Treball de Recerca (Versión Final)

UN MUNDO
PARALELO
La Nanotecnología y el
ITO
Autor: David Hurtado Martínez

Tutor: Rafael Lamuedra
Instituto: I.E.S. Badalona VII
Curso: 2º Bachillerato B
Fecha de entrega: 15 de Enero de 2010
Un mundo paralelo: la Nanotecnología y el ITO
“ There's plenty of room at the bottom”
Richard Phillips Feynman
1
ÍNDICE
1. INTRODUCCIÓN 4
2. HIPÓTESIS 5
3. ¿QUÉ ES LA NANOTECNOLOGÍA? 6
3.1. Definición 7
3.2. Las aplicaciones 7
3.3. La historia 8
3.4. Por qué es necesaria? 9
3.4.1. Salud 9
3.4.2. Recursos 9
3.4.3. Electrónica 10
3.4.4. Bionanotecnología 10
3.4.5. Seguridad 11
3.4.6. Otras aplicaciones 11
3.5. Expectativas 12
3.5.1. Lo que tenemos 12
3.5.2. Lo que mejorará 13
3.5.3. Lo novedoso 13
3.5.4. Lo que no sucederá 13
3.6. Nanotecnología en el mundo 14
3.7. Nueva Revolución Industrial 15
4. ÓXIDOS 16
4.1. Óxidos Transparentes y Conductores ( TCO ) 17
5. ITO ( Indium Tin Oxide ) 18

5.1. ITO 18
5.1.1. Óxido de indio 18
5.1.2. Óxido de estaño 19
5.2. Método de fabricación 20
5.2.1. EB-PVD (Electron Beam - Physical Vapor Deposition) 20
5.2.2. Sputtering 22
5.3. Aplicaciones 23
5.3.1. Electrodos transparentes – LCD ( Liquid Cristal Display) 23
5.3.2. Células fotovoltaicas 25
5.4. Características 26
5.4.1. Transmitancia 26
5.4.2. Resistividad 29
5.4.3. Grosor 32
2
6. TRABAJO EXPERIMENTAL 33
6.1. La Sala Blanca 34
6.1.1. La Sala de Hornos 35
6.1.2. Sala de Fotolitografía 37
6.1.3. Sala de Caracterización 39
6.1.4. Sala de Deposición 40
6.2. Deposición de ITO 42
6.3. Etapa de caracterización 47
7. CONCLUSIONES 51
8. AGRADECIMIENTOS 52
9. BIBLIOGRAFÍA 53
3
1. INTRODUCCIÓN
Desde pequeño he sido muy curioso, siempre me ha gustado saber el porqué de las
cosas, conocer su funcionamiento y de que están hechas. Conforme he ido creciendo mi
nivel de curiosidad se ha extendido y mis preguntas son más difíciles de contestar. Ahora
es cuando Internet resuelve mis dudas.
Un buen día descubrí la Nanotecnología; no sé porqué razón, desde el primer

momento llamó mi atención aquella ciencia que estudiaba lo más pequeño, pero que para
entenderla necesitabas de gran conocimiento. A partir de ese instante empecé a buscar
información y a leer y leer artículos; cuanto más leía, más me gustaba. Lo que me
preguntaba era como algo tan interesante como la Nanotecnología no salía más a menudo
en los medios de comunicación, porque a mi parecer era algo fascinante. Comentaba a mis
amigos sobre esta ciencia, y no me sabían decir ni lo que era; y yo, con mis vagos
conocimientos, les explicaba a grandes rasgos que era. El transcurrir de los años me ha
otorgado un poco más de conocimiento general, lo que me ha ayudado a entender mejor de
que trata la Nanociencia. Estudiar lo invisible a nuestra vista es algo impactante. Se ha
dicho que será la ciencia del futuro, y si invierten lo suficiente en investigación, creo que la
Nanotecnología nos puede salvar de algún que otro problema y mejorar nuestras vidas.
Con la llegada del 'Treball de Recerca' tenía que escoger un tema que desarrollar, y
claro, después de lo explicado anteriormente, es normal que escogiera un tema ambientado
en la Nanotecnología. Pero claro, este campo es muy amplio y alguien me tenía que guiar
para enfocar más mi trabajo. Gracias a mi profesor de Tecnología, Rafael Lamuedra, pude
conseguir contactar con Ramón Alcubilla, que dirige el CRNE ( 'Centre of Research in
Nano Engineering' ) de la Universidad Politécnica de Cataluña. Tuve una breve reunión
con él y me ofreció varios temas que serían, basándose en mis conocimientos, más
asequibles de desarrollar y en los que era posible realizar algún trabajo experimental.
Entre la variedad de temas que me sugirió escogí los óxidos transparentes y conductores,
en especial, un óxido llamado ITO ( 'Indium Tin Oxide' ): un material transparente que
tiene las características de un conductor eléctrico. Desde el principio me pareció bastante
interesante la aplicación actual y la futura, también había posibilidad de realizar algún
trabajo experimental razonablemente sencillo, todo lo cuál me acabó de convencer.
Este 'Treball de Recerca' me ayudará a adentrarme superficialmente en el

'nanomundo', conocer las capacidades de este material y me aportará experiencia para el
futuro. Por otra parte me permitirá estudiar campos de la ciencia diferentes: electrónica,
química, óptica, matemáticas, física, ... Desde el principio parto con una gran ilusión
porque sé que poca gente se encamina hacia la Nanotecnología y me gustaría formar parte
del pequeño grupo de privilegiados que pueden estudiar más a fondo esta ciencia.
4
2. HIPÓTESIS
Con este trabajo pretendo adentrarme en el mundo de la nanotecnología y ver de
que manera puede mejorar nuestras vidas, avanzar la tecnología actual, ofrecer más
conocimiento a la humanidad, cambiar nuestra mentalidad; en definitiva, dar el siguiente
paso de la evolución del conocimiento humano.
Al ser este nanocampo tan inmenso, estudiaré más a fondo un determinado

material, el ITO. El ITO se utiliza en gran cantidad de aplicaciones de todo tipo: desde las
televisiones y otros dispositivos electrónicos a células solares; o desde motores de gran
potencia a sensores de gas. Espero llegar a muy buenas conclusiones sobre este material.
Con el trabajo experimental que realizaré intentaré comparar las consecuencias de

la diferencia del tiempo de deposición de las muestras de ITO. Me centraré especialmente
en la resistencia de cuadro, que la determinaré con una prueba de cuatro puntas; y en el
grosor de las muestras calculado con un perfilómetro. Con estos dos datos conseguiré
saber la variación de resistividad del ITO según el tiempo de deposición.
5
3. ¿QUÉ ES LA NANOTECNOLOGÍA?
'Nano', pequeño en griego, significa una milmillonésima europea ( billonésima
americana ). La unidad de medida es el nanómetro ( nm ), una milmillonésima parte de un
metro. Para poner esta medida en perspectiva, un cabello humano tiene un diámetro de
75.000 nm. Por otra parte, para conseguir un nanómetro se tendrían que poner en fila 10
átomos de hidrógeno ( Fig. 1 ).
Fig. 1: Comparativa de tamaños.
6
3.1. Definición
La nanotecnología es difícil de determinar y definir. Por ejemplo, la nanociencia no
es nueva; los químicos han estado haciendo nanociencia desde hace siglos porque las
vidrieras encontradas en las iglesias medievales contienen nanopartículas de oro de
diferentes tamaños, que les servían para otorgar a las vidrieras diferentes colores. Por otra
parte, Einstein definió el tamaño de una molécula de azúcar como un nanómetro. Entonces
se podría considerar que los vidrieros medievales y Einstein fueron nanocientíficos. De
hecho, lo que es nuevo en la nanociencia actual es su enfoque en el desarrollo aplicado a la
tecnología y la emergencia de increíbles herramientas para su trabajo.
En consecuencia, para definir este concepto se tuvo que crear un comité, 'The
National Nanotechnology Initiative', y este propuso tres definiciones:
1. La nanotecnología envuelve la búsqueda y el desarrollo de tecnología en un rango de

1-100 nm.
2. La nanotecnología crea y usa estructuras que tienen nuevas propiedades debido a

su pequeño tamaño.
3. La nanotecnología se basa en la capacidad de controlar o manipular a escala

atómica.
3.2. Las aplicaciones

La nanotecnología es interdisciplinaria, es decir, químicos, físicos y médicos
trabajan junto a ingenieros, biólogos y informáticos para determinar las aplicaciones,
dirección y desarrollo de la nanotecnología. Las industrias químicas, informáticas o de
salud están contribuyendo, en el sentido de que todos se benefician directamente con los
avances nanotecnológicos e indirectamente con los avances que consiguen otros en el
nanocampo. Por ejemplo: Los ordenadores cuánticos podrían simular la eficiencia de
nuevas nanomedicinas.
Hay dos enfoques para fabricar en nanoescala: 'top-down' ( de arriba hacia abajo ) y
'bottom-up' ( de abajo hacia arriba ).
• El enfoque 'top-down' es similar al de un artista esculpiendo en un bloque de

mármol; primero se trabaja a gran escala y después se moldea hasta conseguir un
producto a nanoescala. Por ejemplo: la industria electrónica usa este enfoque al
fabricar microprocesadores.
• El enfoque 'bottom-up' consiste en fabricar un producto átomo a átomo o

nanopartícula a nanopartícula. Este método es más difícil de controlar; uno de los
procesos utilizados se denomina auto-ensamblaje ( 'self-assembly' ). Este proceso
implica que en condiciones específicas, los átomos y moléculas se organizan por sí
mismas de forma espontánea hasta conseguir el producto final.
7
El 'top-down' es el enfoque más utilizado porque tiende a proveernos de un mayor

control.
3.3. La historia
La palabra 'Nanotecnología' propiamente dicha fue acuñada por Nario Taniguchi en
1974 para describir mecanismos de menos de un micrómetro. Sus palabras fueron: "La
'Nanotecnología' consiste en el proceso de separación, consolidación y deformación de
materias en átomos o moléculas.”. Pero esta no fue la única referencia a la
Nanotecnología, años antes, justamente en 1959, un físico del Instituto Tecnológico de
California ( 'Caltech' ) llamado Richard Feynman hizo su famosa exposición 'There's Plenty
of Room at the Bottom' ( 'Hay mucho sitio en el fondo' ) en la reunión de la Sociedad
Americana de Física, esbozando las perspectivas para la ingeniería atómica ( Fig. 2 ). En
esta exposición, Feynman plantea la posibilidad de manipulación directa de átomos
individuales como forma más potente de química sintética que las que había en la época.
Richard se interesó especialmente en la posibilidad de mejorar los circuitos de los
ordenandores y los microscopios con más capacidad. En el final de su discurso, Feynman
propuso dos retos: la construcción de un minúsculo motor y la escritura de un texto a
escala lineal 1/25.000; él mismo entregaría dos premios de 1.000 $ de su propio bolsillo a
quien materializará esos dos retos. William McLellan realizó el primer reto en poco
tiempo, y recibió su merecido premio; a posteriori, Tom Newman elaboró el nanotexto y
fue recompensado con mil dólares. Más tarde, en 1981, Gerd Binnig y Heinrich Rohrer del
Laboratorio de Investigación de Zurich de la empresa IBM crearon el microscopio túnel de
barrido, posibilitando a los investigadores conseguir ver y manipular átomos por primera
vez. Pocos años después, en 1985, Robert Curl Jr., Harold Kroto y Richard Smalley
descubrieron las buckyballs ( Fig. 3 ): moléculas de carbón con forma de balón de fútbol
que miden aproximadamente 0,7 nm. Su nombre científico es buckminsterfulereno,
recibiendo su nombre del arquitecto Richard Buckminster Fuller que popularizó las
cúpulas geodésicas ( Fig. 4 ), que guardan similitud con la forma de las buckyballs.
Fig. 2: Richard Feynman en el Caltech.
8
Fig. 3: Buckyball. Fig. 4: Cúpula geodésica ( Màgic Badalona ).
3.4. Por qué es necesaria?

La Nanotecnología incrementará nuestro nivel de vida. Si se utiliza bien, conseguirá
que nuestras vidas sean más seguras, mejorará la sanidad y optimizará el uso de recursos
limitados. La humanidad siempre ha querido llevar el conocimiento al límite: ha estudiado
e investigado todo lo que tiene a la vista y ha explorado lugares insospechados; ahora, lo
que se propone es estudiar, investigar y explorar algo que no se ve, algo que sobrepasa
nuestros límites, la Nanotecnología.
3.4.1. Salud
• Diagnósticos: los hospitales se beneficiaran de la Nanotecnología con

equipamientos de diagnóstico más rápidos y baratos. Nuevos contrastes fluirán por
nuestra sangre, señalando problemas con gran precisión. La Nanotecnología
facilitará la portabilidad de equipamientos para ambulancias. Los recién nacidos
obtendrán un mapeo de su ADN rápidamente, señalando futuros problemas y
permitiendo prevenir las enfermedades.
• Nuevos fármacos: la Nanotecnología ayudará a repartir la justa proporción de

medicina en las partes del cuerpo que más la necesiten. Nanoproyectiles, de 100 nm
de diámetro, circularán a través del cuerpo atacando células cancerígenas.
3.4.2. Recursos
• Energía: la Nanotecnología podrá proporcionar nuevos métodos para utilizar los

recursos energéticos actuales con mayor eficiencia. Los coches tendrán motores y
carrocerías más ligeros y fuertes; los combustibles llevarán aditivos que los harán
más eficientes. La iluminación casera tal vez usará puntos cuánticos ( nanocristales
de 5 nm ) para transformar la electricidad en luz sin pérdidas caloríficas. Las células
solares tendrán una mejor relación coste-eficiencia.
• Agua: la Nanotecnología ofrecerá técnicas de depuración del agua más eficientes,

permitiendo a países del tercer mundo acceder al agua potable. También seríamos
capaces de desalinizar el agua del mar para beber o regar los cultivos.
9
3.4.3. Electrónica
• Transistores: se está estudiando la viabilidad de la utilización de transistores de un

electrón.
• Materiales: los nanotubos de carbono ( Fig. 5 ) permitirán fabricar materiales con

una capacidad conductora mayor que la de los materiales actuales.
• Electrónica molecular: utiliza moléculas orgánicas como conductor eléctrico. Este

campo esta todavía en fase inicial, pero están saliendo al mercado ya algunas
aplicaciones como los OLED ( Organic Light-Emitting Diode ).
Fig. 5: Nanotubos de carbono.
3.4.4. Bionanotecnología
La bionanotecnología es la rama de la tecnología que trata de aprovechar el

conocimiento de la biología molecular para construir nanomáquinas. Esta tecnología parte
de la biotecnología, que se define como toda aplicación tecnológica que utiliza sistemas
biológicos y organismos vivos para la creación o modificación de productos o procesos para
usos específicos.
Ejemplos de bionanotecnología son el uso de modificaciones artificiales de la

kinesina como motor molecular que transforma energía química en trabajo ( Fig. 6 ). La
kinesina es una proteína formada por dos 'cabezas' y un par de flagelos que es capaz de
transportar 'cargas' dentro de las células. Este movimiento realizado por la kinesina está
siendo estudiado para poder realizar máquinas moleculares que imiten máquinas
macroscópicas.
Fig. 6: Kinesina.
10
3.4.5. Seguridad
• Materiales ligeros superiores: se crearan materiales 10 veces más fuertes que el

acero. Con cada material la Nanotecnología podría revolucionar los fuselajes, naves,
rascacielos, puentes y chalecos antibalas. Por ejemplo: el kevlar, la fibra principal de
los chalecos antibalas, será reemplazado por materiales que aportan mejor
protección, almacenan energía y monitorizan la salud de los soldados.
• Informática avanzada: ordenadores más potentes y pequeños encriptarán nuestros

datos y proporcionaran seguridad permanente ( Fig. 7 ). La criptografía cuántica
ofrecerá seguridad infranqueable para empresas, gobiernos y ejércitos. Por otra
parte, estos ordenadores cuánticos proporcionaran mejores simulaciones para
predecir desastres naturales y poder hacer posible la creación de biometrías
( identificación basada en características personales como el reconocimiento facial ).
Fig. 7: Chip cuántico.
• Mayor conocimiento situacional: los sensores químicos serán más sensibles,

capaces de localizar una molécula dentro de billones. Los sensores se podrían
utilizar en naves no tripuladas para proporcionar fotografías de gran resolución,
dando conocimiento situacional a los soldados de la situación real en los frentes de
batalla.
• Potentes municiones: los nanometales son químicamente más reactivos por su

pequeño tamaño y mejor superficie. Variando el tamaño de los nanometales en
municiones nos permite controlar la explosión, minimizando los daños colaterales.
3.4.6. Otras aplicaciones
• Almacenamiento, producción y conversión de energía.
• Producción agrícola.
• Procesamiento de alimentos.
• Remediación de la contaminación atmosférica.
11
• Construcción.
• Detección y control de plagas.
• Control de desnutrición en lugares pobres
• Alimentos transgénicos
• Cambios térmicos moleculares ( Nanotermología )
3.5. Expectativas
Nuestras expectativas han de ser realistas y necesitamos ser pacientes, no todos los
avances de la Nanotecnología están preparados para dar el salto de la noche a la mañana.
Aunque habrán muchísimos avances, no todo los que imaginamos se culminarán. De todas
maneras, la Nanotecnología puede marcar un antes y un después en el mundo tal y como lo
conocemos.
La nanociencia no está exenta de leyes y principios. No seremos capaces de trabajar

en algo, si en nivel atómico, es químicamente inestable. Los científicos conocen como
funciona las cosas desde un punto químico y físico, pero pueden haber sorpresas; y de esta
forma aprenderemos nuevas leyes.
3.5.1. Lo que tenemos
Las nanoaplicaciones ya están mostrándose en diversas áreas como la informática,

el transporte seguro y en medicina. Los pasos pueden parecer lentos y pequeños, pero
estos tiene un gran efecto en las cosas minúsculas.
• Los transistores ( Fig. 8 ) de los ordenadores han roto la barrera de los 100 nm. Se
buscan dispositivos donde puedan usarse los transistores para hacer estos
dispositivos más pequeños también; o para dispositivos que son pequeños ahora,
como el móvil, y hacerlos más potentes.
Fig. 8: Transistor.
12
• Los sensores de los airbags, aunque todavía están en microescala, se están

utilizando en los nuevos coches y funcionan muy bien. Estos sensores continuaran
haciéndose más pequeños hasta llegar a la nanoescala y conseguirán ser más
precisos y fuertes.
3.5.2. Lo que mejorará
Además de introducir nuevos productos y procedimientos, la Nanotecnología hará

avanzar a elementos que ya existen. Como por ejemplo:
• La vida útil de las baterías serán mayor.
• GPS más pequeños y más precisos.
• Ordenadores más rápidos y pequeños.
• Será posible almacenar más cantidad de memoria en menos espacio y usando

menos energía.
• Los análisis de ADN serán más precisos y rápidos.
• Aditivos para combustibles que sacarán más provecho de ellos.
• Nuevos diagnósticos médicos.
3.5.3. Lo novedoso
La Nanotecnología promete ser un mundo increíble: mejorando nuestra salud,

optimizando el uso de nuestros recursos e incrementando nuestro nivel de vida. La
detección de afecciones a nivel molecular nos guiará a nuevos tratamientos para viejas
enfermedades. El desarrollo de materiales 10 veces más fuertes que el acero, y que sólo
pesan una décima parte que él, ofrecerá hacer los transportes más rápidos y eficientes.
Imagina como sería el transporte aéreo si el fuselaje fuera más ligero y fuerte, los motores
usaran menos combustible, y los sensores y materiales inteligentes deformaran las alas
para minimizar la resistencia del aire. También habrá nuevas pinturas y revestimientos
basados en la nanotecnología que repelerán la suciedad y el agua. Imagina un coche que
nunca se tuviera que lavar, de esta manera nunca deberías de usar el limpiaparabrisas.
3.5.4. Lo que no sucederá
La ciencia ficción ha creado un mundo donde una multitud de robots de tamaño

molecular circulan por nuestro torrente sanguíneo limpiando arterias y atacando las
células cancerígenas. Y los nanobots que no están dentro de nuestro cuerpo, están fueran
construyendo todo un mundo alrededor de nosotros átomo a átomo. Estos escenarios son
improbables, si no imposibles. Si alguna vez son posibles, serán dentro de varios siglos.
13
La razón por la cual es difícil ver como los nanobots construyen diversos elementos
a macroescala átomo por átomo es porque la química molecular es muy compleja. En cada
situación reactiva, los átomos sienten la influencia de los átomos contiguos, para hacer
cualquier manipulación en este nivel, como harían los nanobots, se necesita un control del
movimiento de cada átomo: lo que es un malabarismo.
Este entusiasmo de la ciencia ficción por la Nanotecnología comenzó en 1986

cuando Eric Drexler, el fundador de 'Foresight Institute' ( una organización sin ánimo de
lucro que se dedica a expandir el conocimiento de la Nanotecnología ), publicó 'Engines of
Creation: The Coming Era of Nanotechnology'. En el libro, describe nanobots que se auto-
replican y construyen objectos átomo a átomo; también describe un final de la Tierra
cuando el 'grey goo' ( Fig. 9 ), una masa viscosa que contiene millones y millones de
nanobots, consume la Tierra.
Fig. 9: Grey goo.
3.6. Nanotecnología en el mundo

De todo lo expuesto anteriormente es fácil deducir que el nanomundo puede tener
una influencia decisiva en el macromundo, en otras palabras: “pequeñas soluciones a
grandes problemas”. Las inversiones públicas millonarias en Nanotecnología realizadas
por EE.UU., Japón, China y Europa muestran que la investigación del nanomundo es
considerada una área estratégica por las potencias mundiales ( Fig. 10 ). Como ejemplo, el
presupuesto del Gobierno Federal de EE.UU. para el periodo 2005-2010 asciende a 2.500
millones de euros y la dotación presupuestaria de la UE para 2007-2013 se eleva a 3.300
millones de euros. Además, según se desprende de un estudio realizado por la
Organización para la Cooperación y el Desarrollo Económico ( OCDE ) y Allianz Group, el
mercado de la Nanotecnología generará en 2014 unos ingresos de 1,8 billones de euros en
todo el mundo. Respecto a la situación española, la Comunicación de la Comisión Europea
dice que somos el país europeo con menor gasto per cápita en Nanotecnología, con una
cifra de 0,039 euros frente a los 5,6 de Irlanda, el país de Europa que más invierte en esta
tecnología. Pero a pesar de ello los nanotecnólogos españoles están entre los más
destacados del mundo, compitiendo en nanobiología con grupos de investigación de países
mucho más desarrollados que el nuestro. En este sentido, con el objetivo de impulsar la
Nanotecnología en España y acercar el nanomundo a la sociedad, se ha creado la red
NanoSpain, coordinada por el Consejo Superior de Investigaciones Científicas ( CSIC ) y la
Fundación PHANTOMS, que es la mayor Red de Nanotecnología española y que cuenta
actualmente con la presencia de 189 grupos de investigación pertenecientes a instituciones
públicas, universidades, CSIC, parques científicos, centros tecnológicos y empresas.
14
1.200 €
1.100 €
1.000 €
900 €
800 €
700 €
600 €
500 €
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Fig. 10: Financiación mundial en Nanotecnología en millones de € ( año 2004 ).
3.7. Nueva Revolución Industrial

Teniendo en cuenta las grandes e importantes implicaciones tecnológicas,
industriales, socio-económicas, energéticas, medioambientales, agro-alimentarias y
sanitarias de la Nanotecnología; considerando además que sus aplicaciones a medio y largo
plazo son infinitas y que probablemente sólo están limitadas por la capacidad imaginativa
de los científicos, no resulta extraño que Charles M. Vest’s ( ex-Presidente del MIT )
anunciase que la Nanotecnología conduciría a una tercera revolución industrial en el siglo
XXI. Si los más de 40 años transcurridos desde su conferencia han dado la razón a Richard
Feynman acerca del increíble potencial de la Nanotecnología, aún habrá que dejar pasar
varios años para comprobar si se cumple o no la premonición de Charles M. Vest’s. En
cualquier caso, aún se está a tiempo de intentar conseguir que esta revolución
nanotecnológica se desarrolle de racional y responsablemente, sin olvidar la relación
beneficio-riesgo, y que se aplique para mejorar la calidad de vida de las sociedades actuales
y de las nuevas generaciones. Y esto es así porque no se debe olvidar que, como para
cualquier otra tecnología, la bondad o maldad de la Nanotecnología dependerá de las
aplicaciones y fines a los que se destine.
15
4. ÓXIDOS
Para adentrarnos en el mundo de los óxidos transparentes y conductores, primero
deberíamos saber que es un óxido.
Un óxido es un compuesto químico que se compone de uno o varios átomos de

oxígeno con estado de oxidación de -2 y otros elementos: esto se refiere a que los átomos
de oxígeno presentes en el compuesto necesitan 2 electrones para cumplir la regla del
octeto y de esta manera adquirir una configuración electrónica estable, como en los gases
nobles.
Los óxidos pueden estar presentes en estado gaseoso, sólido o líquido. Gran
cantidad de elementos tienen la capacidad de combinarse con el oxígeno, por eso hay
mucha variedad de óxidos. Son óxidos el óxido nítrico ( NO ), el dióxido de nitrógeno
( NO2 ).
Estos compuestos se pueden sintetizar mediante la oxidación, como por ejemplo el

Magnesio ( Mg ) o el Fósforo ( P ) :
2 Mg + O2 → 2 MgO.
P4 + 5 O2 → 2 P2O5
La oxidación es una reacción química donde un compuesto cede electrones y así

aumenta su estado de oxidación. Siempre que hay una oxidación, existe otra reacción
química llamada reducción, que de manera contraria, el compuesto adquiere electrones y
así reduce su estado de oxidación. A este par de reacciones químicas se les denomina
reacciones reducción-oxidación ( redox ), donde hay una transferencia de electrones entre
varios elementos o compuestos químicos. En estas reacciones participa un agente reductor,
el elemento o compuesto que cede electrones y aumenta su estado de oxidación
( oxidándose ), y un agente oxidante, el elemento o compuesto que adquiere electrones y de
esta manera su estado de oxidación es inferior al anterior ( reduciéndose ).
El oxígeno es el mejor oxidante que existe porque es poco reactivo y muy

electronegativo. Por eso se le llama oxidación, porque en la mayoría de este tipo de
reacciones, el agente oxidante es el oxígeno. Aunque también puede suceder que en una
reacción redox no participe ningún átomo de oxígeno.
Hay dos formas de clasificar los óxidos:
- Según la cantidad de elementos:
• Óxidos binarios: formados oxígeno y otro elemento.
• Óxidos mixtos: formados por dos elementos diferentes y óxigeno.
16
- Según el comportamiento químico del óxido:
• Óxidos básicos: formados por un metal y un oxígeno.
• Óxidos ácidos: formados por un no-metal y oxígeno.
• Óxidos anfotéricos: formados por un anfotero y oxígeno. Los anfoteros son óxidos
que pueden actuar como ácido o base según con lo que se les haga reaccionar.
4.1. Óxidos Transparentes y Conductores ( TCO )

Los óxidos transparentes conductores son óxidos metálicos dopados usados en
dispostivos optoelectrónicos como LCD o células fotoeléctricas; en su mayoría, estas
aplicaciones usan estos materiales como electrodos por su gran transmitancia ( 80% ) y su
alta conductividad. El TCO más común es el ITO, este material tiene el inconveniente de
ser bastante caro; pero consigue tener un 80% de transmitancia y una resistividad de ~10 -4
Ω·cm. El indio, el metal base, es escaso en la Tierra: apenas un 0,0000001 %; y su precio
de mercado ronda los 540 € por lingote. Los lingotes pueden pesar desde 0,5-2 Kg.
17
5. ITO ( Indium Tin Oxide )

5.1. ITO
El óxido de indio y estaño (indium tin oxide) es una solución de óxido de indio III
( In2O3 ) y dióxido de estaño ( SnO2 ), con una proporción de un 90-10 % respectivamente.
El estado del ITO es sólido a temperatura ambiente, su punto de fusión se sitúa en

1527 – 1927 ºC, tiene una densidad de 7120-7160 kg/m3 a 20 ºC y dependiendo de la
concentración de dióxido de estaño su color varia entre amarillo pálido y amarillo grisáceo.
El ITO funciona como un conductor eléctrico transparente que consigue reflejar una
porción del espectro infrarrojo. Para la fabricación de finas películas de ITO hay dos
mecanismos posibles: con un haz de electrones y por sputtering.
Las finas películas de ITO son usadas en pantallas planas ( LCD, OLED y plasma ),
pantallas táctiles y células solares. También se aprovecha su capacidad de reflexión de luz
infrarroja para la fabricación de hot mirrors ( un hot mirror es un espejo que refleja la luz
infraroja y permite el paso de la luz visible ).
5.1.1. Óxido de indio
El In2O3 es un óxido anfotérico del indio ( Fig. 11 ). Es un polvo amarillento que

tiene una masa molar de 277.64 g/mol ( Fig. 12 ). Es insoluble en agua y se volatiliza a
850ºC. Se utiliza normalmente en la fabricación de baterías alcalinas, de finas láminas de
reflectores infrarrojos transparentes, de revestimientos ópticos y para dar color a cristales.
El indio se produce principalmente a partir de los residuos generados durante el procesado
de minas de Zinc. También se encuentra en minas de hierro, plomo y cobre. Se obtiene
mediante la electrólisis de sus sales. El In2O3 es un semiconductor tipo-n usado como
resistencia en circuitos integrados. Pero, para lo que se usa más este compuesto es para la
fabricación de ITO, el cuál se utiliza como material base para conseguir una fina película
con una mezcla de In2O3 y SnO2.
Fig. 11: Estructura del óxido de indio.
18
Fig.. 12: Aspecto del óxido de indio.
5.1.2. Óxido de estaño
El SnO2 es un óxido anfotérico del estaño ( Fig. 13 ). Es un polvo blanco grisáceo

que tiene una masa molar de 150.71 g/mol ( Fig. 14 ). Es insoluble en agua y se volatiliza a
1900°C. Es utilizado como pigmento en la fabricación de cristales, como sensor de gases de
combustibles, para dispositivos ópticos y para electrodos transparentes. Pero, es utilizado
mayormente para la creación de finas películas de ITO.
Fig. 13: Estructura del óxido de estaño.
19
Fig. 14: Aspecto del óxido de estaño.
5.2. Método de fabricación

Para la fabricación de películas de ITO básicamente se utilizan métodos de
deposición física en fase vapor o PVD (Physical vapor deposition), que consiste en la
deposición de capas, átomo por átomo o molécula por molécula, en una superfície sólida
en el vacío. Esto se consigue con la condensación del vapor del material que queremos
depositar. A continuación voy a detallar dos de los métodos PVD más utilizados.
5.2.1. EB-PVD (Electron Beam - Physical Vapor Deposition)
Uno de los mecanismos, el EB-PVD (Electron Beam Physical Vapor Deposition),

utiliza un haz de electrones para bombardear un 'target', el material base. Los electrones,
que son emitidos por un filamento de tungsteno, impactan sobre el material objetivo,
liberando átomos que se depositarán sobre un sustrato formando así finas capas del
material. Pondré un ejemplo concreto de un sistema EB-PVD ( Fig. 15 ).
En este sistema EB-PVD, la cámara de deposición está a baja presión. El material

que se quiere evaporar está en forma de lingote. Hay seis disparadores de electrones,
cuatro de ellos están enfocados al lingote y los otros dos precalientan el sustrato para
facilitar la deposición; cada uno tiene una potencia de 45 kW. Los haces de electrones
generados son acelerados y centrados hacía el lingote. Cuando el voltaje alcanza los 20-25
kV y la corriente del haz es de unos pocos amperios, el 85 % de la energía cinética de los
electrones se transforma en energía térmica en cuánto el haz bombardea la superficie del
lingote. Éste se derrite por la alta temperatura a la que se ha sometido y el material acaba
evaporándose en el vacío, depositándose por último en el sustrato. El sustrato donde tiene
lugar la deposición de las películas es limpiado ultrasónicamente y está sujeto a un soporte,
y éste está adjunto al eje de manipulación que se mueve de forma que se pueda ajustar la
distancia entre los lingotes y el sustrato. El eje rota a una determinada velocidad,
permitiendo así la película es depositada uniformemente en el sustrato. Los sistemas EB-
PVD están equipados con fuentes de iones que se utilizan para el grabado y limpieza del
sustrato, la pulverización del lingote y el control de la microestructura del sustrato. El
bombardeo de iones también aumenta la densidad de la película y cambia el tamaño de
grano.
20
Fig. 15: Esquema del procedimiento EB-PVD.
Las ventajas de este método son: el ritmo de deposición variable desde 1 nm/min a
unos pocos μm/min. La eficiencia de la utilización del material es relativamente alta y el
proceso ofrece un control estructural y morfológico de las películas. Por otra parte, los
inconvenientes de este proceso son: la degradación del filamento en el disparador de
electrones da lugar a un bajo ritmo de deposición. Y también se ha detectado una gran
toxicidad de este procedimiento ( rayos X ).
21
5.2.2. Sputtering
Otro de los mecanismos utilizados es la deposición por pulverización ( sputtering ),

el método se lleva a cabo en una cámara de vacío. El objetivo es bombardear la superficie
del material que queremos evaporar con iones de gas muy energéticos ( Argón ), para que
estos transmitan su energía a los átomos del material que, de esta manera, es pulverizado.
Los átomos así arrancados pueden después depositarse sobre un substrato para formar
láminas delgadas o recubrimientos.
En un sistema de sputtering, a la cámara de deposición se le extrae todo el aire,

dejándola en el vacío. El sustrato se carga positivamente ( ánodo ) y el material base o
'target', negativamente ( cátodo ); entonces, al aplicar un alto voltaje se crea un flujo de
electrones que, al introducir el gas noble ( Argón ), se crea un plasma ( gas, constituido por
iones, con una gran conductividad eléctrica ) , apareciendo iones de Argón que impactan
contra el material base con gran energía, produciendo la salida de átomos del material
hacia el sustrato.
Entonces el material base se carga negativamente, lo que acelera el plasma y hace

impactar sus iones contra el material, que recibirá la energía de los iones y saldrán
despedidas partículas neutras del material en línea recta hasta depositarse en el sustrato.
La producción por sputtering depende mayormente en el material base y la masa y

energía de las partículas que se utilizan para bombardear (cuanta más, mejor).
El sputtering tiene varias ventajas, como: la capacidad de crear finas películas sobre
grandes superfícies con gran uniformidad, mejor control de las características de las
películas y sin emisión de rayos X. Pero también tiene sus desventajas: se necesita grandes
inversiones, el ritmo de deposición es bajo, los materiales orgánicos se degradan por el
bombardeo de iones y por último, el sputtering introduce impurezas al sustrato.
22
5.3. Aplicaciones
5.3.1. Electrodos transparentes – LCD ( Liquid Cristal Display)
Un electrodo es un conductor utilizado para hacer contacto con una parte no

metálica de un circuito ( un semiconductor, un electrolito, un gas, un cristal líquido, etc. ).
Anteriormente los electrodos eran hechos de materiales no transparentes, lo cual se ve
reflejado en las pantallas CRT ( “Cathodic Ray Tube”, tubo de rayos catódicos ) donde los
electrodos se sitúan en el fondo del aparato para desviar la luz ya que no se podrían poner
en la pantalla porque taparían los hazes de luz. Con la llegada de los TCO se han
conseguido crear electrodos transparentes que han revolucionado el desarrollo de las
pantallas: consiguiéndolas hacer más delgadas y más eficientes energéticamente y
ópticamente.
LCD, o Liquid Cristal Display, son las siglas en inglés de 'pantalla de cristal líquido'.
Se trata de un sistema eléctrico de presentación de datos formado por dos capas de
cristales polarizados y entre ellas un material especial: el cristal líquido, que tiene la
capacidad de compartir propiedades líquidas y sólidas para orientar la luz a su paso y así
formar la imagen.
El funcionamiento del LCD se basa en el principio de polarización de la luz

mediante filtros. Un filtro polarizado parece un cristal a simple vista, pero tiene unas vetas
longitudinales imperceptibles. Si se colocan, por ejemplo, dos filtros orientados igual, la
intersección entre ambos dejará pasar la luz; eso si, cuando uno de los filtros cambian la
orientación 90º la intersección se vuelve opaca, ya que las vetas longitudinales de los
filtros se encuentran perpendiculares las unas con las otras. Con la rotación de uno de los
filtros se consigue oscurecer los colores.
Un LCD se compone de: unos reflectores y la fuente de luz, dos paneles polarizados
(vertical y horizontal), un panel de cristal líquido, un filtro de color RGB y el cristal
frontal.
La luz proveniente de la fuente pasa el primer filtro polarizado que sólo deja pasar la
luz verticalmente. Este haz de luz vertical al pasar por el cristal líquido reposado, se
reordena de vertical a horizontal. Al pasar por el filtro de color, el haz de luz coge una
tonalidad y pasa por el filtro polarizado porque el haz de luz y el filtro están orientados
horizontalmente ( Fig. 16 ). Por otra parte, cuando el cristal líquido recibe la descarga
eléctrica de los dos electrodos transparentes (hechos de ITO) que posee cada celda, el haz
de luz que procede de la fuente pasa el filtro polarizado vertical; pero esta vez el cristal
líquido estimulado con la descarga eléctrica no reordena el haz de luz vertical, éste pasa a
través del filtro de color y al llegar al filtro polarizado horizontal se bloquea, y el píxel no
emitirá el color. La aplicación gradual de las descargas eléctricas permite la oscilación del
haz de luz entre lo vertical y lo horizontal, como consecuencia de este hecho se consigue
generar medios tonos de los colores ( Fig. 17 ).
23
Fig. 16: Funcionamiento de un píxel en un LCD I.
Fig. 17: Funcionamiento de un píxel en un LCD II.
24
5.3.2. Células fotovoltaicas
Una célula fotovoltaica es un dispositivo electrónico que transforma la energía

luminosa, los fotones, en energía eléctrica, en electrones, como consecuencia del efecto
fotoeléctrico. Este efecto consiste en que la energía que poseen los fotones, determinada
por la frecuencia de onda de la luz, es absorbida por los electrones del material, éstos
reciben la suficiente energía para salir expulsados del material y adquirir energía cinética.
Los electrones liberados son capturados y de ese modo se consigue corriente eléctrica ( Fig.
18 ).
Muchas de las nuevas células fotovoltaicas usan finas películas transparentes que
también son conductoras de cargas eléctricas. Los materiales más utilizados con estas
características son los óxidos conductores transparentes: el fluorine-doped tin oxide
( FTO ), el al-doped zinc oxide y el indium tin oxide ( ITO ). La doble función de estos
materiales permite el paso de la luz a través del cristal para ser absorbida por el material de
debajo, y por otra parte también sirve como contacto para transportar las cargas generadas
fuera del material absorbente. Estos óxidos son efectivos a escalas pequeñas para la
investigación, pero todavía no están lo suficientemente optimizados para la producción
fotovoltaica a gran escala.
Fig. 18: Funcionamiento de una célula fotovoltaica.
25
5.4. Características
5.4.1. Transmitancia
La transparencia es una de los principales factores de mérito de los óxidos

conductores y transparentes, entre ellos el ITO. La transparencia es la capacidad de un
material a dejar pasar o transmitir la luz que incide sobre él fácilmente, permitiendo ver a
través de él. Esta propiedad óptica se cuantifica cómo transmitancia.
La transmitancia es la fracción de luz incidente con una determinada longitud de

onda que atraviesa una muestra. En forma de ecuación se describe de la siguiente manera:
I
T=
Io
Donde 'T' es la transmitancia, 'I' es la intensidad de la luz procedente de la muestra

y 'Io', la intensidad de luz incidente en la muestra.
Esto dará como resultado un valor dentro del rango 0-1 sin unidades. Por ello,
normalmente la transmitancia se determina con un porcentaje:
I
T= · 100
I0
Entonces, a partir de estas fórmulas podremos llegar a conocer la transmitancia del

material a estudiar. Cuanto mayor sea el resultado, más transparente será el material; en
cambio, si el resultado da un valor muy bajo, esto significará que el material destaca por su
opacidad. Las medidas de transmitancia se realizan mediante unos instrumentos llamados
espectrofotómetros.
La espectroscopia es el estudio de la interacción entre la radiación electromagnética

y la materia. Dentro de este estudio hay gran cantidad de campos, pero el campo de estudio
que interesa en este momento es la espectroscopia ultravioleta-sensible ( UV/VIS ), o
también denominada espectrofotometría.
La espectrofotometría es el método de análisis óptico más usado en las

investigaciones químicas y biológicas. Este análisis permite comparar la radiación
absorbida o transmitida por una solución que contiene una cantidad desconocida de
soluto, y una que contiene una cantidad conocida de la misma sustancia.
Todas las sustancias pueden absorber energía radiante, aun el vidrio que parece ser
completamente transparente absorbe radiación de longitudes de ondas que no pertenecen
26
al espectro visible; el agua absorbe fuertemente en la región del infrarrojo. La absorción de

las radiaciones ultravioletas, visibles e infrarrojas depende de la estructura de las
moléculas, y es característica para cada sustancia química. Cuando la luz atraviesa una
sustancia, parte de la energía es absorbida; la energía radiante no puede producir ningún
efecto sin ser absorbida. La espectrofotometría ultravioleta-visible usa haces de radiación
del espectro electromagnético, en el rango UV de 80 - 400 nm, principalmente de 200 -
400 nm ( UV cercano ) y en el de la luz visible de 400 - 800 nm , por lo que es de gran
utilidad para caracterizar los materiales en la región ultravioleta y visible del espectro. La
espectrofotometría visible solamente usa el rango del campo electromagnético de la luz
visible , de 400 - 800 nm.
Las aplicaciones principales de la espectrofotometría son:
• Determinar la cantidad de concentración en una solución de algún compuesto

utilizando las fórmulas ya mencionadas.
• Para la determinación de estructuras moleculares.
• La identificación de unidades estructurales especificas ya que estas tienen distintos

tipos de absorbancia
• Y, por último; y es el caso que nos afecta; mide la transmisión del material.
El espectrofotómetro ( Fig. 19 ) es el instrumento que nos facilita estos análisis. Hay

dos tipos de espectrofotómetro:
• Espectrofotómetro con doble haz: compara la intesidad de la luz entre dos

recorridos, uno contiene una muestra de referencia y el otro recorrido contiene la
muestra a prueba.
• Espectrofotómetro con un único haz: mide la intensidad de luz relativa del haz
antes de atravesar la muestra y posteriormente.
Fig. 19: Espectrofotómetro.
27
El espectrofotómetro con doble haz, el más común, compara de manera cuantitativa

la fracción de luz que pasa a través de la muestra de referencia y la muestra a prueba. La
luz blanca de la lámpara se refleja sobre el primer espejo y pasa a través de un
monocromador, que difracta la luz en diferentes longitudes de onda (arco iris). El
monocromador se encuentra entre dos rendijas que son utilizadas para focalizar un solo
haz de toda la luz suministrada por la lámpara, y así se consigue un mejor rendimiento.
Posteriormente, un filtro, colocado después de la segunda rendija, permite escoger una
longitud de onda determinada. Este haz se refleja en el segundo espejo y se dirige a un
semiespejo que refleja una parte del haz y la otra la refracta, yendo cada una al tercer y
cuarto espejo respectivamente . El haz reflejado por el tercer espejo atravesará la muestra a
prueba y el haz reflejado por el cuarto espejo es dirigido a la muestra de referencia,
entonces, la intensidad de la luz transmitida llega a un fotodiodo, éste es estimulado por la
luz y determina el valor de transmisión de la longitud de onda. Por último sólo queda
comparar los datos para determinar la transmitancia de la muestra a prueba ( Fig. 20 ).
Fig. 20: Funcionamiento del espectrofotómetro.
28
5.4.2. Resistividad
Otro factor de mérito de los óxidos conductores transparentes, y en este caso del
ITO, es su gran capacidad conductora de la electricidad, o dicho de otra manera, su baja
resistividad. Un material conductor eléctrico al estar en contacto con un cuerpo cargado
eléctricamente es capaz de transmitir esta electricidad por toda su superficie. Los mejores
materiales conductores son los metales porque tienen electrones débilmente ligados, de
esta forma es más fácil que se desplacen contribuyendo al transporte de corriente; aunque
también pueden haber otros conductores no metálicos, que sean conductores pese a que
sea más difícil liberar a los electrones y por lo tanto tengan una mayor resistividad. El
movimiento de estos electrones libres es el responsable del flujo de la corriente eléctrica. El
desplazamiento de los electrones se puede deber a la presencia de un campo eléctrico o por
diferencia de temperatura.
La resistividad mide el grado de dificultad que encuentran los electrones libres para
desplazarse. Su valor ayuda a saber el comportamiento de un material frente al paso de
corriente eléctrica, y por lo tanto; si un material tiene un valor alto de resistividad, éste es
mal conductor; en cambio, si un determinado material muestra una baja resistividad
significará que es un buen conductor. La resistividad es definida por la letra griega rho ( ρ )
y la unidad con la que se mide en el SI es ohm por metro ( Ω·m ). Esta capacidad se
formula de la siguiente manera:
E
=
J
Donde 'ρ' es la resistividad ; 'E', la magnitud del campo eléctrico; y 'J', la magnitud
de la densidad eléctrica.
Aunque también se puede definir de esta otra manera:
A
= R ·
l
Donde 'ρ' es la resistividad en Ohms por metro ( Ω·m ); 'R', la resistencia de la
muestra del material en Ohms ( Ω ); 'A', el área de la muestra del material en metros
cuadrados ( m2 ); y 'l', la longitud de la muestra del material en metros ( m ).
Por último, hay otra forma de definir la resistividad utilizando su inversa, la

conductividad (σ):
1
=

Donde 'ρ' es la resitividad en Ohms por metro ( Ω·m ) y 'σ', la conductividad en
Siemens entre metro ( S/m ).
29
En capas finas, la resistividad se encuentra utilizando un concepto nuevo: la

resistencia de capa ( 'sheet resistance' ). La resistencia de capa es la medida de resistencia
utilizadas en las capas finas con un grosor uniforme. La utilidad de este concepto es que se
puede conseguir su valor directamente con una prueba llamada medida de cuatro puntas.
La resistencia de capa, que se aplica en sistemas bidimensionales ( las capas finas se

consideran bidimensionales ), equivale a la resistividad usada en sistemas
tridimensionales.
En un conductor en 2 dimensiones la resistencia de capa seria:

R =
s t
Donde 'Rs ' es la resistencia de capa en Ohms ( Ω ); 'ρ', la resitividad en Ohms por
metro ( Ω·m ); y 't', el grosor de la muestra en metros ( m ).
En un conductor en 3 dimensiones, la resistencia se puede describir como:
l l  l l
R= = = =R
S Wt t W sW
Donde 'R' es la resistencia en Ohms ( Ω ); 'ρ', la resitividad en Ohms por metro
( Ω·m ); 'l', la longitud de la muestra del material en metros ( m ), 'S', la sección del
material en metros cuadrados ( m2 ); 'W', la anchura del material en metro ( m ); 't', el
grosor del material en metros ( m ); y, por último, 'Rs' es la resistencia de capa en Ohms
(Ω ).
Por tanto, conociendo como se calcula la resistencia de capa y sabiendo que con la
prueba de 4 puntas se consigue, podemos averiguar la resistividad del material:
= R t
s
Donde 'ρ' es la resitividad en Ohms por metro ( Ω·m ); 'Rs', la resistencia de capa en
Ohms ( Ω ); y 't', el grosor del material en metros ( m ).
Para conseguir el valor de la resistencia de capa se utiliza la medida de 4 puntas. La

medida con cuatro terminales (4T) es una técnica utilizada en la medición y calibración de
la impedancia eléctrica. Esta técnica utiliza un par de electrodos para la medición de la
tensión y un segundo par dedicado a la corriente. La separación de las dos parejas de
electrodos proporcionan una gran precisión.
30
El funcionamiento de este método consiste en hacer circular electrones entre dos

puntos de conexión, creando una caída de tensión en el material medida mediante la Ley
de Ohm:
V = IR
Esta corriente también genera una caída de tensión en el mismo par de cables que
han proporcionado la intensidad ( Fig. 21: cables 1 y 4 ). Para evitar que esta segunda caída
de tensión varíe la medida se disponen otros dos puntos de conexión adyacentes a los
anteriores ( Fig. 21: cables 2 y 3 ). Por tanto, la precisión de la técnica recae en el hecho de
que no fluye corriente en el segundo par de cables, de esta manera el voltaje es
extremadamente bajo.
Fig. 21: Medida de 4 puntas.
Para esta prueba se utiliza un voltímetro ( Fig. 22 ) para medir la caída de tensión y
un amperímetro ( Fig. 23 ) para mostrar la intensidad.
Fig. 23: Amperímetro.

Fig. 22: Voltímetro.
31
5.4.3. Grosor
Al trabajar con capas finas de unas pocas decenas de nanómetros, se necesita un

equipamiento para medir el grosor de la muestra.
Este tipo de mediciones se pueden llevar a cabo con el perfilómetro ( Fig. 24 ).
Fig. 24: Perfilómetro.
El perfilómetro dispone de una aguja móvil que se pone en contacto con la muestra.
Esta punta recorre la superficie del material aplicando una fuerza constante; y al estar
automatizada, se puede determinar los desplazamientos verticales de la aguja que ha
sufrido durante el recorrido y visualizar en la pantalla el perfil los cambios en el espesor
( Fig. 25 ). La resolución obtenida es de 5 ångströms ( 5 ångström = 5 Å = 0,5 nm )
Fig. 25: Estructura del perfilómetro.
32
6. TRABAJO EXPERIMENTAL
El día 22 de Diciembre de 2009 realicé la parte experimental de este trabajo, gracias

a Ramón Alcubilla conseguí contactar con Gema Lopez, que me enseñó las instalaciones
donde trabajan, la Sala Blanca, y me dejó presenciar dos depósitos de ITO.
Me dirigí aquel día a la Universitat Politécnica de Catalunya ( 'UPC' ),

concretamente al Campus Norte, edificio C5 y específicamente al sótano 103, donde se
ubica la Sala Blanca ( Fig. 26 ).
Fig. 26: Edicio C5 del Campus Norte de la

UPC.
Al entrar en la Sala Blanca ves un largo pasillo con gran cantidad de posters y
cuadros dedicados a la nanotecnología, también se ven escritorios y varias ventanas que
dejan ver las salas interiores de la Sala Blanca ( Fig. 27 ).
Fig. 27: A la izquierda se ven

escritorios y máquinas. A la
derecha se ve la pared con los
pósters. En el fondo está la
puerta por la cuál entré.
33
6.1. La Sala Blanca

Por fin llega el momento de entrar a lo que es la Sala Blanca en sí misma. Lo
primero que hay que hacer es ponerse un atuendo más en concordancia: un mono azul,
unas botas especiales azules tambíen, un par de guantes, un gorro azul y por último una
mascarilla de protección. El vestidor es consiste en un par de estanterías metálicas, dos
barras donde se cuelgan los monos, y un banco ( Fig. 28 ). Estas vestimentas se han de
poner para cubrir la ropa que traemos del exterior impregnada de partículas que podrían
corromper las muestras.
Fig. 28: Vestidor.
Después de vestirse se lleva a cabo una ducha de aire para, definitivamente, extraer
todas las impurezas que portemos que puedan estropear los materiales que utilicemos.
Esta ducha de aire se hace en una sala contigua al vestidor ( Fig. 29 ).
Fig. 29: Ducha de aire.
34
Lo siguiente que te encuentras al salir de la ducha de aire es un pasillo

completamente blanco, paralelo al primer pasillo, y que comunica con todas las salas de la
Sala Blanca ( Fig. 30 ). En cierta manera este lugar da impresión, ves todo blanco y todas
las puertas cerradas, parece un lugar importante. Otro elemento a remarcar es que toda la
Sala Blanca está a una presión atmosférica ligeramente superior que el exterior, de esta
manera al abrir las puertas, siempre hacia delante, se crea una diferencia de presión con el
exterior que al intentar igualarse extrae todas las posible partículas de polvo que haya en
dicha sala.
Fig. 30: Pasillo interior de la

Sala Blanca visto desde la Sala
de Hornos.
6.1.1. La Sala de Hornos
En esta sala se preparan los diferentes materiales utilizados en la Sala Blanca. En

ella hay un banco químico, una ducha de emergencia ( Fig. 31 ) y, por supuesto, 8 hornos
( Fig. 32 ).
Fig. 31: Ducha de emergencia.
35
Fig. 32: Hornos.
En la figura 32 se pueden ver 5 de los 6 hornos que funcionan. La función de cada

horno es la siguiente:
• Horno I: se utiliza para conseguir oxidaciones limpias y puras, se trabaja a unos

1100 ºC.
• Horno II: se utiliza para calentar las obleas ( capas finas de material semiconductor
y sobre ellas se construyen microcircuitos ) ( Fig. 33 ).
• Horno III: se utiliza para fundir fósforo a 800-900 ºC.
• Horno IV: se utiliza para conseguir oxidaciones críticas, no se utiliza tanta pureza
como en el primer horno.
• Horno V: se utiliza para fundir boro a 800 ºC.
• Horno VI: sirve para hacer buenos contactos entre metales. Trabaja a unos 400 ºC.
Fig. 33: Oblea.
36
6.1.2. Sala de Fotolitografía
La fotolitografía o litografía óptica se utiliza para la impresión de patrones o

circuitos en las obleas de silicio cristalino. Este método se utiliza mucho en la integración
de circuitos en semiconductores.
El primer paso es crear una máscara o patrón con acetato para hacer pruebas del
diseño del circuito. Cuando ya se está seguro del diseño, la máscara se fabrica en vidrio.
Esta máscara se coloca encima de la oblea y mediante luz ultravioleta se consigue imprimir
el patrón en la oblea.
El silicio cristalino se protege de las luces ultravioletas con óxido de silicio, y sobre
éste una capa de resina que es la que posibilita la impresión ( Fig. 34 ).
Fig. 34: Proceso de fotolitografía: silicio cristalino, azul; óxido de silicio, verde; resina,
amarilla; luz ultravioleta, violeta.
EL proceso es bastante simple:
1. Sobre el silicio cristalino se deposita óxido de silicio, y sobre éste se deposita resina.
Sabiendo la impresión que queremos hacer sobre el cristal de silicio se aplica luz
ultravioleta en la resina.
2. La resina, al ser fotosensible, se elimina; entonces ahora la luz ultravioleta se aplica

al óxido de silicio.
3. Este óxido acaba eliminándose también. Y toca aplicar luz ultravioleta durante un
determinado tiempo, para lograr la impresión.
37
4. Al final se consigue la impresión. Sólo queda eliminar la capa de resina y de óxido

de silicio.
5. Por último queda el silicio cristalino con la impresión listo para limpiar con
ultrasonidos y secarlo en los hornos.
Este proceso se lleva a cabo en una máquina denominada: alineadora ( Fig. 35 ).
Fig. 35: Alineadora.
Como se puede observar en la foto, la sala posee un tono amarillento; esto es debido
a que los materiales utilizados en esta sala son fotosensibles, por tanto, se debe utilizar una
luz que no dañar los materiales.
La sala también está equipada con un banco químico para preparar las resinas y
después depositarlas ( Fig. 36 ).
Fig. 36: Lugar de

deposición de la resina.
38
6.1.3. Sala de Caracterización
Esta sala contiene una variedad de aparatos que permiten determinar las
características de cada muestra. Tienen un perfilómetro para medir el grosor de los
depósitos; poseen un elipsómetro ( Fig. 37 ) que determina el índice de refracción del
material; también hay un simulador solar ( Fig. 38 ) para saber el tiempo de vida de los
electrones y así valorar la eficiencia de la célula solar; y por último tienen un medidor de
resistencia de cuadro ( Fig. 39 ).
Fig. 37: Elipsómetro.
Fig. 39: Medidor de resistencia de cuadro.
Fig. 38: Simulador solar.
39
6.1.4. Sala de Deposición
En esta sala tienen lugar las deposiciones de los materiales a nanoescala. Disponen
de varios mecanismos para realizar estas deposiciones:
• EB-PVD: este sistema, como ya he comentado en un apartado anterior, consiste en

utilizar filamentos de tungsteno a los cuales se les aplica un voltaje para 'disparar'
electrones hacia el target ( material a depositar colocado en pequeñas cazuelas). La
trayectoria de los electrones se define mediante campos magnéticos ( Fig. 40 ).
Estos electrones al impactar con el target lo calientan provocando la evaporación del
material y su futura condensación en el sustrato situado en la parte superior.
Fig. 40: Elementos del sistema EB-PVD.
• Efecto Joule: este sistema consiste en fabricar una resistencia con el material a
depositar, posteriormente se hace circular una intensidad determinadad y con el
calor originado se evapora dicho material depositándose en un sustrato superior
( Fig. 41 ).
Fig. 41: Funcionamiento del sistema Efecto Joule.
40
Estos dos sistemas estan situados dentro de una misma máquina ( Fig. 42 y 43 ).
Fig. 43: EB-PVD / Efecto Joule ( interior ).
Fig. 42: EB-PVD / Efecto Joule

( exterior ).
• PCVD ( Plasma Chemical Vapor Deposition ) : este sistema es antiguo y ya no lo

utilizan en la Sala Blanca. Está basado en la interacción y reacciones entre diversos
gases que se introducen en la cámara ( Fig. 44 ).
Fig. 44: PCVD.
41
• Sputtering: este sistema consiste en introducir Argón en la cámara al vacío. El

sustrato y el target están polarizados positivamente y negativamente,
respectivamente, creando un flujo de electrones. El Argón y los electrones, junto
fotones y átomos del target, generan un plasma. El target atrae los cationes de
Argón, desprendiéndose así aniones del target, que son atraídos por el sustrato,
depositándose. La polarización del target y el sustrato puede ser continua ( Sistema
DC ) o alternada ( Sistema RF ).
En la Sala de Deposición disponen de dos aparatos que realizan el sputtering, la

diferencia entre ambos es la colocación del target y del sustrato ( Fig. 45 y 46 ).
Fig. 46: Sputtering con el sustrato

Fig. 45: Sputtering con el arriba y los target abajo.
sustrato abajo y los target
arriba.
6.2. Deposición de ITO
El trabajo experimental de este 'Treball de Recerca' consiste en la deposición de dos

muestras de ITO. La principal diferencia entre estas dos muestras será el tiempo de
deposición, lo cuál determinará las características de cada muestra: transmitancia,
resistividad y grosor. Las deposiciones se realizarán mediante sputtering ( Fig. 47 ). A
continuación detallaré el procedimiento a seguir para las deposiciones.
Fig. 47: Sputtering.
42
En primer lugar se procede a abrir la entrada de agua para la refrigeración del

interior del aparato. Las entradas de Argón y Nitrógeno también se abren. Posteriormente
se enciende la máquina y hay que colocarse la mascarilla porque al abrir la cámara pueden
quedar partículas de metales que son muy peligrosas si las inhalas. Al abrir la cámara se
pueden diferenciar el sustrato ( Fig. 48 ) que está en la tapa, y los targets ( Fig. 49) que se
encuentran en el interior de la cámara cilíndrica con los shutters encima para protegerlos.
Fig. 48: Sustrato. Fig. 49: Targets con shutters.
La cámara cilíndrica está envuelta con papel de aluminio porque de esta manera se
consigue una limpieza más rápida, se quita el papel utilizado, y se coloca otro nuevo.
El siguiente procedimiento es la preparación del sustrato, para ello se desatornilla

de la tapa del sputtering y se lleva a la mesa. El sustrato dispone de varios anclajes para
colocar los portaobjetos. Al portaobjetos que se va a utilizar se le coloca un cubreobjetos
que servirá para determinar el grosor ( Fig. 50 ).
Fig. 50: Método para analizar grosor.
El escalón que crea el cubreobjetos es el que utilizará el perfilómetro para darnos el

valor del grosor de la muestra.
El portaobjetos se puede colocar en varios sitios del sustrato, cada lugar nos dará un
grosor determinado para el tiempo de deposición. Para las dos muestras utilizaremos el
mismo lugar.
43
Después de colocar el portaobjetos, se atornilla el sustrato a la tapa del sputtering,

se comprueba que este gire libremente, y se cierra la cámara. El siguiente paso es conseguir
un vacío importante en la cámara, se realizará con dos bombas: una mecánica ( Fig. 51 ) y
otra turbo ( Fig. 52 ); con la bomba mecánica conseguiremos un pre-vacío de 1 · 10 -1 mbar.,
con la bomba turbo se conseguirá el vacío final de 4 · 10-3 mbar.; este proceso dura 90
minutos.
Fig. 51: Bomba Fig. 52: Bomba turbo.

mecánica.
Conseguido el vacío en la cámara, procederemos a introducir el Argón ( Fig. 53 ),

una cantidad de 10 sccm ( sccm: standard cubic centimeters per minute o centímetros
cúbicos por minuto estándares, medida utilizada para el flujo de gas. ). Se enciende la
rotación del sustrato y, a continuación, se enciende la radiofrecuencia ( RF ) para así
producir el plasma ( Fig. 54 ); con el RF regulas la potencia aplicada: la directa y la refleja.
La potencia aplicada directa ( FWDP ) es la potencia que se aplica dentro de la cámara y se
comienza con valores pequeños ( 30 W ) y poco a poco se sube hasta los 100 W que
utilizaremos. La potencia aplicada refleja ( PREF ) es la potencia que rebota y vuelve al
generador, esta potencia debe ser muy baja porque sino podría estropear el aparato, no
debe pasar los 2 W; si pasará de los 2 W se tendrían que modificar los valores de las
impedancias manualmente hasta que bajara.
Fig. 53: Controlador de flujo: Fig, 54: Generador RF.

Nitrógeno, Argón, Hidrógeno y
Oxígeno.
44
A través del ojo de buey de la cámara se puede apreciar la aparición de luz violeta
dentro de la cámara, esto denota la presencia del plasma ( Fig. 55 ).
Fig. 55: Sputtering con el ojo de buey de color

violeta.
Ahora se quita el shutter que tapa el material y se cronometra el tiempo de

deposición: 6 minutos en la primera muestra y 15 minutos en la segunda, por separado,
claro está.
Cuando se ha sobrepasado el tiempo de deposición lo primero que se hace es apagar

el RF y así desaparece el plasma, se bloquea la entrada de Argón, se para la bomba turbo y
se detiene la rotación del sustrato. A continuación se introduce Nitrógeno en la cámara
para romper el vacío y se procede a abrir la cámara. Eso sí, antes de levantar la tapa se ha
de colocar uno la mascarilla para evitar riesgos. Ahora ya se puede extraer el portaobjetos
con el ITO depositado.
Las dos muestras de ITO se diferencian a simple vista por el color, cuánto más
oscuro sea el color, más tiempo ha estado en deposición. Por tanto, la muestra de ITO que
ha estado 6' tiene un color amarillento ( Fig. 56 ) y la muestra de ITO que ha estado 15'
tiene un color más ocre ( Fig. 57 ).
45
Fig. 56: Muesta de ITO de 6' colocado en el

sustrato.
Fig. 57: Muestra de ITO de 15'
Y, por último, voy a ilustraros la situación que viví: lugar, vestimenta y el sputtering
a mi lado ( Fig. 58 ).
Fig. 58: En la Sala Blanca, al lado del

sputtering.
46
6.3. Etapa de caracterización
El siguiente paso sería medir las características de las muestras de ITO; por varios
motivos sólo se pudo determinar la resistencia de cuadro. La resistividad se podría saber si
se tuviera el valor del grosor de las dos muestras.
Como ya he explicado con anterioridad, para conocer la resistencia de cuadro de una

capa fina se utiliza el método de 4 puntas que, en este caso, las puntas son equidistantes.
Se procede a colocar la muestra en contacto con las 4 puntas y se hace pasar una corriente
de 1 mA., entonces el aparato te muestra la caída de tensión. Con estos dos valores se
puede determinar la resistencia de cuadro.
V
R =4 ' 53 ·
s I
El valor 4'53 es un coeficiente que te da el fabricante del aparato por la separación
de las puntas, que en este caso son equidistantes.
Al conocer la resistencia de cuadro, se podría dar valor a la resistividad si supiéramos el

espesor de la muestra.
= R · Grosor
s
A continuación, mostraré una tabla con los valores obtenidos:
Muestra Tiempo de Voltaje Intensidad Resistencia

deposición de cuadro
1 6 minutos 1'12 mV 1 mA 5'07 Ω
2 15 minutos 6'8 mV 1 mA 30'8 Ω
Como se puede observar, al doblar, aproximadamente, el tiempo de deposición, la

resistencia de cuadro es seis veces mayor. Con esto se puede observar la relevancia del
tiempo de deposición respecto las características finales de las muestras. Porque a tan
ínfimo tamaño las cosas cambian muy fácilmente, se debe ser muy estricto con las
medidas, tiempos, etc.
47
Para determinar el grosor de las dos muestras de ITO se utiliza un perfilómetro

( Fig. 59 ), que, como ya he explicado anteriormente, consiste en una punta muy fina ( 12'5
micrómetros ) que se coloca encima de la muestra y se va arrastrando por el material; en
este momento cobrá importancia el escalón creado cuando se hizo la deposición, este
escalón servirá para medir el grosor.
Fig. 59: Perfilómetro.
La muestra de ITO de 6' de deposición es la primera a someterse a la medida. Se

coloca el portaobjetos en la base circular, debajo de la punta; mediante dos ruedecillas se
calibra la posición del portaobjetos para que el barrido realizado por la punta coja el
escalón. La calibración se realiza mejor mirando la pantalla del ordenador donde se ve la
situación de la punta y el portaobjetos ( Fig. 60 ) gracias a la cámara que lleva incorporado
el perfilómetro. En el ordenador está instalado el software de manejo del aparato.
Fig. 60: Situación de la punta del perfilómetro en la

muestra ( silueta negra ). En color gris se ve el vidrio del
portaobjetos y el color ocre es el ITO.
48
Después de tener bien posicionada la muestra se procede a bajar la punta; en el

momento que entra en contacto con la muestra, el mecanismo de bajada se para y la punta
se eleva ligeramente. Ahora hay que determinar unas variables de medición: la longitud del
barrido y el tiempo en que se realiza: 1.000 micrómetros y 40 segundos, respectivamente.
Una vez acabado, se procede al barrido. Al pasar los 40 segundos se genera una gráfica, lo
que hay que hacer ahora es escoger un sistema de referencia para medir el grosor, y esta
referencia será el vidrio: la parte de la gráfica del principio se escoge con el eje X, se
reconfigura la gráfica y ahora se muestra el escalón ( Fig. 61 ).
Fig. 61: Gráfica del grosor de ITO ( 6' ).
Ahora con la franja roja se coge un rango del vidrio del portaobjetos, donde hará
una media de grosor; y la franja verde acoge un rango del ITO ( 6' ), donde también hará la
media de grosor. La diferencia entre estas dos medias será el grosor. En este caso el grosor
varia entre 60-70 nm, para calcular la resistividad cogeré un valor intermedio, 65 nm.
Una vez acabada la medida se retira el portaobjetos y se coloca la otra muestra de

ITO ( 15' ). Se hace el mismo procedimiento y la gráfica generada es esta ( Fig. 62 ):
49
Fig. 62: Gráfica del grosor de ITO ( 15' ).
El grosor en este caso varia entre 260-270 nm y para medir la resistividad cogeré un
valor de 265 nm.
La curba que se aprecia entre la franja del vidrio y la franja del ITO, en ambos casos,
es el escalón formado, tiene esta forma porque la punta al entrar en contacto con el
escalón, se inclina levemente rozando la pared del escalón.
Con estas medidas ya se puede calcular la resistividad, que había quedado

pendiente:
= R · Grosor
s
Y solamente queda hacer las sustituciones pertinentes en ambas muestras de ITO.
Muestra Tiempo de Resitencia Grosor Resistividad

deposición de cuadro
1 6 minutos 5'07 Ω 65 nm 3'3 · 10-7 Ω·m
2 15 minutos 30'8 Ω 265 nm 8'16 · 10-6 Ω·m
50
7. CONCLUSIONES
Gracias a este trabajo he llegado a muchas conclusiones, y no todas tienen que

referirse al tema central del trabajo. Una de las conclusiones principales es la dificultad de
realizar un trabajo como este, nunca había tenido la responsabilidad de crear un trabajo de
este calibre, y menos solo; por ello el 'Treball de Recerca' te proporciona una forma de
aprender diferente, una nueva experiencia que vendrá muy bien como base para futuros
trabajos parecidos. La constancia es de vital importancia en estos trabajos, esto no se hace
en un día ni en dos, he necesitado muchos meses para acabarlo. Saber buscarse la vida
para encontrar la información detallada, moverse hacía lugares que te ayudarán en tu
trabajo, en mi caso, por ejemplo, ir a la Universitat Politécnica de Barcelona; es algo que
ayuda a formarse y ser más independiente. También hay que decir que he recibido gran
ayuda por diferentes personas, no lo he hecho totalmente solo el trabajo.
En relación al tema central del trabajo he desarrollado el mundo de la

nanotecnología y he aprendido gran cantidad de cosas y de que forma puede llegar a
ayudarnos en el futuro; y, sinceramente, creo que dentro de poco habrá un gran 'boom' con
la nanotecnología, igual que lo hubo con el silicio en los chips o el mismo Internet, que
mejorará de gran manera todo nuestro alrededor. Y seguro que el ITO tendrá mucho que
ver en esta revolución porque este material puede llegar a mejorar una inmensidad de
objetos: desde televisiones con mejor calidad hasta incrementar la eficiencia de las células
solares, lo cuál conllevaría un aumento de uso de la energía fotovoltaica apostando por
energías renovables, desbancado de cierta manera las energías que están provocando el
cambio climático.
Las conclusiones que he alcanzado con el estudio específico del ITO son muy
satisfactorias. Me he dado cuenta de la gran importancia de este material y las increíbles
características que tiene: una baja resistividad y transparente. La resistividad depende
profundamente del tiempo de deposición del material, como ya se ha visto en los
resultados: la muestra de 6' tiene una resistividad de 3'3 · 10-7 Ω·m, y la muestra de 15'
tiene una resistividad de 8'16 · 10-6 Ω·m; esta es una gran diferencia a tan pequeña escala.
También se que es un material en desarrollo y, por tanto, todavía quedan muchas

aplicaciones por investigar que podrían ser de gran ayuda y mejorar aspectos actuales.
En lo que respecta el trabajo en laboratorio estoy muy contento porque me ha

servido como experiencia muy motivadora para mi futuro.
Por último, una de las conclusiones más importantes que he extraído fue de la visita
a la Sala Blanca, en el trabajo experimental, donde me dí cuenta de la paciencia que hay
que tener con los procesos de fabricación y diseño porque hay gran cantidad de variables y
de valores muy pequeños, que pueden variar y modificar las muestras.
51
8. AGRADECIMIENTOS
En primer lugar dar las gracias a mi familia por el apoyo y especialmente a mi padre
que ha sido quien me ha llevado en coche a la UPC siempre que tenía una visita
programada.
También agradecer a Rafael Lamuedra, profesor del Departamento de Tecnología

del I.E.S. Badalona VII, por tutorizar el trabajo y sobretodo por dejarme escoger un tema
fuera de los que se planteaban dentro del departamento; también por el seguimiento y
correcciones del trabajo. Por supuesto darle las gracias por ponerme en contacto con
personas especializadas en el tema, que me han sido de gran ayuda.
Ramón Alcubilla, director del CRNE ( 'Centre for Research in Nano Engineering' )
de la UPC, me organizó y estructuró dentro del gran mundo que es la nanotecnología
dándome a elegir varios temas con una posible práctica experimental; y a lo largo de los
meses de trabajo me ha sido de gran ayuda en lo que se refiere a correcciones técnicas.
También me presentó a Gema Lopez, con quien realizaría el trabajo experimental. Por todo
esto me siento muy agradecido.
Darles las gracias a Germán Sáez, subdirector de promoción Telecom BCN

(ETSETB) de la UPC, que fue quien me enseñó las instalaciones de la UPC por primera vez:
las diferentes clases y lugares, y sobretodo, la Sala Blanca.
Y por último, estoy muy agradecido con Gema Lopez por la forma que me trató el
día de la práctica experimental. Me explicó todo con mucho detalle y me proporcionó
mucha información. Y, principalmente, por permitirme asistir a la deposición de ITO y
entregarme las muestras materiales con las que mejorar mi trabajo.
52
9. BIBLIOGRAFÍA
LIBRO:
– BOOKER, Richard; BOYSEN, Earl: Nanotechnology for dummies. Indianapolis,

Indiana: Wiley Publishing, Inc., 2005. 361 p. ISBN 0 – 7645 – 8368 – 9.
RECURSOS DE INTERNET:
– http://www.nanotecnologica.com
– http://www.foresight.org
– http://www.nanospain.org
– http://www.nano.gov
– http://cordis.europa.eu/nanotechnology
– http://es.wikipedia.org
– http://en.wikipedia.org
– http://it.wikipedia.org
– http://fr.wikipedia.org
– http://translate.google.com
– http://images.google.com
– http://commons.wikimedia.org
ARCHIVOS SUBIDOS A SCRIBD.COM ( usuario: david_hurtado ):
– Treball de Recerca ( versión final )
– Financiación mundial en Nanotecnología ( archivo PDF )
– Financiación mundial en Nanotecnología ( archivo EXCEL )
53
54

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UN MUNDO

Autor: David Hurtado Martínez

“ There's plenty of room at the bottom”

Richard Phillips Feynman

5. ITO ( Indium Tin Oxide ) 18

Un buen día descubrí la Nanotecnología; no sé porqué razón, desde el primer

Este 'Treball de Recerca' me ayudará a adentrarme superficialmente en el

Al ser este nanocampo tan inmenso, estudiaré más a fondo un determinado

Con el trabajo experimental que realizaré intentaré comparar las consecuencias de

Fig. 1: Comparativa de tamaños.

1. La nanotecnología envuelve la búsqueda y el desarrollo de tecnología en un rango de

2. La nanotecnología crea y usa estructuras que tienen nuevas propiedades debido a

3. La nanotecnología se basa en la capacidad de controlar o manipular a escala

3.2. Las aplicaciones

• El enfoque 'top-down' es similar al de un artista esculpiendo en un bloque de

• El enfoque 'bottom-up' consiste en fabricar un producto átomo a átomo o

El 'top-down' es el enfoque más utilizado porque tiende a proveernos de un mayor

Fig. 2: Richard Feynman en el Caltech.

Fig. 3: Buckyball. Fig. 4: Cúpula geodésica ( Màgic Badalona ).

3.4. Por qué es necesaria?

• Diagnósticos: los hospitales se beneficiaran de la Nanotecnología con

• Nuevos fármacos: la Nanotecnología ayudará a repartir la justa proporción de

• Energía: la Nanotecnología podrá proporcionar nuevos métodos para utilizar los

• Agua: la Nanotecnología ofrecerá técnicas de depuración del agua más eficientes,

• Transistores: se está estudiando la viabilidad de la utilización de transistores de un

• Materiales: los nanotubos de carbono ( Fig. 5 ) permitirán fabricar materiales con

• Electrónica molecular: utiliza moléculas orgánicas como conductor eléctrico. Este

Fig. 5: Nanotubos de carbono.

La bionanotecnología es la rama de la tecnología que trata de aprovechar el

Ejemplos de bionanotecnología son el uso de modificaciones artificiales de la

• Materiales ligeros superiores: se crearan materiales 10 veces más fuertes que el

• Informática avanzada: ordenadores más potentes y pequeños encriptarán nuestros

Fig. 7: Chip cuántico.

• Mayor conocimiento situacional: los sensores químicos serán más sensibles,

• Potentes municiones: los nanometales son químicamente más reactivos por su

3.4.6. Otras aplicaciones

• Almacenamiento, producción y conversión de energía.

• Remediación de la contaminación atmosférica.

• Detección y control de plagas.

• Control de desnutrición en lugares pobres

• Cambios térmicos moleculares ( Nanotermología )

La nanociencia no está exenta de leyes y principios. No seremos capaces de trabajar

3.5.1. Lo que tenemos

Las nanoaplicaciones ya están mostrándose en diversas áreas como la informática,

• Los sensores de los airbags, aunque todavía están en microescala, se están

3.5.2. Lo que mejorará

Además de introducir nuevos productos y procedimientos, la Nanotecnología hará

• La vida útil de las baterías serán mayor.

• GPS más pequeños y más precisos.

• Ordenadores más rápidos y pequeños.

• Será posible almacenar más cantidad de memoria en menos espacio y usando

• Los análisis de ADN serán más precisos y rápidos.

• Aditivos para combustibles que sacarán más provecho de ellos.

• Nuevos diagnósticos médicos.

La Nanotecnología promete ser un mundo increíble: mejorando nuestra salud,

3.5.4. Lo que no sucederá

La ciencia ficción ha creado un mundo donde una multitud de robots de tamaño

Este entusiasmo de la ciencia ficción por la Nanotecnología comenzó en 1986

Fig. 9: Grey goo.

3.6. Nanotecnología en el mundo

Fig. 10: Financiación mundial en Nanotecnología en millones de € ( año 2004 ).

3.7. Nueva Revolución Industrial

Un óxido es un compuesto químico que se compone de uno o varios átomos de