectrnica son bastante tiles.
Como elemento de futuro debe decirse que paralela-
mente a la microfabricacin, existe una tendencia actual
hacia el microanalisis, esto es, la facultad para determi-
nar la composicin y estructura de microagregados de
material a escala de 10 a 100 A. En los ltimos aos est
habiendo importantes desarrollos en este campo tales
como la microscopa electrnica de transmisin por
barrido con sistemas de microanalisis incorporados
(microscopa electrnica analtica) (40) Estas tcnicas
exigen una serie de requerimientos funcionales tales
como alta resolucin (del orden de las dimensiones at-
micas), alta intensidad y ultravaco. Un sistema disponi-
ble comercialmente para microscopa de transmisin por
barrido, puede proyectar un haz de dimetro v
suficientemente intenso como para analizar un agregado
de 1.000 tomos en un vaco de 10"^ torrs.
En definitiva, debe decirse, que un anlisis til de
films e interfases requiere la combinacin de tcnicas,
algunas de las cuales deben ser adaptadas a cada uso, ya
que el anlisis de cada tipo tiene sus propios problemas y
sus propias soluciones. Es de esperar que en el futuro se
presentarn nuevos y espectaculares desarrollos en este
campo.
Por otra parte, es de gran significancia para aplica-
327

ciones prcticas la determinacin de las propiedades de
los recubrimientos tales como: espesor (por elipsometra,
interferometra, Talystep, etc), transmisin espectral en
el ultravioleta, visible e infrarrojo, conductividad elc-
trica, emisividad, resistencia a la abrasin, etc. Existe al
respecto una amplia variacin de equipos en el mercado
capaces de establecer un rpido control para cada aplica-
cin.
4. APLICACIONES
Como se ha sealado anteriormente, los tratamientos
superficiales del vidrio modifican sus propiedades pti-
cas, mecnicas, elctricas, etc. dando lugar a materiales
TABLA II
APLICACIONES GENERALES DE RECUBIMIENTOS SOBRE SUSTRATOS DE VIDRIO
Funciones elctricas
Materiales aislantes (Al203,BeO, MgO)
Materiales ferroelctricos (Ti03Ba, TiOjSr)
Materiales semiconductores (Ti03Ba, V2O5, Sn02
/ S b / F In203/Sn02, Sn04Cd, Ti02/Pd
Materiales conductores inicos
-AI2O3, Zr02
Funciones pticas
Capas anti-reflectantes
(Capas porosas, F2Mg, Ti02-Ta205 SO2-TO2, etc)
Capas absorbentes
Capas altsima transmisin pptica
Capas de emisin secundaria
Almina translcida
Cermicos PLZT
Funciones qumicas
Sensores de gases (ZnO, Sn02, Fe203)
Baja atacabilidad qumica
(capas SO2, Si02-Zr02, SO2-AI2O3)
Sensores de humedad
Catlisis orgnica
Funciones mecnicas
(Cambio inico, capas de bajo coeficiente dilatacin).
Capas Sn02 y plsticos
(Extremo fro-extremo caliente)
Capas resistentes abrasin (fosfatos metlicos, nitruros,
etc)
Funciones biolgicas
Capas de hidroxiapatito y biovidrios (Si02-CaO-Na20-
P2O5)
328
F. ORGAZ
con una funcionalidad diferente. En la tabla II se presen-
tan diferentes tratamientos utilizados, de acuerdo con la
funcionalidad perseguida. Algunos de ellos son descritos
en este nmero por lo que en esta revisin solo se descri-
birn dos de ellos, que por su importancia tecnolgica
estn ocupando actualmente grandes esfuerzos de inves-
tigacin; tales son los recubrimientos antireflectantes y
los recubrimientos reflectantes de calor de gran impor-
tancia en el campo de la conservacin y conversacin de
la energa.
4.1. Recubrimientos anti-reflectantes
Los recubrimientos anti-reflectantes constituyen una
parte muy importante de todos los recubrimientos pti-
Aplicaciones
Sustratos de circuitos integrados
Condensador cermico
Elctricamente conductores sensores de infrarojo
Filtros de luz
Sensores de oxgeno
Electrolitos bateras.
Optica tradicional (lentes, etc)
Uso fotovotico. Optica de lseres
Coloreadas, fotocrmicas, fotosensibles, electrocr-
micas.
Optica integrada
Luminiscentes
Lmpara vapor alta tensin de sodio
Optoelectrnicos
Detectores de hidrgeno
Botellas y productos de vidrio
Endurecimiento qumico
Proteccin mecnica
envases, lubricacin
prtesis
BOL. SOC. ESP. CERAM. VIDR. YOL. 24-NUM.5
Recubrimientos. Una tecnologa en desarrollo en el campo del vidrio
eos producidos actualmente. Tales recubrimientos son
utilizados en lentes para objetivos fotogrficos, en vidrios
oftlmicos, en lentes y prismas de microscopios, binocu-
lares, etc. La deposicin de recubrimientos anti-
reflectantes aumenta la transmisin de la luz en sistemas
de lentes pticas y favorece el contraste de imgenes.
Ahora bien, un renovado inters por esta ya vieja rea de
la tecnologa ha surgido recientemente como consecuen-
cia de los nuevos requerimientos exigidos en la aplicacin
del vidrio en energa solar y en la ptica de lseres.
Como es sabido, la reflexin de la radiacin por un
medio transparente viene dado por la ecuacin de Fres-
nel:
R - (1/2) [sen2 (i r)/sen2(i + r) + tg2(i r)/
tg2(i + r)] [1]
donde i es el ngulo de incidencia y r el ngulo de refle-
xin. Para incidencia normal (i = 0), esta ecuacin se
simplifica a:
R = [(n2 n ,)/(n2 + n,)]
donde Uj es el ndice de refraccin del medio y n2 el indice
de refraccin del sustrato. Para una interfase de aire (n =
1,), los vidrios sodo-clcicos tendrn unas prdidas por
reflexin del 4,3% aproximadamente. Para una superfi-
cie de silicio, con un indice de refraccin de Usi = 3,9, las
prdidas por reflexin seran del orden del 35%. Estos
valores seran mucho ms altos para ngulos de inciden-
cia elevados. Esto conduce a un desperdicio de energa y
consiguientemente a una falta de eficiencia de los apara-
tos o sistemas que utilizan luz transmitida. El recubri-
miento de la superficie del sustrato con un film no absor-
bente ha sido va tradicional para eliminar tales efectos.
Para una superficie recubierta, la reflexin mnima viene
dada por
Rm = [(nc2-n,n2)/(nc2 + n,n2)P
donde Uc es el indice de refraccin del recubrimiento, Uj el
indice de refraccin del medio y n2 es el indice del sus-
trato. Para reflectancia mnima igual a cero, la relacin
entre ndices debe ser:
1/2
Uc = (nin2)
y el espesor del film, Cf debe reunir el requerimiento del
espesor ptico de un cuarto de longitud de onda, es decir:
t{= (1/4) (Xmin/nc)
donde >.min es la longitud de onda de la luz a la cual el
mnimo es producido.
Las ecuaciones [2], [3], [4] y [5] representan, pues,
una simplificacin de los parmetros que deben ser anali-
zados para determinar el ndice de refraccin y el espesor
de un recubrimiento, y son aplicables para una longitud
de onda y temperatura, es decir, pueden ser aplicables
para una estrecha banda de longitud de onda. Esto signi-
fica, que para un vidrio de ndice de refraccin de 1,52, el
recubrimiento anti-reflectante (AR) deber tener un
ndice de refraccin de 1,23. Este requerimiento de tan
bajo ndice de refraccin, hace prcticamente imposible
disear un recubrimiento de capa simple, ya que el mate-
rial inorgnico de ms bajo indice en el F2Mg que tiene
un ndice de 1,38. Nos obstante este compuesto ha sido
SEPTIEMBRE-OCTUBRE 1985
Utilizado ampliamente (41) al tener una buena adherencia
y resistencia a la abrasin y al rayado. Dicha capa es
tambin resistente a la humedad, atmsfera y disolventes
orgnicos. Sin embargo la efectividad de dicha capa de
F2Mg es mayor a medida que aumenta el indice de
refraccin del sustrato de vidrio. As, la deposicin de
una capa de alto ndice de refraccin sobre el sustrato
aumenta la capacidad reflectante del F2Mg. Tales siste-
mas de doble capa han sido utilizados por varios autores
(42). Cuando se requiere un film de baja reflexin en un
amplio rango de longitudes de onda, son utilizados films
multicapas basados en construcciones alternativas de
materiales de alto y bajo ndice de refraccin con varios
espesores. Clculos de tales recubrimientos anti-reflec-
tantes de ancha banda han sido llevados a cabo por dife-
rentes autores (43). Los modernos recubrimientos anti-
reflexin generalmente presentan de tres a siete capas. En
la figura 1 se presenta un tpico recubrimiento tricapa a
base de F2Mg-SZn-Al203.
[2]
Q.0^4f
[3]
Fig. 1. Curva de reflectancia para un triple recubrimiento de
F2Mg-SZn-l20y
Sin embargo, con respecto al espectro solar, cuya dis-
tribucin de longitudes de onda para aplicaciones foto-
[4] voltaicas de silicio vara de 0,3 a 1,1 |im, la situacin
fsica que describe los parmetros de un recubrimiento de
un cuarto de longitud de onda, es ms compleja. Existe
necesidad de recubrimientos de banda ahcha y amplio
ngulo para aplicaciones de energa solar y para aquellos
[5]
recubrimientos que han de sufrir altas intensidades de luz
en ptica de lseres. Seis son al menos los factores que
han de tenerse en cuenta al disear un recubrimiento de
este tipo, los cuales varan con la longitud de onda a lo
largo de la regin espectral que se considere:
a) el ndice de refraccin del sustrato, el cual no es
lineal y decrece con la longitud de onda.
b) la reflexin del sustrato. La reflectancia aumenta
al disminuir la longitud de onda.
c) el ndice de refraccin del recubrimiento, el cual
decrece con la longitud de onda.
d) energa del espectro solar.
e) respuesta espectral.
f) reflectancia del recubrimiento anti-reflectante. La
aplicacin de un recubrimiento AR de un cuarto de lon-
gitud de onda produce una reflectancia mnima en una
329

estrecha longitud de onda, aumentando en ambos extre-
mos.
Esta compleja situacin fsica indica el grado de difi-
cultad en la determinacin del espesor ptimo y del
ndice de refraccin de un recubrimiento de un cuarto de
longitud de onda. El ndice de refraccin ideal de un
recubrimiento AR a fin de alcanzar mxima efectividad a
lo largo del espectro solar, debe ser una funcin de la
longitud de onda y seguir la ecuacin [4]. El recubri-
miento integral de gradiente (GIAR), producido por la
modificacin de la superficie del vidrio, parece ser una
solucin a estos problemas (figura 2). Estos recubrimien-
tos estn formados por ataque qumico de un vidrio de
borosilicato a travs de un proceso de separacin de fases
y lixiviacin (44). Eligiendo la combinacin correcta de
composicin, tratamiento trmico y condiciones de ata-
que, es posible producir un film con gradiente de porosi-
dad y consecuentemente con gradiente de ndice de
refraccin, capaz de presentar las caractersticas anti-
reflectantes deseadas.
Z=0 Z=d
PROFUNDIDAD EN MATERIAL
Fig. 2. Representacin esquemtica de variacin del ndice de refrac-
cin con a profundidad, de un film GIAR obtenido por separacin de
fases, lixiviacin y ataque
El efecto de la porosidad sobre el ndice de refraccin
se establece por la relacin existente entre ndice de
refraccin y densidad. El ndice de refraccin puede ser
bajado al bajar la densidad y por tanto al aumentar la
porosidad. Sin embargo, se requiere que el tamao de
poro sea sustancialmente ms pequea que la longitud de
onda de la luz, y que la distribucin de poros sea homo-
gnea a fin de no afectar a la transmisin de la luz y
causar dispersin. La densidad e ndice de refraccin en
este tipo de material estn relacionados por la expresin:
(n 2 l)/(n2 _ 1) = dp/d
donde n y d son el ndice de refraccin y densidad del
material no poroso y Up y dp las correspondientes al mate-
rial poroso. La ecuacin [6] puede ser escrita en trminos
de porosidad como:
np = (n2 1)(1 P/100)+ 1
donde P es el porcentaje de porosidad.
330
F. ORGAZ
La preparacin de capas superficiales microporosas
superficiales ha sido realizada no solo por las tcnicas de
ataque referidas anteriormente sino tambin por otras
tcnicas. Las tcnicas de sol-gel se presentan como exito-
sas. Yoldas (45) prepar una capa transparente porosa de
AI2O3 con una porosidad abierta de 63-65% con poros de
tamao inferior a 100 A. y un ndice de refraccin super-
ficial de L296. Tales films se presentan como excelentes
candidatos para la preparacin de capas simples AR
sobre vidrios sodico-calcicos. Por su parte Mukherjee
(46) produjo por esta tcnica films de borosilicato sobre
diferentes sustratos de vidrio los cuales, despus de tra-
tamiento trmico y lixiviacin, daban lugar a reflectivi-
dades de 0,20,4% a Ijim y a ngulos de incidencia de
hasta 70% con unos umbrales al deterioro lser de hasta
25J/cm2.
La principal desventaja de todos los recubrimientos
anti-reflectantes GIAR ha sido su relativamente baja
resistencia al deterioro, especialmente a la abrasin y al
deterioro causado por las intensidades de luz experimen-
tadas en la ptica de lseres (47). Esto hace que, aun
cuando puedan ser utilizados en sistemas pticos prote-
gidos, su utilizacin a gran escala necesita de mtodos
capaces de endurecer estos films sin destruir sus corres-
pondientes propiedades pticas.
4.2. Capas reflectantes y su papel en el campo de la con-
prvpinn
servacin yv conversin
ponvArciti ()^
de ]la^ energa.
ener&a.
Toda funcin de proteccin antisolar puede ser lle-
vada a cabo a varios niveles de realizacin. A un bajo
nivel, se trata simplemente de acristalamientos colorea-
dos en la masa; a nivel medio, los acristalamientos com-
portan una capa de xido el cual interviene tanto por el
poder reflectante que le confiere un elevado ndice de
refraccin como su propia absorcin; por ltimo, a un
ms alto nivel, se saca partido de las propiedades pticas
de las capas metlicas o de capas semiconductoras. As,
pues, la reflectividad de vidrios puede ser incrementada
por el uso de metales, particularmente plata, oro, alumi-
nio, cobre, rodio, nquel, etc. y sus aleaciones, as como
con capas dielctricas las cuales manifiestan muy bajos
valores del factor de absorcin, as como una reflectivi-
dad selectiva en un cierto intervalo del espectro, depen-
diendo del material aplicado. Esto significa que las capas
ms interesantes son las que concillan una buena trans-
parencia en el espectro solar y un poder reflectante ele-
vado en la zona del infrarrojo. Esto lo cumplen los meta-
les y ciertos semiconductores, los cuales, al ser
fuertemente reflectantes en el infrarrojo, se prestan a la
creacin de capas dbilmente emisivas. Segn la ley de
Kirchoff, existe una relacin simple entre la emisividad y
el coeficiente de reflexin: R + E = 1 . Ahora bien, el
aumento de espesor reducir la transmisin por lo que un
[6] compromiso entre reflectancia y transmitancia ha de ser
buscado. Un espejo reflectante de calor es definido, pues,
como un recubrimiento selectivo de longitud de onda que
exhibe apropiada reflectancia o transmitancia para la
energa radiante en tres partes del espectro electromagn-
tico. Estas regiones son la de alta energa solar (inclu-
yendo el visible) entre 0,3 y 0,77^m, la zona del infra-
[7] rrojo prximo entre 0,77 y 2,0|am y la zona del
infrarrojo entre 2,0 y 100|im. Los espejos reflectantes
BOL. SOC. ESP. CERAM. VIDR. VOL. 24-NUM.5
 Recubrimientos. Una tecnologa en desarrollo en el campo del vidrio

generalmente exhiben una transmitancia media o alta en 1,0

la zona del visible y alta reflectancia en el infrarrojo. Las
propiedades para el infrarrojo prximo varan de
a) ^
acuerdo con el diseo y la aplicacin. Un espectro solar 0,8
simplificado junto a dos superpuestos cuerpos negros y a
un espejo reflectante de calor se muestra en la figura 3. o: 0,6

- 0,4
LONGITUD DE ONDA [eV] Infrarrojo
4 3 2 1 0L5 025 O l ^ Cp65 Q025 ^ uv iViSi irp
0,2

0^ o[5 i 2 5
10 50
LONGITUD DE ONDA [>am]

0^ Q5 1 2 5 10 2D 50 100
LONGITUD DE ONOA[iuij
Fig. 3.Espectro solar A M2 con dos cuerpos negros (4(P C, 30 C) asi
como reflectancia idealizada de un recubrimiento reflectante de calor a
base de dixido de estao.
Desde el punto de vista de la utilidad de un espejo
reflectante de calor en un acristalamiento simple de un
edificio, caben dos situaciones diferentes. La primera es
para calentamiento en invierno, donde es importante
aprovechar la energa solar a fin de reducir consumo
energtico en el edificio. El espejo reflectante de calor
ideal sera aquel que transmitiera tanto la zona de alta
energa del espectro como la zona del infrarrojo prximo
hasta una longitud de onda de aproximadamente 2|im,
como se ve en la figura 4a. El infrarrojo trmico es refle-
jado hacia el interior del edificio. De esta manera la
mayora de la energa solar es aprovechada durante el
da. La segunda situacin poda ser tratada como una
reduccin en la energa de refrigeracin, donde toda la
energa infrarroja es reflejada a fin de reducirle el con-
sumo de aire acondicionado. Un espejo reflectante de
calor de este tipo debe tener la propiedad bsica mos-
trada en la figura 4b. El recubrimiento permite una
transmisin de la energa visible a travs de la ventana,
mientras que toda la energa infrarroja, incluyendo la del
sol, es reflejada fuera del edificio. El diseo de un ptimo
espejo de reflexin de calor involucra un compromiso
entre transmitancia en el visible y reflectancia en el infra-
rojo. La situacin ms compleja se presenta cuando se
han de satisfacer los requerimientos de ahorro de calor en
invierno y de aire acondicionado en verano. Para este
caso, la mejor situacin la presentan los recubrimientos
con propiedades variables y reversibles, tales como los
fotocrmicos, termocrmicos o materiales electrocr-
micos.
Es concebible, por tanto, que dentro de unos aos las
unidades de acristalamiento incorporen vidrio recubierto
y puedan reemplazar a los clsicos dobles acristalamien-
tos como forma estndar de ventana para la construc-
cin.
SEPTIEMBRE-OCTUBRE 1985
infrarrojo
0,4 kuv IviS
IP+
o^h
T
0,2 0,5 11 2 5 10 50
LONGITUD DE ONDA [^m]
Fig. 4. Respuestas espectrales idealizadas de espejos reflectantes de
calor para sistemas de aprovechamiento de calor(a) y para sistemas de
aprovechamiento de refrigeracin(b).
4.2.1. DEPSITOS TRANSPARENTES A BASE DE
CAPAS METLICAS
Los metales tales como el oro, la plata, etc. permiten
conciliar una buena reflexin infrarroja y una transmi-
sin en el visible suficiente cuando se trata de realizar
acristalamientos antisolares; reduciendo el espesor de la
capa se puede lograr el objetivo de una transparencia
adecuada. Ahora bien, debe mantenerse un equilibrio
entre transmitancia y reflectancia, ya que por debajo de
un cierto espesor se pierden las propiedades de reflectan-
cia y conductividad elctrica. Una solucin consiste en
interponer entre el vidrio y la capa metlica un material
que fije el metal y evite su segregacin; el xido de bis-
muto ha demostrado presentar esta propiedaci (48). En la
figura 5a y 5b se representan los espectros de transmisin
y reflexin de una capa de oro y de plata depositados
sobre sustratos de vidrio, respectivamente. En las figuras
5c y 5d se representan los espectros obtenidos deposi-
tando las mismas cantidades de metal en presencia de
una capa intermedia de xido de bismuto de unos pocos
angstrons. Puede observarse como la incorporacin de
bismuto favorece una mayor transmisin en el visible y
una mayor reflexin en el infrarrojo, lo que mejora la
utilidad del recubrimiento. Resultados anlogos son
obtenidos con otros dielctricos tales como xido de
titanio (49).
331
 F. ORGAZ

rencia en el visible es lograda con materiales con un alto

lOOi
salto de banda tipo aislador. Algunos semiconductores
depositados como finas pelculas sobre sustratos de
vidrio permiten la combinacin de ambas caractersticas
cuando se dopan adecuadamente. Los ms importantes
de stos son los xidos de indio, estao y cadmio y mez-
clas de estos xidos as como los xidos de cinc, vanadio,
hierro y titanio. Materiales como TiN han sido tambin
utilizados (51). Los films de xido de indio dopado y de
xido de estao dopado con F~,Sb3^(52) e incluso P(53),
junto a mezclas de ambos (xidos de estao-xido indio
o ITO) son los que presentan mayor inters ya que pue-
1,2 1,6 2,0 Q.2 0^4 0^6 den ser preparados con una alta conductividad elctrica,
LONGITUD DE ONDA [um] adems de ser altamente transparentes en el visible y en el
infrarrojo prximo. Adems, tales capas son fsicamente
y qumicamente resistentes y se adhieren bien a muchos
100] sustratos. Ambos son conductores tipo-n procedente de
vacantes de oxgeno para el Sn02 (54) y de desviaciones
de la estequiometra para el lujOa (55). La sustitucin de
In^^ por Sn"*^ determina un nivel de donor en la amplitud
de la banda de energa (56). lUjOa Y Sn02 presentan una
anchura de banda entre 3,5 y 4 eV. Las propiedades fsi-
cas, elctricas y pticas dependen de factores tales como
la concentracin de dopante, de las desviaciones este-
quiomtricas, mtodo de preparacin, temperatura,
espesor, presin parcial de oxgeno, etc. (57). Los par-
metros tpicos para un semiconductor ITO son: resistivi-
0,4 0,6 0 ^ 1,2 0,2 0,4 O dad de 5.10'^ n cm, coeficiente de transmisin en el
LONGITUD DE ONDA [/xm] rango entre 0,3 y l,5^tm entre 80 y 90% y una resistencia
de lmina R^ de 10 l. Las densidades de electrones libres
encontradas son del orden de lO"^ cm"^ y las movilidades
Fig. 5.Espectros de transmisin y reflexin para depsitos transpa-
rentes a hase de capas metlicas, a) Oro. b) plata, c) oro sobre subcapa
de B2O2 y d) plata sobre subcapa de BijOy

La principal desventaja de los depsitos metlicos es

la falta de adherencia sobre el sustrato, por lo que necesi-
tan una cierta proteccin lo cual se realiza a travs del
doble acristalamiento. Actualmente este tipo de recubri-
mientos en ventanas multifuncionales existen en el mer-
cado, empleando, por ejemplo, capas de oro sobre la
parte interna del panel externo del doble acristalamiento,
reteniendo la radiacin del infrarrojo lejano generado en
los sistemas de calentamiento (50). Actualmente tales
ventanas son realmente caras, por lo que su mercado est
limitado a edificios de prestigio. Sin embargo, en muchos
laboratorios se est trabajando actualmente en solucio-
nes ms econmicas, tratando de depositar capas de 400 600 800 1200
xido con similares, si no mejores, cualidades que los
recubrimientos metlicos. Un doble acristalamiento no ITO ITO
excesivamente caro que sea capaz de prevenir la penetra-
cin de la radiacin infrarroja solar en el edificio y de
retener el calor generado durante las estaciones fras, con 12 12
un K=I,4 W/m^C, alcanzar la produccin en masa mm mm
dentro de no muchos aos. Bsicamente estos recubri- AIRE AIRE
mientos estn formados por materiales a base de xidos
semiconductores.

4.2.2. DEPSITOS TRANSPARENTES A BASE DE

CAPAS SEMICONDUCTORAS Gnnri 6 mnn 6 mfn

Una eficiente reflectancia infrarroja de ancha banda VIDRIO FLOTADO

es obtenida de forma eficaz en materiales altamente con- Fig. 6.Curvas de transmisin y reflexin de un triple acristalamiento
ductores de tipo metlico, mientras que buena transpa- recubierto con ITO obtenido por sol-gel.

332 BOL. SOC. ESP. CERAM. VIDR. VOL. 24-NUM.5

 Recubrimientos. Una tecnologa en desarrollo en el campo del vidrio
0.4 \p 2 15
LONGITUD DE ONDA [ x ]
Fig. 7.Curvas de reflexin y transmisin espectral de diferentes recu-
brimientos de Sn02 y /2^3 dopados: p = 0,3 um.
SnOj: Sb N= 6.10^^ cnn
....InjOy Sn N = .lO^Unf^
.~.\n20^: Sn N= 13.10^^ cm'^
del orden de 10-70 cm'^y-is'^ si se dopan adecuada-
mente. Tales capas han sido preparadas por pulveriza-
cin (58), CVD (59), r.f. sputtering (60), sputtering reac-
tivo (61), evaporacin reactiva (62), magnetron sputte-
ring (63), etc., cuyas propiedades son bastante parecidas
cuando son tratados a temperaturas inferiores a 500 C
(64). Recientemente la tcnica de sol-gel ha mostrado ser
una eficiente y competitiva va para preparar estos recu-
brimientos (14). En la figura 6a y 6b se presentan los
espectros de reflexin y transmisin de un triple acrista-
lamiento con un recubrimiento de ITO entre dos paneles
de vidrio ordinario, obtenidos por el proceso de sol-gel.
Los recubrimientos de estannato de cadmio son
conocidos tambin por tener alta conductividad elctrica
y baja absorcin en el visible cuando son procesados bajo
condiciones bien elegidas (9, 65), con la ventaja de ser
menos caros. Anlogas propiedades presenta el xido de
cinc (66).
4.2.3. RELACIONES TERICAS RELEVANTES
Las propiedades pticas estn relacionadas con las
propiedades elctricas a travs del modelo del electrn
libre de Drude (67). La reflexin de la radiacin en un
recubrimiento de una capa metlica de un depsito
transparente semiconductor es explicado por la presencia
de portadores libres de carga.
Las propiedades ms relevantes que han de ser descri-
tas son los valores de transmisin mxima alcanzados en
el visible, los valores mximos de reflectancia en el infra-
rojo, as como el correspondiente borde de absorcin.
Todos estos valores estn correlacionados con el espesor
del film, y con la densidad y movilidad de los electrones
libres y pueden ser calculados utilizando las ecuaciones
de interferencia para un material con constantes pticas
n y k (68).
La ecuacin clsica de Drude para la denominada
longitud de onda de plasma, Xp, puede ser usada para
calcular el lmite entre la transmisin y la reflexin de la
radiacin. Esta frecuencia depende fundamentalmente de
la concentracin de portadores libres de carga, N, y viene
dada por la expresin:
1/2
Xp = 27rCo (Ne2/eo ^Lm* - 72)-V [8]
SEPTIEMBRE-OCTUBRE 1985
donde e es la carga electrnica, m* es la masa efectiva de
los electrones libres en la banda de conduccin, 8L, es la
constante dielctrica del material sin electrones libres, SQ
la permitividad del espacio libre, 7, la constante de amor-
tiguamiento electrnico, 7 = e/m*u, u la movilidad y CQ
la velocidad de la luz en el vaco.
Un filtro con borde muy profundo, sugiere un amor-
tiguamiento electrnico pequeo por lo que 7^ puede ser
despreciado en la ecuacin [8]. Puesto que la masa efec-
tiva de los portadores de carga, m*, no difiere en la prc-
tica de la masa de un electrn libre, la eficacia de la capa
depende de la concentracin de portadores, N, y de su
movilidad, u. Por tanto, el borde de transmisin puede
ser desplazado cambiando la densidad electrnica, N, y
esto se realiza dopando el xido semiconductor.
En la regin de transmisin, las prdidas son debidas
a la absorcin de los electrones libres de la capa de espe-
sor d. Dicha absorcin viene dada por la expresin:
A = (X2e3/47r2oC3o nm*2) (Nd/u) i [9]
En la regin de reflexin infrarroja, las prdidas son
debidas a dos efectos diferentes. Para pelculas muy
finas, la radiacin puede penetrar parcialmente en el sus-
trato a travs de la capa conductora, el cual en el IR es
casi un cuerpo negro absorbente. Pelculas muy espesas
son equivalentes al material en masa y la radiacin no
reflejada es directamente absorbida por la pelcula. Tales
prdidas vienen dadas por la expresin:
l-R = (47reoCo/e)(l/Ndu) [10]
La reflexin infrarroja puede ser calculada tambin a
partir de la resistencia superficial del film
R = (1 + 2 eoCoRa)-^ [11]
Una comparacin de las prdidas dadas por las ecua-
ciones [9] y [10] muestra que ambas prdidas no pueden
minimizarse simultneamente. Mientras que las prdidas
IR decrecen con Nd, las prdidas visuales incrementan.
Esto significa que para una serie de filtros con diferentes
N y d existe una correlacin entre ambas prdidas, la cual
es independiente de N y d.
A (1 - R) = (Xe/7rCom* u)2/n [12])
siendo n el ndice de refraccin del film a la longitud de
onda \. Un filtro con relativamente bajas prdidas en el
visible y en el infrarrojo viene, pues, reptesentado por
una hiprbola donde el segundo miembro de la ecuacin
[12] es tan bajo como posible. Esto significa, indepen-
dientemente de Nd, que la movilidad u y la masa efectiva
m* de los electrones libres debe ser lo ms alta posible;
estos requerimientos han de ser buscados eniel material
durante su preparacin. Puede ser demostrado que para
un ptimo recubrimiento transparente reflectante de
calor, se necesita una movilidad electrnica alta de al
menos 4,0 10"^ m^V^s'^ y una densidad electrnica de
aproximadamente 3.102^ m"^
En la figura 7 se presenta la tpica reflexin y transmi-
sin espectral de capas semiconductoras reflectantes de
calor sobre sustrato de vidrio. Las variaciones en la
regin de corta longitud de onda son debidas fundamen-
talmente a fenmenos de interferencia. La transmisin
media est entre el 85 y 90%. El espesor de la capa puede
333
 F. ORGAZ

ser calculado entre dos mximos o dos mnimos (69) por BIBLIOGRAFA
la expresin:
e = (MX,2)/2n(X, - 2) [13] 1. VOSSEN, J.L., KERN, W . : Thin Films Processes. Edit.
Academic Press, New York, 1978.
donde M es el nmero de oscilaciones entre dos extremos 2. MAISSEL, L.I., GLANG, R . : Handbook of thin film
de longitudes de onda Xj y X2 Y ^ ^s el ndice de refrac- technology. Edit. McGraw Hill, New York 1970.
cin. 3. PULKER. H.K.: Coating on Glass. Edit. Elsevier,
New York, 1984.
4.2.4. EJEMPLOS DE APLICACIN DE CAPAS 4. PLUMAT, E.: Glass Ind. (1981) 14-18.
TRANSPARENTES DE BAJA EMISIVIDAD 5. SCHWEIG. B.: Mirrors. Edit. Pelham Books, London
1973.
Las aplicaciones de estos recubrimientos las encon- 6. BLUM, N . , HOGABUM, H . : Principles of electropla-
tramos en el campo de la ptica, electrnica, energa ting and Electroforming. Edit. McGraw Hill, New
solar, etc. York, 1940.
El primer uso industrial de estas capas fue como sis- 7. HERRANZ, D . : Planta para metalizado de vidrios.
tema de calentamiento transparente para el deshielo de E.T.S. Ingenieros Industriales de Madrid, 1983.
parabrisas de aviones. Actualmente son usadas como 9. DiSLiCH, H., HUSSMANN, E.: Thin solids films, 77.
ventanas pticas del espectro solar y como conductores (1981) 129-139.
transparentes. 10. DiSLiCH, H.: / . Non-Cryst. Solids 57(1983) 371-388.
En el campo de la conversin de la energa y ms 11. ORGAZ, F . , CAPEL., F.: XIV International Congress
concretamente en la conversin fotovoltica, estos recu- on Glass. New Delhi, India 1986 (en prensa).
brimientos son vlidos para la produccin de electrodos 12. MUKHERJEE, S., LONDERMILK, W.: /. Non-Crvst.
transparentes de clulas solares de SCd/SCu (70). La Solids 48. (1982) 177-184.
eficiencia en sistemas de calentamiento solar ha sido 13. ORGAZ, F., RAWSON, H . : J"^ Workshop on Glasses
notablemente incrementada, tanto cubriendo los paneles from gels, Montepellier, 1985.
con recubrimientos antireflectantes de S3N4, como utili- 14. ARFSTEN, N . : J. Non-Cryst. Solids 61. (1984) 243.
zando en el lado opuesto al absorbente un sustrato de 15. SCHRODER, H . : Phys. Thin Films (1969) 87-140.
vidrio recubierto con un conductor de Sn02 ITO (71). 16. BLODGETT, K . , LANGMUIR, L : Phys.Rev. 51. (1937)
Electrodos transparentes de ITO y Sn02 son igualmente 964.
utilizados como displays digitales y como diodos emiso- 17. KERN, W . , DECKERT, C : Chemical, etching, en Vos-
res de luz. Aplicaciones electrotrmicas antiniebla, apan- sen, J. y KERN, W. (edit). Thin film processes. Edit.
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en general (72), (73), en lmparas de sodio e incandescen- 18. DRESNER, J.: RCA Review 30. (1969) 322.
tes (74), (75), (figura 8) recubrimientos antiestticos, 19. PITT, C , WALPITA, L.: Thin solids films 68 (1980)
resistores de alta estabilidad, apantallamiento de 101.
microondas, etc. son algunas otras de sus muchas 20. BLOCHER, J.M. (Edit). Proc. 8^^ Int CVS Conf. The
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SEPTIEMBRE-OCTUBRE 1985 335

 PUBLICACIONES EDITADAS POR LA
SOCIEDAD ESPAOLA DE CERMICA Y VIDRIO
PRECIO
Socios No socios

I Semana de estudios cermicos (Madrid, 1961) 600 800

II Semana de estudios cermicos (Madrid, 1963) 600 800
III Semana de estudios cermicos (Madrid, 1965) 600 800
IV Semana de estudios cermicos (Madrid, 1967) 600 800
XI Congreso Internacional de Cermica (Madrid, 22-28 septiembre 1968) . 2.000 2.000
Terminologa de los defectos del vidrio (Madrid, 1973) 800 1.000
Horno elctrico de arco (I Reunin Monogrfica de la Seccin de Refracta-
rios, Marbella, 28-30 mayo, 1973) 500 700
El caoln en Espaa (Madrid, 1974) E. Galn Huertos y J. Espinosa de los
Monteros .200 1.500
Refractarios en colada continua (Madrid, 1974) 500 700
Refractarios en la industria petroqumica (III Reunin Monogrfica de la
Seccin de Refractarios, Puerto de la Cruz, 2-3 mayo, 1976) 500 700
Refractarios para la industria del cemento (Madrid, 1976) 500 700
Refractarios para tratamiento de acero y cucharas de colada, incluyendo
sistemas de cierre de cucharas (XX Coloquio Internacional sobre Refracta-
rios, Aachen, 13-14 octubre 1977) 3.000 3.500
Refractarios para incineradores industriales y tratamiento de residuos urba-
nos (XXI Coloquio Internacional sobre Refractarios, Aachen, 19-20
octubre 1978) 3.000 3.500
1.** Jornadas Cientficas. El color en la cermica y el vidrio (Sevilla, 1978) .. 800 1.200
Pastas Cermicas (Madrid, 1979) E. Gippini (Agotado) 2.000 2.500
2/^^ Jornadas cientficas. Reactividad de slidos en cermica y vidrio (Valen-
cia, 1979) 800 1.200
3.' Jornadas cientficas (Barcelona, 1980) 1.300 1.600
4."' Jornadas cientficas (Oviedo, 1981) 1.500 2.000
Separacin de fases en vidrios. El sistema Na2O.B2O3.SiO2 (Madrid, 1982)
J. Rincn y A. Duran 1.500 2.000
I Congreso Iberoamericano de Cermica, Vidrio y Refractarios (dos vol-
menes) (Torremolinos, 7-11 junio 1982) (Madrid, 1983) 4.500 4.500
5."* Jornadas cientficas. (Santiago de Compostela, 1984) 1.500 2.000
Tablas cermicas (Instituto de Qumica Tcnica. Universidad de Valencia) .
Vocabulario para la industria de los materiales refractarios (espaol-francs-
ingls-ruso) UNE 61-000 (Madrid, 1985) 4.500 4.500
Jornadas sobre materiales refractarios y siderurgia (Arganda del Rey, 4-5
mayo 1984. Madrid, 1985) 4.500 4.500

Los pedidos deben dirigirse a: SOCIEDAD ESPAOLA DE CERMICA Y VIDRIO

Ctra. Valencia, Km. 24,300
ARGANDA DEL REY (Madrid)

SERVICIOS DE DOCUMENTACIN DE LA SOCIEDAD ESPAOLA DE CERMICA Y VIDRIO

La Sociedad Espaola de Cermica y Vidrio ofrece a sus socios los siguientes servicios de documentacin:
Fotocopias de artculos.
Traducciones de artculos.
Perfiles bibliogrficos.
Revisiones monogrficas.