You are on page 1of 34

Fulleren ve nanotplerin

kefinden sonra ,nano kimyadaki karbonun nemi artmtr.Bu yzden bu elementler grup olarak ayr bir blmde incelenmilerdir.

Bunun yannda silikon


paracklar da ele alnacaktr

karbonlu atomdan yaplan

partikl ve su arasndaki reaksiyon ,matriks izolasyon metodu kullanlarak 10Kda gzlemlenmitir. Ik etkisi altnda bu reaksiyom srdrlmtr:

Sonu olarak hidroksiasetenil


kabon elde edilmitir

Matrikslerde karbon buharnn ,karbon monoksit


ile etkileimi sonucu EPR teknii yardm ile C4O ve C6O retilmitir.Bunlar ldrler. dentifikasyonlar,C ve O atomlarnn iaretlenmesini gerektirir.Tahminen bu molekller lineer yapya sahirtirler.C4O ve C6O molekllerinin sadece proteoliz srasnda olutuu bulunmutur. r: sadece excited C3 moleklleri CO veC3O ile reaksiyon verir.

Not edilmelidir ki,siklik formdan lineer forma gei;9 yada 10 atom


ierikli partikllerde ortaya kabilmektedir.Karbon tutamlar boyunca ,silikon tutamlar sentezlenmektedir.Sin+ tutamlar,amonyumun kemisorbsiyonu iin gelitirilmitir.(3 sra byklk hzna sahiptir.) n=21,25,33,39 ve 45 olan silikon partiklleri az aktiftirler.

Dier taraftan Si43 en yksek aktiviteye sahiptir.Baz tutamlarn

deiik yapsal izomerler oluturduu varsaylmaktadr.Si39 ve Si45in dk aktiviteleri,kararl kristallin yaplar ile assosiye edilmitir.Oda scaklnda hemen hemen tm tutamlar arpma hzna yakn bir hzda reaksiyona girmilerdir.400Kde denge salanmtr ve molekler adsorbsiyonu gsteren amonyum balama enerjisi 1ev olarak bulunmutur.Ykseltilmi scaklklarda ,dissosiye adsorbsiyon ortaya kmtr.700 K de amonyum tutamlarnn iyonlara balanmasnn,kompakt silikonlara gre daha kk olduu bir gerektir.

Gaz faznda ,su ile Sin+(n=10-65)silikon tutamlarnn

reaksiyonu Sin(D2O)m+ serisinin adksiyonu ile sonulanmtr.40 atomdan daha azna sahip olan silikon tutamlarnn reaksiyon yetenekleri geni eitlilikle gzlemlenmitir.n=11,13,14,19 ve 23 Sin+ tutamlar dk reaktivite gstermilerdir.
sonucu da incelenmitir.Oksijen ile reaksiyon sonucunda,kk tutamlar Sin-2 ve silikonun iki ek molekln rn olarak vermitir.Byk tutamlar ise SinO2+ gibi adksiyonlar oluturmulardr.

Benzer sonular ,oksijenin Sin+ tutamlar ile reaksiyonu

Kompakt silikonla kyaslanan tutamlarn dk


aktivitesi,muhtemelen ,kompakt silikonlardaki fazla aktif blge varlndandr.Bu demektir ki,tutamlar izole edilmi birka ba ieren kapal paketli yaplardr ve bu yaplarn ou ,kompakt silikondan fazla kapal nkleuslara benzemektedirler.

Bu zellikler,silikon tutamlarnn fullerenlere

benzemesine olanak salamtr.Mmkndr ki,sadece C ve Si ,ou elemente zt olarak ilgin davran gstermektedir.Kompakt elementlerin yzeyleri ile kyaslaynca tutamlarn aktivitesi daha dktr.

1980lerin ortalarnda

kefedilmilerdir ve gnmzde daha byk bir neme sahip olmulardr.ok fazla sayda kitap ve dergi fullerene yer vermitir.60 C atomuna sahip fulleren klasik olarak adlandrlr.Bu kresel yapya sahiptir.6 yeli halkalar ve 5 yeli emberlerle birbirlerine baldrlar.

ok fizikokimyasal
detaya inmeden ,fullerenlerin sadece gerek baz kimyasal davran rnekleri incelenmitir

Karbonun yapay allotroplar olan Fullerenler, grafit benzeri yaplara sahiptir fakat grafit gibi saf altgen deil, ayn zamanda begen ve hatta bazan yedigen kristaller de ierir. Bu yap, altgen kristallerden oluan ana dzlemin kvrlarak kreler, elipsoidler ve silindirler oluturmasna yol aar. Fullerenlerin yaplar ve zellikleri nanomalzemeler alannda dev bir aratrma konusudur

Oda scaklnda ,C40 ve


C80 fullerenler,nitrojen oksit,oksijen ve slfr oksit gibi aktif molekllerle reaksiyon vermezler.Bununla birlikte,eitli fullerenlerle gerekletirilen kimyasal reaksiyonlar ortaya kartlmtr. Yan tarafta ise C60 fulleren rnei grlmektedir.

En basit hidrojenli fulleren molekl,C60H2,olarak

belirlenmi ve karakterize edilmitir.Fullerenlerin halojen trevleri sentezlenmitir.Flourinin direk eklenmesi ile ,C0Fx ve C70Fy seri bileikleri(x kk eit 48 ve ykk eit 56 dr.)elde edilmitir.Fullerenlerin flourinasyonlar analizlenmi daha sonra ise klorinasyon ve brominasyonlarna devam edilmitir.Klorinasyon tpler ierisinde scakln 250 dereceye ykseltilmisi ile gerekletirilmitir.Kurala gre,24 klorin atomu eklenmitir.400 derecede ,poliklorfullerenler orijinal fullerenlere deklorinlenmitir.Fulleren iindeki klorin onun yerine geebilmiktedir.rnek olarak aadaki reaksiyon gsterilebilir.

Fullerenin kimyas geni ve kapsamldr.Bu yzden biz

burada sadece baz alardan fullerene deineceiz.C60n polimere bileen olarak girmesi kovalent balarla gerekleir.Bu olay xylylene i biradical ile reaksiyondur.Sonu polimer znmezdir ve xylylene/C60 oran yap olarak 3:4:1 e sahiptir.C60 ve C70 fullerenlerinin dimerlerinin yksek seimlilikte sentezi ntron nlarnda baarlmtr.Elde edilen bileikler kromotografi ktle spektrometrisinde analizlenmitir.

Metal partikllerin fullerenlere kaynamas


uygulamalarna balanmtr. M@Cn gibi fulleren iindeki metal atomlara ve MCn gibi eksternal metal atomlar iin zel sembollerin bulunmas amalanmtr.Bu tip maddelerin sentezi ,lanthanum tuzlar ve grafitin lazer evaporasyonuna baldr.

Yksek scaklkta plazmada ,lanthanum iyonlar


atomlara indirgenmitir ve formasyon esnasnda fulleren kafesleri ile birletirilmilerdir.

Ksmen EPR teknii kullanlarak Sc3@C82 partikl ile allmtr.Bu


partikl inert matrikslerde e olarak bulunan ikizkenar geni ifade etmektedir.Baz metallerle fulleren adksiyonlar sonucunda rnek olarak MxC60 sentezlenmitir.Bu tr molekllere ilgi,ilk bileik KxC60n sper koullar gstermesi ile balamtr.Bu koul Tc=19,3K de gerekletirilmitir.CsxRbyC0 filmleri Tc=33K de sper iletim salamtr.

Bu tr bileiin sper iletiiminin resmi seviyesinin younluk

durumuna gre belirlendii sonu olarak eklenmitir.Bu olayn bir dier yorumu ise CaxC60,SrxC60,K6C60 ve Ca3C60 ile yaplan deneyler ile metalden fullerene elektron transferi ile ilikili olduudur.Fulleren sadece sper iletken bileiklerin sentezinin deil,elastik ve sert olarak bir g yn zellikleri ile prlantay geen fabrikasyon maddeleri sentezi iin temel oluturmaktadr.13Gpa bas ve 1600 derece scaklkta C60 ve C70 fullerenleri superhand maddelerden sentezlenmitir.

Metallerin C60 kafes fullerenlerinin internal boluklarna

insersiyonuna ek olarak ,scakl 650 dereceye ve basnc 3000 atm ye ykseltme koulu ile soy gazlar ve kk molekller fullerenin ierisine yerletirilebilmektedir.Buna ek olarak ,fullerenlere deiik byklkte pencereler amas asndan ak fullerenler kullanlmaktadr. Ak fullerenlerin kullanm helyumun fullerenden k hznn belirlenmesini mmkn klmakla birlikte ,helyumun kaynama-ekstraksiyon denge sabiti ile aktivasyon bariyerini de belirler.Fullerenede kimyasal yolla modifiye edilmi helyum ekstraktnn aktivasyon enerjisi 22,8 kcal/mol olarak bulunmutur.50-60 derecelik scaklk aralnda ,denge sabiti az da olsa scakla baldr.Bu da helyumun giri denge bariyerini ve modifiye fullerenden kurtuluuna iarettir.

Tahminen,aktivasyon enerjisi fullerenin boluk

byklne baldr.DC-arc-discharge iinde La2@C78 bileiinin sentezini 1,2,4,-triklorobenzen ile ekstraksiyonu izlemektedir.Fullerenlerin ,metal partikllerle oyuklar iine konulan M@C82(M=Y,Ca,Ce) karbon kafesleri,fulleren oksidasyon ve redksiyonunda oluan anyon ve katyonlarn kimyasal reaktiflikleri kyaslanmtr.M@C82 partiklleri evaporasyonla hazrlanmtr.Oksidasyon ve redksiyon reaksiyonlar 1,2 diklorobenzende srdrlmtr.Kimyasal aktivite almalarnda , 1,1,2,2,teterakiS(2,4,6,-trimetilfenil)1,2-disiiron reaktif olarak kullanlmtr.

Pozitif ykl fullerenlerin (M@C82)+,disiliran ile

daha kolay reaksiyon verdii gsterilmitir.Oysa (-) ykller (M@C82)- bu reaksiyona giri yapamamaktadr. Reaktivitedeki farkllk,metalfullerenlerin elektrofiliklikleri ile ilikilidir.Bu ise oksidasyon art ve redksiyon dne dikkati ekmektedir.rnein;M@C82nin kimyasal reaktivitesi fullerenin iyonizasyonu ile kontrol edilir.3 tane fulleren pirolidin trevleri,lamelar aluminyum silikon maddelerinin i blmlerinin boluunda yakalanmlardr.

C84 izomeri metal nitride fullerene

Gsterilmitir ki,ntral trevler ,kararl


pozisyonlar retmemek iin killer arasnda solventle birlikte birlemi haldederler.Ykl fullerenlerin birleimi su znrlne oranla daha kolaydr.(-) ykl molekllerin varl ,fullerenlerin elektronik yaplarnda belirgin bir deiime neden olmazlar. C60n zelliklerinin kristal ve zeltiden ayrld yeni hibrit nanokompositler sentezlenmitir.yle farzediliyor ki,ykn llebilir miktar ,konak ve konuk arasnda transfer edilebilmektedir

1. 2. 3. 4. 5.

Karbon Nanotplerinin Sentezi Tplerin Doldurulmas Fonksiyonel Gruplarn Alamas Atomlarn ve Molekllerin ok-duvarl Tplerin ine Eklenmesi Karbon Nanotplerin Uygulamalar

Tek- ve ok-duvarl nanotpler, kesintisiz silindir oluturmas iin


grafin katmanlarnn eritler halinde sarlmas sonucu oluur. Karbon nanotpn i ap 0,4 nmden daha yksek saydaki nmlere kadar deiebilir ve i boluklarna yabanc maddeler girebilirler. Tek-duvarl tpler az miktarda kusurlar ierirlerken; inert atmosferde, yksek scaklklarda tplerin sertletirilmesi kusursuz tplerin elde edilmesine olanak salar. Tpn yapsal tipi, tpn kimyasal, elektronik ve mekanik zelliklerini etkiler.

Temel Nanotplerin retim Yntemleri: Ark Buharlatrma Kesikli Lazer Buharlatrma Kimyasal Buhar Biriktirme Ark Buharlatrma Bu metot hala aktif olarak kullanlmaktadr. Grafitin arc-discharge evaporasyonunda inert gaz geirilerek oluturulmasdr. Bu metot CeO2 ve nanoboyuttaki nikel varlnda, 0,79 nm apa sahip tek-duvarl karbon nanotplerin elde edilmesini salar. Arc metodu; taramal lazer n vastasyla scak frnda hedef grafitin evaporasyonu eklinde gerekleir. Gnmzde, metan, asetilen ve karbon monoksitin katalitik pirolizi kabul gren bir metottur. aplar 20 nmden 60 nmye kadar olan nanotpler Ni-Cr teli zerindeki metan alevinde elde edilir. Benzen ve ferrosen zeltilerinden hazrlanan ve 800-950 Cde gerekleen aerosol pirolizi, 30-130 m uzunluunda ve 10-200 nm i apa sahip ok-duvarl nanotplerin sentezi iin yksek verimlilikteki metoda dner.

Baz uygulamalar 20-100 nm uzunluundaki tpler gerektirir. Ksaltma ve saflatrma iin hazrlanm nanotpler, nitrik asit
ve onun dier oksidantlarla (H2SO4, KMnO4) karmlarnn katlmasyla oluan eitli oksidasyon prosedrleri kullanlr. Kimyasal oksidasyon, tpn ularnda ve ounlukla yan duvarlarnda bulunan farkl oksijen-ieren gruplarnn grnmesine yol aar. Tplerin kesilmesi iin kimyasal oksidasyon kullanldnda, meydana gelen eitli hatalarn ve ilenen materyalin ktlesindeki azalma miktarnn kontrol edilmesi nemlidir. Buna karn, % 96lk H2SO4 ve %30 H2O2 (piranha zeltisi) karmnn 1:4 orannda kullanlmas ile, tpn duvarlarnda herhangi bir hata olmadan oda scaklnda nanotpn kesilmesi mmkndr.

Karbon nanotplerin doldurulmas, tplerin sentezi boyunca


ya da sentezinden sonra tamamlanr. Nanotplerin ular genellikle be- ya da alt-karbon dngleriyle kapanr, be-yeli dngler oksidasyona dayankll daha azdr. Sentezlenen tplerin doldurulmasnda, oksijen, hava, karbon dioksit gibi gaz ajanlar ya da bunlarn sulu zeltileri kullanlarak tplerin ular alabilir. (rnein; seimli oksidasyon yolu). Ayrca, nitrik asit gibi bilinen ajanlarn kullanld asit muamelesi de bu i iin uygundur. Tplerin i bolua C60 ve C70 gibi fullerenlerle doldurulur. Tplerin sentez boyunca doldurulmas iin gerekli en nemli ey tp kanalnn kapanmasn salayan katk maddeleridir. BORON bu tr katk maddelerinden birisidir.

Tplerin i boluklar sv ortam (zellikle; eitli


metallerin erimi oksitleri) ile doldurulabilir. 3 nmden kk i apa sahip tplerde, kristalimsi fazdan ziyade cams faz oluur. Karbon nanotp kanallar iinde birlemi olan cisimler kimyasal reaksiyonlarda grev alabilirler. Oksitlerin termal dekompozisyonu ve redksiyonlar ile, metalieren nanotpler elde edilir ve tpn i boluunda potasyum oksitin slfite transformasyonu gerekleir. Tplerin i boluklar, gaz fazndan yararlanlarak kimyasal kelme ile doldurulabilir (rnein; uucu metal bileikler). Porz AlPO4 iinde hidrokarbonlarn katalitik pirolizi boyunca, nanotpler bataki alma olmadan doldurulabilirler.

Bu tr proseste, tpler asit iinde uzun sreli


muamele ile oluturulabilir, bu da tek-duvarl tp davrannn, bu tplerin sentez metoduna dayal olduunu gsterir. Fonksiyonel gruplar, yaklak 623 Kde stlarak tpn duvarlarndan giderilebilir.

Jet lineer dikroizm (ikirenklilik) metodu (polarize

n farkl absorpsiyonunun jet ynne paralel ve normal yerlemesi), antrasin, naftalin ve DNA molekllerinin karbon nanotpler ile yapsal etkileimlerinin allmas iin kullanlr. Nanotpe paralel ve normal yerleen aromatik molekllerin etkileimlerindeki farklar ortaya karlmtr. Karbon nanotp duvarlarna eklenen fonksiyonel gruplar, AFM (Atomik kuvvet mikroskobu ) problarna belirli fonksiyonlar kazandrmak iin kullanlr. En iyi sonular gazlarda grlr.

(a) X2 gaz atmosferinde, nanotplerden

yaplm titreim probu ile niobium pskrtlm yzeyin taramas; (b) Yzey ve nanotp arasndaki yk boaltm; (c) X ieren nanotpl prob.

Fluorin Eklenmesi (fluorinasyon): Tp duvarlarnn modifikasyonunda aktif olarak


kullanlr. Proses, scakln 325 Ke eit ya da daha dk olduu durumlarda tersinirdir. Fluorinlenmi tpler anhidrz hidrazin ile etkilendiinde, fluorid atomlar hareket eder ve orijinal tp yaps geri kazanlr. Yapnn ksmi iyilemesi aada verilen reaksiyona gre gerekleir:

NOT: 400 Cde ise fluorin eklenmesi geri dnmszdr. Fluorinasyon derecesinin art ile, tp ap ve i tabaka
boluklar atar.

Tek- ve ok-duvarl tpler iin


interkalasyon farkldr. okduvarl tplerde ieri eklenen partikller ayr katmanlar arasnda dzenlenirken, tekduvarl tplerde ise ieri eklenen partikller, demetlerin tp ii boluklarna nfuz eder.

Bu eklemenin ok-duvarl tplerin tp ii boluunda


4K + CCl4 4KCl + C reaksiyon yolunda gerekletii farz edilir, dzenlenen grafin tabakalar balanabilir ve sp2 zinciri sp3 zincirlerine dnebilir. Reaksiyon 200Cde otoklavda gerekleir. Potasyum klorr kristallerinin grafit tabakalar arasndaki dzensizlii, amorfizasyonu ve oluumu incelenmitir. 10 nmden dk d apa sahip nanotpler iin KCl kristallerinin bulunmad gzlenmitir. Nanotp demetleri azotu ok iyi adsorplar. Saflatrlmam ham tplerin i spesifik yzey alan 233 m2/g, d spesifik yzey alan ise 143 m2/gdr. Nanotplerin hidroklorik asit ve nitrik asit ile muamelesi toplam spesifik alann benzen ve metanol ile ilgili adsorbe edebilme yeteneini artrr.

A-) Tpta Karbon Nanotpler Damarlarn karbon nano tplerden yaplmas dnlmekte CNTler ile ila tamada tanm zellikle kanser tedavisinde nano tpler kullanlmas CNTlere fonksiyonel gruplarn balanmas ile doku tamirinde kullanlabilir (Adale yrtlmas) B-) Uzay Asansr CNT Ama Yeryznden dnyann yrngesinde bir blgeye kurulan koloniye hat yapmak. Zamandan ve masraftan tasarruf etmek Problem 100.000 kilometrelik yaklak uzunluk 20 tondan fazla arlkta platforma kurmak

You might also like