You are on page 1of 30

UNIVERSIDAD NACIONAL DEL CENTRO DEL PERU

FACULTAD DE INGENIERA QUMICA


INFLUENCIA DEL TIEMPO DE RECUBRIMIENTO Y DE LA DENSIDAD DE CORRIENTE ELCTRICA EN LA CALIDAD DEL PLATEADO ELECTROLTICO DE COBRE

PLAN DE TESIS PARA OPTAR EL TITULO PROFESIONAL DE INGENIERO QUMICO

PRESENTADO POR:

ARANDA BRUNO, Jhon Abimael HUANCAYO PER 2011

ASESOR:

Mg. SALAZAR MAURICIO, Demetrio Alipio

DEDICATORIA: Este presente trabajo est dedicado a mi madre quien con tanto cario me ha apoyado en mis estudios y en la

vida, tambin quiero dedicar a todos mis amigos con quienes compart momentos felices.

AGRADECIMIENTO: Mis ms sinceros agradecimientos van dirigidos a todos los Maestros que tuve en las aulas de la facultad de INGENIERIA QUIMICAS donde me forme para servir a las sociedad y con quienes tambin pase muchas

experiencias y ancdotas que seguro me servirn en el futuro.

INTRODUCCION

Procedimiento de recubrir por electrolisis la superficie de un objeto, generalmente metlico, de una capa de otro metal. La preparacin del objeto comprende el desengrasado, lavado y limpieza del mismo, antes de introducirlo en el bao electroltico. La corriente empleada en esta operacin debe ser continua. Con esto se consigue darle un aspecto ms bello, mayor resistencia mecnica y proteccin contra la corrosin atmosfrica o de determinadas sustancias.

La

Galvanostegia

comprende

el

DORADO,

PLATEADO,

NIQUELADO,

COBREADO, CROMADO, ETC.

En la siguiente tesis se realizaremos influencia del tiempo de recubrimiento y de la densidad de corriente elctrica en la calidad del plateado electroltico de cobre, con un objetivo de evaluar la influencia y determinar el valor ptimo de la

densidad de corriente elctrica y el tiempo de recubrimiento en la calidad del plateado electroltico de cobre en el Laboratorio de Electroqumica de la Facultad de Ingeniera Qumica de la Universidad Nacional del Centro del Per. Tambin Evaluar la influencia de los efectos de la variacin de la densidad de corriente elctrica en la calidad del dorado electroltico de metales;

Evaluar la influencia de los efectos de la variacin del tiempo de recubrimiento en la calidad del dorado electroltico de metales; Determinar el valor ptimo de la densidad de corriente elctrica en la validad de dorado electroltico de metales y Determinar el valor ptimo del tiempo de recubrimiento en la calidad de dorado electroltico de metales.

RESUMEN La galvanostegia es el procedimiento de recubrir por electrlisis la superficie de un objeto, generalmente metlico, valindose de la corriente elctrica en una cuba electroltica. La corriente debe ser continua. Los dos electrodos son una plancha o lamina de metal (ANODO), y el cuerpo que se quiere recubrir (CATODO), convenientemente preparado para que sea conductora su superficie. El electrolito es una sal soluble del metal que se quiere depositar.

Dentro de la galvanostegia comprende el dorado, plateado, niquelado, cobreado, cromado, etc. En este trabajo de tesis se aplicar la galvanostegia a la electrodeposicin de oro o dorado. El dorado es un procedimiento para recubrir diversos metales mediante su inmersin en un bao de plata (AgCN). Con esto se consigue darle un aspecto ms bello, mayor resistencia mecnica y proteccin contra la corrosin atmosfrica o de determinadas sustancias. En este procedimiento de plateado se utilizar una cuba electroltica de 2 L, donde el metal a recubrir se pondr en contacto con una fuente de corriente continua y con un electrodo que cumplir la funcin de nodo (plata), cediendo electrones para que los iones metlicos en solucin del metal recubridor (AgCN), se reduzcan y se depositen sobre el metal, que cumple la funcin de ctodo. De esta manera se obtiene el recubrimiento de oro en el metal. Para obtener un recubrimiento ptimo, es necesario evaluar las siguientes variables: Tiempo, agitacin, temperatura e intensidad de corriente. En este trabajo de tesis se realizara el estudio de la influencia del tiempo y la intensidad de corriente en la calidad del recubrimiento de dorado.

OBJETIVOS

OBJETIVO GENERAL Evaluar la influencia y determinar el valor ptimo de la densidad de corriente elctrica y el tiempo de recubrimiento en la calidad del plateado electroltico de cobre en el Laboratorio de Electroqumica de la Facultad de Ingeniera Qumica de la Universidad Nacional del Centro del Per.

OBJETIVOS ESPECFICOS
Evaluar la influencia de los efectos de la variacin de la densidad de corriente elctrica en la calidad del dorado electroltico de metales.

Evaluar la influencia de los efectos de la variacin del tiempo de recubrimiento en la calidad del dorado electroltico de metales.

Determinar el valor ptimo de la densidad de corriente elctrica en la validad de dorado electroltico de metales.

Determinar el valor ptimo del tiempo de recubrimiento en la calidad de dorado electroltico de metales.

NOMENCLATURA

V I D

: Voltios : Intensidad de corriente : Densidad

: Joule por gramo : Partes por milln : Resistencia que ofrece el electrolito : Slidos en suspensin totales : Micro siemens

ppm R SST

INDICE

INTRODUCCION RESUMEN OBJETIVOS NOMENCLATURA CAPTULO I ASPECTOS GENERALES 1.1 PLANTEAMIENTO DEL PROBLEMA 1.1.1. FORMULACION DEL PROBLEMA 1.2 JUSTIFICACIN CAPITULO II MARCO TEORICO 2.1 ANTECEDENTES

5 6 7 8

11 11 11

13 9

2.2 MARCO DE CONCEPTUAL 2.2.1 GALVANOSTEGIA Y GALVANOPLASTIA 2.2.2 PRINCIPIO DE ELECTRICIDAD Y DE ELECTROQUIMICA 2.2.2.1 DEPOSICIN INICA 2.2.2.2 ELECTROLISIS 2.2.2.3 ELECTROLITO 2.2.2.6 CARGA ELCTRICA ELEMENTAL 2.2.3 LEYES DE FARADAY 2.2.4 PRINCIPIO DE LA DEPOSICIN ELECTROLTICA 2.2.5 ESPONTANEIDAD DE LA REACCIN 2.2.5.1 REACCIN DE LA PLATA 2.2.2.2 ELECTROLISIS 2.2.2.3 ELECTROLITO 2.2.2.4 ELECTRODO 2.2.2.5 IONES 2.2.2.6 CARGA ELCTRICA ELEMENTAL 2.2.3 LEYES DE FARADAY 2.2.4 PRINCIPIO DE LA DEPOSICIN ELECTROLTICA 2.2.5 ESPONTANEIDAD DE LA REACCIN 2.2.5.1 REACCION DE LA PLATA

13 13 14 14 14 15 16 17 17 18 19 19 19 20 19 19 19 19 19 20

2.2.5.2 REACCION DEL HIDROGENO 20 2.2.6 FACTORES QUE INFLUYEN EN LAS APLICACIONES ELECTRO 2.2.6.1 DENSIDAD DE CORRIENTE 2.2.6.2 DETERMINACION DE LA DENSIDAD DCORRIENTE 2.2.6.3 DIFERENCIA DE POTENCIAL 20 21 21

2.2.7 FACTORES QUE TAMBIEN INFLUYEN EN LA CALIDAD DE REC.22 2.2.8 PLATA 2.2.8.1 PROPIEDADES 2.2.8.2 APLICACIONES 2.2.9 PLATEADO 2.2.9.1 SECUENCIAS DEL PROCESO 2.2.9.1.1 PRIMERA LIMPIEZA MECANICA 23 23 23 24 24 24 10

2.2.9.1.2 ABRILLANTADO MECANICO 2.2.9.1.3 DESENGRASE TOTAL

24 25

CAPITULO III TRABAJOS EXPERIMENTALES


3.1 PREPARACION Y ACONDICIONAMIENTO DE LA SOLUCIN 26 26 26 26 27 27 28 28

ELECTROLITICA. 3.1.1 EQUIPOS Y MATERIALES 3.1.2 ACONDICIONAMIENTO DEL EQUIPO Y MATERIALES 3.1.3 PREPARACION DE LA SOLUCION DE PRE-PLATEADO 3.1.4 PREPARACION DE LA SOLUCION DE PLATEADO 3.2 SECUENCIA DEL PROCESO 3.3 INSUMOS PARA PLATEADO 3.4 CARACTERISTICAS Y RANGOS DE TRABAJO

CAPITULO I ASPECTOS GENERALES


1.1.- PLANTEAMIENTO DEL PROBLEMA En el proceso del recubrimiento electroltico de plata un problema principal es el que se presenta en la calidad del plateado teniendo como referencia las caractersticas de recubrimiento. Para obtener depsitos de plata (Ag) uniformes es necesario determinar una densidad de corriente optima y que esta sea constante al momento de la aplicacin, ya que cuando la densidad de corriente excede el valor limite de trabajo se presenta una tendencia a obtener depsitos rugosos, frgiles y con una mala adherencia.

11

El tiempo de inmersin tambin determina la calidad y apariencia del dorado, ya que un tiempo innecesario puede cambiar las caractersticas del recubrimiento en su color, forma, rugosidad. 1.1.1.- FORMULACION DEL PROBLEMA Cmo influyen y cul es el valor optimo de la Densidad de Corriente Elctrica y el Tiempo de Recubrimiento Electroltico de Cu? en la Calidad del plateado

2.- JUSTIFICACIN El recubrimiento metlico sobre superficies, especialmente el recubrimiento de plata es un proceso muy rentable y lucrativo que brinda muchos beneficios ya que se puede usar en la mayor parte de los metales para darles resistencia permanente a las influencias destructivas, debidas al desgaste, descomposicin electroltica y contacto con atmsferas

corrosivas e incluso permite reciclar piezas viejas y convertirlas en nuevas, con lo cual recuperan el valor que tenan dichas piezas antes de envejecer. Pero tambin es un proceso poco conocido en nuestra regin, pues los artesanos que lo aplican no tiene el conocimiento suficiente del proceso, de las leyes que lo rigen y de las condiciones de trabajo adecuadas como la densidad de corriente que se debe suministrar, el tiempo ptimo de recubrimiento, la temperatura de los baos, el tipo de agitacin del ctodo etc.; ni tampoco cuentan con los equipos necesarios para realizar correctamente este proceso pues esto es fundamental para el buen desenvolvimiento del trabajo , por ende tambin causan una mala

utilizacin de los reactivos por una mala dosificacin y control, lo que genera grandes prdidas econmicas pues la gran mayora de los reactivos y soluciones a utilizar son muy costosos, sumado a este problema el manejo inadecuado de los reactivos , la poca informacin y la falta de medidas de seguridad podra generar problemas de intoxicacin del 12

personal y contaminacin de reas aledaas por un mal manejo de los efluentes txicos. Es por esta razn que proponemos realizar un estudio de los parmetros ptimos de trabajo (Densidad de Corriente y Tiempo de Recubrimiento) del proceso de plateado para lograr un proceso econmicamente rentable y un producto de calidad. Con procedimientos muy sencillos podemos de salida de proceso ya que algunos de los reactivos son

aprovechar materiales fciles de conseguir y hacer dinero.

CAPITULO II MARCO TEORICO


2.1 ANTECEDENTES La prctica de revestir un metal con otro metal o de un no metal con un metal data de tiempos muy remotos, pudindose afirmar que la cermica antigua fue el primer caso en que un revestimiento metlico se deposit sobre un material inerte, no metlico. Estos recubrimientos metlicos eran, al comienzo, de carcter utilitario, pero ms adelante los hallamos en el rea de las monedas de trueque, revestidas de un metal precioso. Se trataba de discos de cobre raramente de hierro recubiertos

completamente (incluso en los bordes) por una fina pelcula de plata aplicada por chapado.

13

2.2 MARCO DE CONCEPTUAL 2.2.1 GALVANOSTEGIA Y GALVANOPLASTIA Bsicamente la diferencia consiste que en la galvanostegia se realizan recubrimientos metlicos electrolticos sobre otro metal distinto tales como plateados, cromados niquelados; con el fin de evitar la corrosin. En

cambio, mediante la galvanoplastia se obtienen piezas metlicas mediante procesos electrolticos sobre moldes vaciados de cera o plstico que se hacen conductores mediante polvo de grafito y se sitan de ctodo de la cuba. Galvanostegia. Es el proceso de proteccin de la corrosin para la fabricacin de artculos metlicos. Los recubrimientos electrolticos pueden ser de metales puros o de aleaciones. Galvanoplastia o Electro formado Es la reproduccin de objetos metlicos por deposicin ejemplo: tuberas o tubos.

2.2.2 PRINCIPIO DE ELECTRICIDAD Y DE ELECTROQUIMICA

2.2.2.1 DEPOSICIN INICA Recubrimiento metlico de un cuerpo slido a consecuencia de la descomposicin electroltica de la sustancia bsica

empleada.

2.2.2.2 ELECTROLISIS Es un proceso que tiene lugar cuando se aplica una diferencia de potencial entre dos electrodos y se realiza una reaccin redox. La diferencia de potencial aplicada a los electrodos depende del electrolito y del material que constituye los electrodos. Las pilas que producen corriente elctrica se

14

denominan pilas voltaicas mientras que las pilas que consumen corriente elctrica se denominan pilas electrolticas. En algunas electrlisis, si el valor de la diferencia de potencial aplicada es tan slo ligeramente mayor que el calculado tericamente, la reaccin es lenta o no se produce, por lo que resulta necesario aumentar el potencial aplicado. Este

fenmeno se da cuando en alguno de los electrodos se produce algn desprendimiento de gas. El potencial aadido en exceso se denomina potencial de sobretensin. La cantidad de producto que se forma durante una electrlisis depende de: a) La cantidad de electricidad que circula a travs de la pila electroltica. b) De la masa equivalente de la sustancia que forma el electrolito. La cantidad de electricidad que circula por una celda electroltica puede determinarse hallando el producto de la intensidad de la corriente, expresada en amperios por el tiempo transcurrido, expresado en segundos. Es decir: Q (culombios) = I*t. 2.2.2.3 ELECTROLITO Compuesto qumico soluble, disuelto en agua destilada, que hace posible el paso de la Corriente elctrica y la

descomposicin del mismo en iones. Durante la disolucin de las sales, lcalis y cidos en el agua, sus molculas se disocian en tomos o grupos de tomos cargados elctricamente llamados iones. Estos iones pueden tener carga elctrica positiva (cationes) o negativa (aniones). La 15

disolucin resultante conduce la electricidad y recibe el nombre de electrolito.

2.2.2.4 ELECTRODO Componente de un circuito elctrico que conecta el cableado convencional del circuito a un medio conductor como un electrolito o un gas. El electrodo de carga positiva se denomina nodo y el de carga negativa ctodo. Electrodos Inertes Llamados tambin electrodos inatacables, estos solo sirven para transferir electrones a la solucin o recibirlos de ste, comnmente estn constituidos por un conductor de platino, acero inoxidable, etc. Electrodos Reactivos Conocidos tambin atacables, estos intervienen qumicamente en el proceso. Estos estn normalmente constituidos de un metal que desprende de ste en forma de iones en la solucin, o que se combina con los iones descargados procedentes de la solucin. 2.2.2.5 IONES tomo o grupo de tomos que han perdido o adquirido uno o ms electrones y cuya carga elctrica es atrada hacia el electrodo contrario.
Catin

Es un in (sea tomo o molcula) con carga elctrica positiva, esto es, con defecto de electrones. Los cationes se describen con un estado de oxidacin positivo.
Anin

16

Es un in (sea tomo o molcula) con carga elctrica negativa, esto es, con exceso de electrones. Los aniones se describen con un estado de oxidacin negativo. 2.2.2.6 CARGA ELCTRICA ELEMENTAL Unidad fundamental de carga elctrica, coincidente con la carga del electrn y con la del protn. Considerada la materia en su conjunto como elctricamente neutra, debido a la

compensacin entre las cargas positivas y las negativas, se considera que un cuerpo est cargado o que posee carga elctrica cuando existe un desequilibrio o desigual reparto de cargas, que se manifiesta por una serie de hechos cuyo fundamento estudia la electrosttica. La carga elctrica constituye una magnitud fundamental que, en los fenmenos elctricos, desempea un papel semejante al de la masa en los fenmenos mecnicos. La unidad de medida de carga elctrica es el franklin en el sistema CGS, y el culombio en el sistema internacional (SI). 2.2.3 LEYES DE FARADAY Tras efectuar mltiples determinaciones, Faraday enunci las dos leyes que rigen la electrlisis y que son: Primera Ley de Faraday: La masa depositada por electrlisis es directamente proporcional a la cantidad de electricidad que ha circulado.

Segunda Ley de Faraday: Si varias celdas electrolticas conectadas en serie y provistas de electrodos inertes son atravesadas por la misma cantidad de corriente elctrica, las cantidades de sustancia depositadas en cada electrodo son 17

proporcionales a los equivalentes-gramo de las sustancias depositadas.

Se denomina equivalente electroqumico de una sustancia a la masa en gramos de dicha sustancia depositada por el paso de un culombio. De acuerdo con esta definicin podemos escribir: m=P I t /(96500 n)
Donde: m: masa en gramos que se han depositado P: peso atmico del elemento n: nmero de electrones intercambiados I: intensidad de la corriente en amperios t: tiempo en segundos 6500 es el factor de equivalencia entre el Faraday y el Culombio. 1 F= 96500 C

2.2.4 PRINCIPIO DE LA DEPOSICIN ELECTROLTICA Durante la disolucin de las sales, lcalis y cidos en el agua, sus molculas se separan en tomos o grupos de tomos. Esta separacin rompe el equilibrio elctrico, y los tomos o grupos de tomos resultantes quedan cargados elctricamente debido a la carencia o exceso de los electrones que estaban anteriormente compartidos en su estructura, y se les denomina iones. Los iones cuando tienen carga elctrica positiva (carencia de electrones) se llaman cationes, y cuando esta carga es negativa (exceso de electrones), aniones. Al proceso se le llama disociacin electroltica y la disolucin resultante conducir la corriente elctrica y se denomina electrlito. Y si endicho electrlito se introducen dos conductores en forma de electrodos y cada uno se conecta a uno de los polos de una fuente de corriente directa, los iones cargados positivamente o cationes se desplazan hacia el electrodo negativo 18

denominado ctodo, y los cargados negativamente hacia el electrodo positivo denominado nodo. Una vez que los iones alcanzan la superficie del electrodo correspondiente y en

dependencia de la naturaleza del electrlito, la intensidad de la corriente elctrica y los electrodos utilizados, se produce una interaccin electro-atmica entre el ion y el electrodo.

Figura 1. Principio de la deposicin electroltica

2.2.5 ESPONTANEIDAD DE LA REACCIN 2.2.5.1 Reaccin de la Plata

Ag+ + e- = Ag
Determinacin de la energa libre de Gibbs,

Datos:

n = 1 mol eF = 96500 J /V.mol eE = +0,799 V Luego:

19

G (1mole 96500 J / Vmole 0.799 V ) G 77103 .5 J

Entonces la reaccin es ESPONTANEA.

2.2.5.2 Reaccin del Hidrogeno

2H+ + 2e = H2
Determinacin de la energa libre de Gibbs

Datos:

n = 2 mol eF = 96500 J /V.mol eE = 0.000 V Luego:


G (2mole 96500 J / Vmole 0.000 V ) G 0.000 J

Entonces la reaccin esta en EQUILIBRIO.

2.2.6 FACTORES QUE INFLUYEN EN LAS APLICACIONES ELECTROLITICAS

2.2.6.1 DENSIDAD DE CORRIENTE Como la electrlisis puede hacerse mas o menos intensa en dependencia de la magnitud de la corriente elctrica utilizada por unidad de superficie de la pieza a recubrir (densidad de corriente), el proceso puede acelerarse o disminuirse

manejando esta intensidad. Sin embargo este manejo no puede hacerse de manera indiscriminada, existen ciertos valores

20

ptimos que resultan decisivos en la calidad o caractersticas del recubrimiento final. Una densidad de corriente muy elevada, aunque aumenta la velocidad de deposicin y con ello el grosor de la capa depositada por unidad de tiempo, haciendo el proceso mas rpido y productivo, la calidad del recubrimiento puede ser mala e incluso inservible, la capa puede no quedar adherida o ser esponjosa y dbil. En algunos procesos electrolticos de galvanizado, resulta conveniente el uso de corriente alterna asimtrica, esto es, los electrodos se alimentan con electricidad de polaridad

cambiante, un tiempo corto a intensidad ms baja, en contra de la deposicin, seguido de un tiempo mas largo y mayor intensidad en el sentido de la deposicin. Esta forma de corriente produce una suerte de pequeo decapado entre las subsiguientes micro-capas generadas cuando la corriente elctrica fluye en el sentido de la deposicin.

2.2.6.2 DETERMINACION DE LA DENSIDAD DE CORRIENTE Aunque de forma general, la densidad de la corriente utilizada en un determinado proceso galvnico puede calcularse, dividiendo la intensidad de la corriente utilizada entre al rea de la pieza:

D
Donde:

I A

I = Intensidad de la corriente en Amper. A = rea de la pieza en Dm

21

La distribucin real de la densidad de corriente puede ser muy diferente de unas zonas a otras de la pieza colocada en el bao, y con ello producirse una capa de grosor diferente (e incluso defectuoso), en cada una, si no se tienen en cuenta ciertos factores geomtricos que garanticen la igualdad de la densidad de corriente en todas la reas de la pieza. 2.2.6.3 DIFERENCIA DE POTENCIAL La diferencia de potencial entre dos puntos de un circuito elctrico, o dos puntos del espacio en el cual hay un campo elctrico, es el trabajo o energa necesario para llevar a la carga unidad de un punto al otro sin aceleracin. Todo conductor tiene una resistencia elctrica, que tiende a impedir el paso de la corriente y a disipar la energa elctrica en calor. A mayor diferencia de potencial aplicada entre los extremos de un conductor, mayor intensidad elctrica circula. Al aplicar una diferencia de potencial (o voltaje) V entre los extremos de un conductor de resistencia R circula una intensidad I que viene dada por la ley de ohm: 2.2.6.4 TEMPERATURA DEL BAO La temperatura del electrlito del bao tambin puede ser muy influyente en las caractersticas y calidad del recubrimiento. En algunos procesos de recubrimiento esta temperatura puede determinar si la capa queda con brillo o mate, pueda ser mas dura o blanda y otros factores. 2.2.6.5 CORRIENTE ELCTRICA Desplazamiento de cargas elctricas en un conductor.

Fundamentalmente se

distingue entre corriente elctrica 22

alterna, que es aquella cuya intensidad cambia de magnitud y sentido segn una ley sinusoidal, y corriente elctrica continua, o sea, aquella cuya intensidad se mantiene constante a lo largo del tiempo. La intensidad de una corriente elctrica es la carga que atraviesa una seccin de conductor por unidad de tiempo. La corriente elctrica ms generalizada consiste en el transporte de cargas negativas (electrones) a travs de un conductor metlico y sin que se produzca ninguna alteracin de ste, que acta nicamente como sostn de los electrones. A veces, sin embargo, el conductor puede ser de naturaleza distinta (una disolucin electroltica, un gas ionizado o un semiconductor), en cuyo caso las cargas elctricas que constituyen la corriente pueden ser negativas o positivas y alterar o no la naturaleza fsica y qumica del elemento conductor. Un circuito elctrico por el que, debido a una diferencia de potencial V, circula una corriente de intensidad I, ofrece una resistencia R al paso de dicha corriente, estando estas magnitudes relacionadas entre s por la ley de Ohm, segn la frmula: V = R . I. 2.2.7 FACTORES QUE TAMBIEN INFLUYEN EN LA CALIDAD DE RECUBRIMIENTO

Similitud entre el relieve de la pieza y forma de los electrodos. Posicin de los electrodos con respecto a la pieza. Distancia entre los electrodos y la pieza. Profundidad de inmersin de la pieza en el bao. Modo en que se cuelgan las piezas dentro del bao.

2.2.8 PLATA

23

Smbolo Ag, es un elemento metlico blanco y brillante que conduce el calor y la electricidad mejor que ningn otro metal. Es uno de los elementos de transicin del sistema peridico.

2.2.8.1 PROPIEDADES Exceptuando el oro, la plata es el metal ms maleable y dctil. Su nmero atmico es 47. Su dureza vara entre 2,5 y 2,7; es ms dura que el oro, pero ms blanda que el cobre. Tiene un punto de fusin de 962C, un punto de ebullicin de 2.212 C y una densidad relativa de 10,5. Su masa atmica es 107,868. Desde el punto de vista qumico, la plata no es muy activa. Es insoluble en cidos y lcalis diluidos, pero se disuelve en cido ntrico o sulfrico concentrado, y no reacciona con oxgeno o agua a temperaturas ordinarias. El azufre y los sulfuros atacan la plata, y el deslustre o prdida de brillo se produce por la formacin de sulfuro de plata negro sobre la superficie del metal. Los huevos, que contienen una considerable cantidad de azufre como componente de sus protenas, deslustran la plata rpidamente.

2.2.8.2 APLICACIONES El uso de la plata en joyera, servicios de mesa y acuacin de monedas es muy conocido. Normalmente se alea el metal con pequeas cantidades de otros metales para hacerlo ms duro y resistente. La plata fina para las cuberteras y otros objetos contiene un 92,5% de plata y un 7,5% de cobre. La plata se usa para recubrir las superficies de vidrio de los espejos, por medio de la vaporizacin del metal o la precipitacin de una disolucin. 2.2.9 PLATEADO

2.2.9.1 SECUENCIAS DEL PROCESO: 24

Pulimento mecnico de las piezas a recubrir. Abrillantado mecnico con las muelas y la pasta. Desengrase total, fsico y qumico. Preparacin y acondicionamiento de la solucin electroltica. Recubrimiento galvnico. limpieza final o acondicionamiento de las piezas recubiertas. Comprobacin del brillo.

2.2.9.1.1 PRIMERA LIMPIEZA MECANICA Antes de proceder al recubrimiento galvnico es necesario de que la superficie a cubrir est totalmente limpia y pareja. Puede esmerilarse, limarse o raer mecnicamente y luego, pulir con chorro de arena o muelas engrasadas con grafito segn las conveniencias. Tambin es posible que lijemos con muelas de lija (Hojas de lija engastadas en ruedas de madera). Sobre todo despus del esmerilado. Las muelas de tela, se pasan con el grafito jabonoso y se pule a alta velocidad.

2.2.9.1.2 ABRILLANTADO MECANICO Luego del pulimento con las muelas duras (Esmeril y lija), se procede al afinamiento y brillo con las muelas de tela y pasta jabonosa de grafito. Cuanto ms brillante y pulido queda la superficie que vamos a recubrir, mejor ser el aspecto final del trabajo. Las muelas de tela son de diferentes tamaos y grosores. As mismo la pasta de grafito viene en diferentes nmeros y grosores.

25

2.2.9.1.3 DESENGRASE TOTAL. La operacin ms importante de todo el proceso, es la limpieza qumica de toda la superficie a recubrir. Para retirar la grasa de los objetos a recubrir galvnicamente, estos se sumergen en una solucin acuosa concentrada y bien calientes de POTASA CAUSTICA (Potasa kg. agua 4 L) durante unos 4 a 5 minutos. A continuacin se introduce rpidamente en un bao acidulado de cido sulfrico o clorhdrico al 10%. Los objetos bajo este tratamiento, no se tocan con las manos y tampoco se dejen expuestos al aire. Inmediatamente se introduce en el bao electroltico, se conecta la CE y empieza el movimiento para evitar las burbujas.

CAPITULO III
TRABAJOS EXPERIMENTALES

26

3.1

PREPARACION

ACONDICIONAMIENTO

DE

LA

SOLUCIN

ELECTROLITICA.

3.1.1 EQUIPOS Y MATERIALES 1.- NO3Ag (nitrato de plata) 2.- OHNa (hidrxido de sodio) 3.- CNK o CNNa (cianuro de potasio o de sodio) 4.- H2O dest. (agua destilada) 5.- Vasos de precipitados de 200 ml 6.- Varillas de vidrio 7.- Probetas de 100ml y de 10 ml 8.- Frasco de color oscuro

3.1.2 ACONDICIONAMIENTO DEL EQUIPO Y MATERIALES Se prepara para 10 litros de solucin. Todos los equipos debern ser previamente lavados antes de usarlos Los equipos nuevos debern permanecer por varias horas con una solucin de cianuro de potasio al 2% (10 a 20 g/l). Llenar el tanque con agua destilada, adicionar 150 gr de cianuro de potasio, para la celda de plateado y tambin para la celda de pre-plateado. 3.1.3 PREPARACION DE LA SOLUCION DE PRE-PLATEADO Llenar el tanque con agua destilada hasta un 80% del volumen final a preparar. Adicionar 1.216 kg de cianuro de potasio al 80.5%. Disolver. Adicionar 33.5 gramos de cianuro de plata para el plateado Disolver. Completar con agua hasta el nivel de trabajo. 27

Mezclar bien

3.1.4 PREPARACION DE LA SOLUCION DE PLATEADO Llenar el tanque con agua destilada hasta un 80% del volumen final a preparar. Adicionar 1.73 kg de cianuro de potasio al 80.5%. Disolver. Adicionar 376 gramos de cianuro de plata para el plateado Disolver. Agregar 200 ml de Aditivo de Base ELFIT y luego adicionar 0.5 ml de Abrillantador ELFIT. Completar con agua hasta el nivel de trabajo. Mezclar bien

Dado que se esta trabajando con soluciones de cianuro que son altamente txicos se recomienda el uso de todas las medidas de seguridad utilizando los equipos correspondientes.

3.2 SECUENCIA DEL PROCESO Desengrase Enjuague Neutralizado Enjuague Pre-plateado Plateado Recuperacin Enjuague Secado

3.3 INSUMOS PARA PLATEADO

28

Cianuro de Plata al 80.5% Cianuro de Potasio Abrillantador ELFIT 73 Aditivo Base ELFIT 73

0,5 kg 3 kg 1kg 1kg

3.4 CARACTERISTICAS Y RANGOS DE TRABAJO: Tanque nodos Voltaje Amperaje Temperatura Tiempo Objetos Grandes Objetos Pequeos PVC. Plata a2V a 1,5 A. Ambiente 5-10-15-30 min. 20 a 120 5 a 15

IV BIBLIOGRAFA

[1] B. B. Damaskn y O. A. Petri Fundamentos de la Electroqumica Terica.


Publicado por Editorial MIR Mosc.

[2] Alejandro Morales ELECTROMETALURGIA Apuntes para alumnos de Ingeniera


Metalrgica.

29

[3]Gianni Mastai GALVANOTECNIA: Datos Prcticos Ediciones REDES,


Barcelona-1964.

[4]Ing. Luis Riccio ELECTROQUIMICA Apuntes, Huancayo-2008

12.1 DIRECCIONES ELECTRONICAS [3]


http://www.raulybarra.com/notijoya/archivosnotijoya8/8galvanoplastia_oro_plata.htm

[5] http://www.sabelotodo.org/electrotecnia/galvanotecnia/galvanotecnia.html [6] http://www.scribd.com/doc/3882816/GALVANOTECNIA [7] http://www.istas.net/fittema/att/li4.htm [8] http://www.traelsa.comfd [9] http://www.industriasanion.com/plata.html

30